174474. lajstromszámú szabadalom • Eljárás hordozóra felvitt alacsony reflexiójú, fényt át nem eresztő réteggel ellátott skálák, maszkok és sablonok előállítására
MAGYAR SZABADALMI 174474 NÉPKÖZTÁRSASÁG LEÍRÁS SZOLGÁLATI TALÁLMÁNY JjÉgk Nemzetközi osztályozás: w Bejelentés napja: 1977. V. 11. (MA-2874) G01 D 13/02 G 12 B 11/02 G 03 F 3/06 ORSZÁGOS TALÁLMÁNYI Közzététel napja: 1979. VI. 28. HIVATAL Megjelent: 1980. VI. 30. Feltalálók: Szabadalmas: Kollarics Rudolf oki. műszermérnök, 50% Magyar Optikai Művek, Budapest Kollarics Béla technikus, 30% Zanati Tibor mérnök, 20%, Budapest „Eljárás hordozóra felvitt alacsony reflexiójú, fényt át nem eresztő réteggel ellátott skálák, maszkok és sablonok előállítására” 1 2 Eljárásunk az optikai, optoelektronikai és elektronikai iparban használt skálák és sablonok előállítására vonatkozik, mely szerint fényt áteresztő hordozóra vákuumtechnikai eljárásokkal többrétegű és rétegenként változó anyagú réteget viszünk fel oly módon, 5 hogy az egyes rétegek reflexiója külön-külön magasabb, mint a rétegek változó összetételű felépítésével kapott eredő reflexió, amely alacsony reflexiójú réteget a fotolitográfia szokásos módszereivel látjuk el a skála, illetve sablon által kívánt rajzolattal. A ská- 10 Iák és sablonok készítésénél szokásos, hagyományos módszerek egy részénél a nagyfelbontású fotoemulziós rétegeket alkalmazzák, amelyeknél az emulzióban kiváló igen finomszemcsés ezüst biztosítja a fedettséget és a világos-sötét átmeneten a kedvező gra- 15 dációt, valamint az alacsony reflexiót. A módszer hátránya, hogy a réteg nem viseli el a változó nedvességet és az intenzív megvilágítással járó magasabb hőmérsékletet, a réteg mechanikai szilárdsága is kedvezőtlen, nem tisztítható, sérülés veszélye nélkül. 20 A. réteget már normál klimatikus igénybevétel esetén is a mikroorganizmusok megtámadhatják és tönkreteszik. Az ugyancsak széleskörűen alkalmazott ún. krómrétegű sablonok jó kopásállósága, a sötét-világos át- 25 menetek jó gradációja a réteg mindkét oldalán magas reflexióval társul és emiatt az alkalmazásnál a reflexióval járó hátrányokkal számolni kell. További hátránya, hogy kellő fedettségű réteg előállítása nagyon drága vákuumberendezést és párologtató 30 rendszert igényel, továbbá, hogy az optikailag kellő fedettségű réteget csak mechanikailag feszült vastagságú fémréteget képez, mind az üveg, mind a műanyag hordozókon és gyakori a feszültségből eredő üzemeltetés alatti meghibásodás. Ezen hátrányt fokozza még a vastag krómréteg fotolitográfiai megmunkálásánál az átmaratás nehézkessége. A skálák és sablonok készítésénél alkalmazott egyéb optikai fedettséget biztosító rétegek, mint pl. Ag, PbS és más vegyidet alapú rétegek, vagy kopásállóságuk, időbeli stabditásuk, durva kristályszerkezetük miatt előnytelenek, vagy körülményes réteg felviteli és megmunkálási technikájuk korlátozzák előállításukat és alkalmazásukat. Eljárásunk szerint fém rétegeit vákuumgőzölési eljárással visszük fel a hordozóra oly módon, hogy a hordozóhoz való jó tapadást alkalmas fém vagy fémötvözet, mint króm, krómnikkel, nikkel réteggel hozzuk létre, az optikai fedettséget pedig a már felvitt réteghez jól kötő fémréteg, mint Fe, Cu, Cd felvitelével biztosítjuk. A két réteg idő- és kopásállóságát, valamint az alacsony reflexiót adó réteget a hordozó oldalon alkalmazott fémréteg ismételt felvitelével hozzuk létre. Az általunk kidolgozott vastagság szerinti rétegek felvitelével az eredő reflexió kisebb, mint a tapadást biztosító réteg vagy a fedettséget szolgáltató közbülső réteg reflexiója külön-külön. Az dy módon képezett összetett réteg mindkét oldala alacsony reflexiójú és emellett azzal a további 174474
