196239. lajstromszámú szabadalom • Eljárás streptomyceshez és rokon mikroorganizmusokhoz használható klónozó vektorok előállítására

1 196239 2 A találmány funkcionális rcplikációs origin! tar­talmazó pEI.103 plazmid restrikciós fragmcnsére. és egy vagy több. antibiotikum rezisztenciát meg­határozó dezoxiribonukleinsav-szegmcnst tartal­mazó rekombináns dezoxiribonukleinsav klónozó vektorokra vonatkozik. A találmány továbbá vonatkozik a fenti vekto­rok Iranszformánsaira. A találmány szerinti Streptomyccs és rokon sejtekben használható, antibiotikum rezisztencia gént hordozó klónozó vektorokat állítunk elő. Mind ez ideig a fenti mikroorganizmusok rekombi­náns dezoxiribonukleinsav technológiájának fejlő­dése és kiterjesztése késlekedett, és különösen nehéz volt a klónozó vektorokon levő szelektálha­tó genetikai markerek általános hiánya miatt. A találmány szerinti vektorok funkcionálisak cs szelektálhatok mind Streptomyccs, mind pedig más gazdatörzsekben, és így jelentős előrehaladást jelentenek. A találmány szerinti vektorok különösen elő­nyösen használhatók, mivel kicsik, sokoldalúak, transzformálhatok cs szelektálhatok bármely olyan Streptomyccs sejtben, amely szenzitív arra az antibiotikumra, amely antibiotikummal szembeni rezisztenciát hordoz a vektor. Mivel a klinikailag fontos antibiotikumok több mint a felét Strepto­­myces törzsek termelik, különösen előnyös lenne ezen ipari szempontból jelentős mikroorganizmus­­csoport klónozó rendszereinek és vektorainak ki­­fejlesztése. A jelen szabadalmi leírásban ilyen vektorokat állítunk elő, így lehetővé válik a Strep­tomyccs sejtekbe gének klónozása ismert antibioti­kumok termelésének növelésére és új antibiotiku­mok és antibiotikum-származékok előállítására. A találmány szerinti eljárással Streptomyccs gazdasejtekbe való dezoxiribonukleinsav klóno­zásra alkalmas hordozókat állítunk elő, továbbá lehetővé válik az eljárás alkalmazásával a (ransz­­formánsok könnyű szelektálása. Mivel a transzfor­máció igen alacsony gyakorisággal következik be, az ilyen lehetőség olyan gyakorlati szükségszerű­ség. amellyel a sok millió sejt közül meghatároz­hatjuk azt, hogy mely sejtek vették fel a plazmid dczoxiribonukleinsavat. Ez fontos, mivel a nem szelektálható dezoxiribonukleinsav-szekvenciák beépíthetők a vektorokba, és transzformációt kö­vetően megfelelő antibiotikumon való szelektálás­sal izolálhatok azok a sejtek, amelyek tartalmaz­zák a vektort és az adott, számunkra érdekes dezoxiribonukleinsav-szekvenciát. A találmány ismertetése során az alábbi kifeje­zéseket használjuk: Rekombináns dezoxiribonukleinsav klónozó vektor: bármely autonom rcplikálódő molekula, ideértve, de nem limitálva, a plazmidokat, amely molekula egy dezoxiribonukleinsav-rcszből áll és amelyhez egy vagy több további dezoxiribonuklein­­sav-szegmenst lehet kapcsolni vagy kapcsoltunk. Transzformáció: dezoxiribonukleinsav bejutta­tása egy recipicns (befogó) gazdasejtbc, amelynek a genetípusa megváltozik, és így stabil és öröklődő változás következik be a recipicns sejtben. Transzformáns: recipicns gazdasejt, amely transzformálódott. Érzékeny gazdasejt: olyan gazdascjl, amely nem képes növekedni egy adott antibiotikum jelenlété­ben. csak akkor, ha az illető antibiotikummal szembeni rezisztenciát meghatározó dezoxiribo­­nukleinsav-szegmcnst juttatunk a sejtbe. i Restrikciós fragmens: bármely olyan lineáris vagy teljes plazmid, amelyet egy vagy több restrik­ciós enzim plazmidra való hatása során állítunk elő. Bcépülési izomer: két vagy több lehetséges rekombináns dezoxiribonukleinsav-molekula egyike, amely akkor keletkezik, amikor egy dezo­­xiribonukieinsav-fragmenst két vagy több lehetsé­ges hely közül a befogó dezoxiribonukleinsav egy adott helyére építünk be. A pLR2 plazmid 1,6 kb nagyságú BamHI rest­rikciós fragmense: 1,6 kb nagyságú, BamHI restrikciós enzimmel kihasítható, tiostrepton re­zisztenciát meghatározó fragmens, amely a pIJ6 plazmidban van jelen. A pLRl vagy a pLR4 3,4 kb nagyságú BamHI restrikciós fragmense: a pIJ2 plazmidban levő, 3,4 kb nagyságú, BamHI restrikciós enzimmel hasít­ható neomiein rezisztenciát meghatározó frag­mens. AmpR: ampicillin rezisztens fenotípus. Tets: tetraciklin-érzékeny fenotípus. Thiok: tiostrepton rezisztens fenotípus. j Neou: neomiein rezisztens fenotípus. ; A találmány szerinti rekombináns dezoxiribo­­nuklcinsav klónozó vektorok tartalmazzák i\ pEL 103 plazmid funkcionális replikációs originjé; hordozó restrikciós fragmenst, és Egy vagy több olyan dezoxiribonukleinsav-szeg­­menst, amely érzékeny gazdasejtbe transzformál­va legalább egy antibiotikummal szembeni rezisz­tenciát határozza meg, a gazdasejt érzékeny a transzformálásra, osztódik és tenyészthető. A találmány szerinti bifunkcionális, azaz E. coli Streptomyccs cs más sejtekben használható re­kombináns dezoxiribonukleinsav klónozó vekto­rok tartalmaznak egy pEL103 plazmidból szárma^ zó, funkcionális replikációs origint tartalmazó rest­rikciós fragmenst, és egy vagy több olyan dezoxiribonukleinsáv-szeg­­menst, amely érzékeny gazdasejtbe transzforműlr va legalább egy antibiotikummal szembeni rezisz­tenciát határoz meg; a gazdasejt alkalmas transz­­formálásra, sejtosztódásra és tenyésztésre, tartal­maz továbbá E. coli plazmidból származó funkcionális repli­­kont tartalmazó és antibiotikum rezisztenciát meg­határozó restrikciós fragmenst. A találmány szerinti vektorok előállítására úgy járunk el, hogy egy vagy több, antibiotikum rezisz­tenciát meghatározó dezoxiribonukleinsav-szeg­­inenst és egy pEL103 plazmidból származó, repli­kációs origint tartalmazó restrikciós fragmenst összekapcsolunk; továbbá a bifunkcionális vekto­rok előállítására hozzákapcsolunk egy E. coli plaz­midból származó, funkcionális replikont és antibio tikum rezisztenciát meghatározó restrikciós frag­menst. A pELI03 plazmidból hasítjuk ki a replikát ciós origint tartalmazó fragmenst, ez a plazmid 20,0 kb nagyságú, és a molekuláris klónozáshoz különösen előnyösen használható restrikciós he­lyeket tartalmaz. Mivel a pEL103 plazmid repliká­ciós originjét a 2,8 kb nagyságú BamHI restrikciós fragmensen belül lokalizáltuk, több különböző 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 65 o

Next

/
Oldalképek
Tartalom