198971. lajstromszámú szabadalom • Berendezés hegesztés során alkakmazott anyagok, elsősorban huzalok elektrokémiai tisztítására

(19) Országkód: HU SZABADALMI LEÍRÁS (11) Lajstronuzám: 198971 B (51) Int Cl4 C 25 F 1/00 (22) Bejelentés napja: 1987.05.15. (21) 2186/87 i£3f (40) Közzététel napja: 1989.06.28. MAGYAR KÖZTÁRSASÁG ORSZÁGOS TALÁLMÁNYI HIVATAL (45) Megjelent: 1990.04. 07. \I •“krfWmíT* 4* (72) Feltalálók: Vladimir Izrailevich Dunaevsky Pavel Mikhailovich Kovalenko Gennady Vasilicvich Turpolov Szlavjanszk, Anatoly Yakovlevich Zanin Oleg Donovich Shvartsburd Kramiorszk, Nikolai Mikhailovich Ignatievich Mikhail Grigorievich Ivanischev Volgodonszk, Alexandr Sergeevich Korotky Nikolai Nikolaevich Gordienko Alexandr Mikhailovich Reznik Szlavjan&zk, Stanislav Nikolaevich Antonov Leningrad, Boris Petrovich Minin Iosif Mikronovich Livshits Kolpino, Konstantin Sergeevich Filonov Taganrog, SU (73) Szabadalmas: Slavyansky Filial Vsesojuznogo Nauchno- Issledovatelskogo i Proektno­­konstruktorskogo Instituts Metallorgicheskogo Mashino-Stroenia Imeni A.I.Tselikova, Szlayjanszk, SU (54) Berendezés hegesztés során alkalmazott anyagok, elsősorban huzalok elektrokémiai tisztítására (57) KIVONAT Hegesztésnél alkalmazott anyagok, előnyösen huzal elektrokémiai tisztítására szolgáló beren­dezés a tisztítandó huzal haladási irányában bi­poláris elektrolitikus kavitációs kezelést végző blokkot (4), huzalmosó készüléket (5), kenőa­nyag védőbevonatot felhordó berendezést (6) és a megtiszított huzalt megszárító készüléket tartalmaz. A találmány értelmében a bipoláris elektrolitikus kavitációs kezelést végző blokk (4) egymás mögött elrendezett katódszekciót (19) és anódszekciót (20) tartalmaz, ahol az utóbbi elektrolitikus plazmatronként van megvalósítva. (1. ábra) A leírás terjedelme: 10 oldal, 4 ábra HU 198971 B

Next

/
Oldalképek
Tartalom