198971. lajstromszámú szabadalom • Berendezés hegesztés során alkakmazott anyagok, elsősorban huzalok elektrokémiai tisztítására
1 HU 198971 B 2 kezelendő huzalt átvezető 31 furata van, amely E excentricitással van a 30 hüvelyben kiképezve. A kerámia 23, 24 lapok 29 furataiba helyezett 30 hüvelyek elforgatása révén végrehajtható a 20 plazmatron beállítása, amennyiben a 20 plazmatrón tengelyét a 30 hüvelyek excentrikus 31 furatainak beállításával hozzáigazítjuk a berendezés technológiai hossztengelyéhez. A kerámia 23, 24 lapok négy 32 furatot tartalmaznak, amelyekben 33 csavaros kötőelemek vannak elhelyezve és 34 csavaranyával rögzítve, melyek segítségével a 25 palástövek egyetlen egységgé vannak összefogva. A 20 plazmatronon belül az 1. ábrán látható módon 35 elektródák vannak felszerelve. A bipoláris elektrolitikus kavitációs kezelést végző 4 blokk 19 katódszekciója tetszőleges ismert felépítésű lehet, azonban a bemutatott példában a berendezés gyártásának és összeszerelésének egyszerűsítése érdekében a 19 katódszekciót szerkezetileg hasonlóan ábrázoltuk, mint az előbb részletesen ismertetett felépítésű 20 plazmát ront. A hegesztéstechnikai üzemeltetés sajátosságaitól függő számú, a berendezésen egyszerre átvezetett megtisztítandó huzal átmérője egyszerre akár egymástól eltérő lehet és széles tartományok között változhat. Ez viszont azzal jár, hogy a tisztítandó huzalt igen gyakran újra be kell fűzni a bipoláris elektrolitikus kavitációs kezelést végző 4 blokkba egy adott átmérőjű huzal másik átmérőjű huzalra történő átváltásakor. Ennek során a befűzési művelet időtartama és nehézségi foka bizonyos mértékben kihat a teljes találmány szerinti berendezés üzembiztonságára és hatékonyságára. A bemutatott példában a találmány szeriuti berendezésnek csupán egyetlen bipoláris elektrolitikus kavitációs kezelést végző 4 blokkja van. Ezzel együtt két, három vagy több hasonló 4 blokk is elhelyezhető, ahol a 4 blokkok száma a kiindulási nyersanyagot alkotó kezelendő huzal szennyezettségi fokától és a tisztítására vonatkozó technológiai paraméterektől függ. A huzal 4. ábrán bemutatott 36 plazmatronba történő könnyebb bevezetése érdekében a 36 plazmatron a feljebb leírttól kismértékben eltérő felépítésű is lehet. Ebbe az esetben minden egyes, a 4. ábrán bemutatott hengeres 25 palástöv hasonló felépítésű, mint a korábban ismertetett és a 2. ábrán bemutatott palástöv. A 36 plazmatron jellemző eltérése a két kerámia 37, 38 lap konstrukciójából fakad. Az említett 37, 38 lapok mindegyikében felül nyitott 39 horony van biemunkálva, amelybe huzalátvezető 40 vezeték van beültetve. Ez a 40 vezeték felső részének a 39 horonyból történő szabad kihúzása érdekében osztottan van kivitelezve. Az ismertetett példában a 37 és 38 lapokban egy-egy 39 horony van bemunkálva, azonban mindegyik 37, 38 lapban kettő, sőt több 39 horony is bemunkálható. A 39 hornyok száma attól függ, hogy egyidejűleg hány szál huzalt vezetünk keresztül a berendezésen az elektrokémiai tisztítás során. A kerémia 25 palástövek által képzett egység ebben az esetben a rajzon közelebbről nem ábrázolt csavarkötéssel van összefogva, amely a kerámia 37, 28 lapok külső oldalán van rögzítve. Jelen példában az elektrokémiai tisztítást végző berendezésnek az 1. ábrán látható 1 lecsévélő berendezése, 2 tompahegesztő berendezése és 8 felcsévélő berendezése van. Ezek felépítése a célnak megfelelő ismert, tetszőleges konstrukció lehet. Azon kívül a találmány más, közelebbről nem ismertetett kiviteli alakjánál az említett szerkezetekre nincs feltétlenül szükség, mivel a tisztítandó huzal más készülékekből vagy berendezésekből is bevezethető az elektrolitikus kavitációs kezelést végző 4 blokkba, majd a kezelés után ismert más készülékekkel vagy berendezésekkel elvezethető. A 2 tompahegesztő berendezés mögött a tisztítandó huzal haladási irányában mechanikus huzaltisztító 3 készülék van elrendezve. A mechanikus huzaltisztító 3 készülék bipoláris elektrolitikus kavitációs kezelést végző 4 blokk előtti elhelyezeése azt a lehetőséget kínálja, hogy előbb eltávolíthatók a tisztítandó huzalról az összes viszonylag nagyobb mechanikus szennyeződések, majd ezek tökéletes eltávolítása után történik meg a huzal felületén visszamaradt oxidréteg és rozsda sikeres eltávolítása a 36 plazmatronban. A mechanikus huzaltisztító 3 készüléknek az 5. ábrán bemutatott kiviteli alak szerint fémfátyolos 41 keféi vannak. Ezek a 41 kefék a tisztítandó huzal haladási irányával párhuzamosan, forgathatóan vannak felszerelve és több, a 6. ábrán közelebbről is látható 42 tárcsából állnak, amelyek az 5. ábrán feltünetett 43 hajtással állnak kapcsolatban. A 42 tárcsa csomag munkafelülete U-alakú 44 gyűrűhornyot képez a rajta áthaladó tisztítandó huzal számára. A 6. ábrán bemutatott minden egyes 42 tárcsa olyan fémfátyollal van ellátva, amelyet a sugárirányú kiszakadás ellen 45 gyűrű biztosít. A fémfátylak vízszintes irányú eltolása ellen a fámfátylakat 46 hüvelyen keresztül 47 csavaranya biztosítja. Az ábrán látható módon az egyes 42 tárcsák tisztítandó huzallal bezárt a szöge nagyobb mint 90°. A 44 gyűrűhorony egybeesik a 42 tárcsákforgássíkjával, valamint a tisztítandó huzal haladási síkjával. Az 1. ábrán látható bipoláris elektrolitikus kavitációs kezelést végző 4 blokk mögött huzalmosó 5 készülék van elrendezve. Ez az 5 készülék tetszőleges ismert, a célnak megfelelő felépítésű lehet. Jelen példában a huzalmosó 5 készülék két huzalmosó 48, 49 kamrát tartalmaz, amelynek egymás mögött vannak kialakítva. A tisztítandó huzal haladási irányában nézve első 48 kamra a 9 cirkulációs tartály 11 szakaszának vízforrásáVal áll kapcsolatban. A huzal haladási irányában nézve második 49 kamra 50, 51 csővezetékeken át a mindenkori vízforrással és sűrített levegő forrással áll összeköttetésben. A 49 kamra kialakítása intenzívebbé teszi a huzal felületi lemosását, a huzal felületére tapadt salakszenynyeződések és elektrolitnyomok lemosását azál-5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 65 7
