174474. lajstromszámú szabadalom • Eljárás hordozóra felvitt alacsony reflexiójú, fényt át nem eresztő réteggel ellátott skálák, maszkok és sablonok előállítására
174474 3 előnnyel is jár, hogy az összetett réteg egyes komponensei, különösen a fedettséget szolgáltató vastag közbenső réteg kedvezőbben távolítható el a kívánt helyeken a számításba jövő kémiai módszerekkel. Eljárásunk szerint az optikailag megfelelő alapú 5 fényt áteresztő hordozót szokásos módon tisztítva vákuumgőzölő berendezésben 20-40% transzmiszsziójú króm, krómnikkel vagy nikkel réteggel vonjuk be, majd egyugyanazon berendezésben teljes fedettséget biztosító Fe, Cu vagy Cd réteggel vonjuk be, majd ismételten 20-40% transzmissziójú króm, krómnikkel vagy nikkel réteggel fedjük. Az így kapott réteget a szokásos fotoiitográfiai eljárással pozitív vagy negatív fotolakkal vonjuk be és a negatív, illetve pozitív eredeti skála, illetve sablon ábrát megvilágítással átmásoljuk, a fotoreziszt réteget előhívjuk, majd az egyes fémréteget a szokásos módon maróoldatban átmaratjuk. A művelet befejezésekor a fotoreziszt réteget szükség esetén oldószerben leoldjuk vagy oxigén plazmában eltávolítjuk. 20 Az eljárásunkkal kiképezett három rétegű alacsony reflexiójú skálák, illetve sablonok alkalmasak arra, hogy optikai rendszerekben a hordozóval ellentétes oldalon a hordozóval azonos anyagú optikailag megmunkált idommal összeragasztva mindkét oldalon azonosan alacsony reflexiójú optikái elemként kerüljenek felhasználásra. Eljárásunkat példaként projekciós kivetítésű mérleg skálájának elkészítésére mutatjuk be. A skála hordozója optikailag sík üveg, amelyet zsírtalanítunk és leöblítés után szárítunk. A száraz és pormentes üveget minimum 5 • 10-6 higany-mm nyomású vákuumrendszerben 20-40 nm vastagságú króm-réteggel gőzölögtetjük be. A réteg reflexiója látható tartományban mintegy 35-50%. Egyazon 35 berendezésben a rétegre 85-100 nm vastag teljes fedettséget adó rézréteget viszünk fel. A Cu-rétegre 4 ugyancsak egyazon vákuumban 20—40 nm vastagságú krómréteget gőzölögtetünk fedés, illetve reflexió csökkentés céljából. A réteg egyidejűleg a kopásállóságot és korrózióvédelmet is szolgálja. A rézréteg reflexiója króm, hordozó, illetve fedőréteg nélkül 60% lenne, az átmeneti, illetve fedöréteghaíására azonban az eredő reflexió 20-25%, igen kedvező érték. Az ily módon készített réteget negatív fotoreziszttel vonjuk be, majd a skála negatív 10 képét átmásoljuk. A fotorezísztet előhívó oldatában előhívjuk, majd szárítjuk. A krómréteget 1:8 hígítású sósavoldatban átmaratjuk, majd telítésig oldott vaslll klorid oldatból 1:5 hígítású maróoldatban a rézréteget maratjuk át, majd öblítés után ismét krö »- 15 -marató oldatban a hordozón levő átmeneti réteget távolítjuk el, a fotoreziszttel nem fedett helyeken. A maróoldat nyomainak leöblítése után a skálát szárítjuk, a szárítás alatt a fotoreziszt réteg megkeményszik és járulékosan védi a skálát. Szabadalmi igénypontok: 1. Eljárás optikailag átlátszó hordozón kiképzett 25 skála, vagy sablon előállítására, azzal jellemezve, hogy a hordozóra vákuumtechnikai eljárással 20—40 nm vastagságú króm, nikkel vagy krómnikkel réteget, ezt követően teljes fedettséget adó vastag vas, réz vagy kadmium réteget viszünk fel, melyet végül 30 20-40 nm vastagságú króm, nikkel vagy krómnikkel réteggel fedünk, majd a rétegeket a fotoiitográfiai eljárás szokásos módszerei szerint ellátjuk a szükséges ábrával. 2. Az 1. igénypont szerinti eljárás foganatosítási módja azzal jellemezve, hogy a rétegek mindkét oldalát azonos hordozó anyagú optikailag megmunkált idommal zárjuk közre. A kiadásért felel: a Közgazdasági és Jogi Könyvkiadó igazgatója 80 2068 — Pátria Nyomda
