173401. lajstromszámú szabadalom • Eljárás síkalakzatok, különösen textil síkalakzatok nemesítő kezelésére
5 173401 6 helyi zsugorodással és ezzel ornamentális struktúramintázat kialakulásával jár együtt. A fentiek szerint kezelt síkalakzatot végül öblítőfürdőben öblítjük, majd szárítótartományon húzzuk át, és a nemesített kész terméket felcsévéljük vagy egyéb alkalmas módon kigyűjtjük. b) A homogén modifikálást az a) alatt ismertetett módon végezzük. Az egyenletes ojtási műveletet követően a síkalakzatban még meglevő szabad gyököket helyileg szétroncsoljuk, ahol is a roncsolást különösen forró alakos henger vagy lézersugarak segítségével végezzük. Az ezután következő ojtófürdőben való kezelés során a szét nem roncsolt helyi gyökök a monomer csupán meghatározott helyekre szorítkozó ojtásos felvitelét iniciálják, ami helyi zsugorodással, és így ornamentális struktúramintázat kialakulásával jár együtt. Az ojtást követően a síkalakzatot öblítjük, szárítjuk és kigyűjtjük. c) A b) alatt ismertetett módon járunk el, azonban az egyenletes ojtás és a helyi gyökroncsolás között a részleges, helyi ojtás hatékonyságának növelése érdekében ionizáló sugarakkal történő ismételt egyenletes besugárzást alkalmazunk. d) A síkalakzatot szimultán eljárással egyenletesen modifikáljuk. Ennek érdekében ojtófürdőben a monomerrel átitatjuk, majd homogén, tehát egyenletes sugárzásnak vetjük alá. Ezt követően a síkalakzatot ionizáló sugárforrás inhomogén sugármezején vezetjük keresztül, majd ismételten ojtófürdővel kezeljük, amelyben a helyi ojtás történik. Ezen helyi ojtással egyidejűleg helyi zsugorodás, így ornamentális struktúramintázat kialakulása is bekövetkezik. A síkalakzatot végül öblítjük, szárítjuk és felcsévéljük vagy egyéb célszerű módon kigyűjtjük. e) A síkalakzatot először a d) alatt ismertetett módon a szimultán eljárás szerint egyenletesen modifikáljuk, majd a homogén sugármező alkalmazásával történt ionizáló besugárzást követően a szabad gyököket helyi gyökroncsolás útján, különösen fűtött alakos hengerek vagy lézersugarak alkalmazásával a síkalakzat csupán meghatározott résztartományaira korlátozzuk. Ennek következtében a sorrendben a részleges gyökroncsolás után alkalmazott ojtófürdőben a monomer helyileg történő ojtásos felvitelét érjük el, amely egyidejűleg helyi zsugorodást és ornamentális struktúramintázat kialakulását eredményezi. A síkalakzatot végül öblítjük, szárítjuk és kigyűjtjük. f) A síkalakzatot először részleges modifikálásnak vetjük alá oly módon, hogy ionizáló sugárzás előnyösen árnyékolósablonnal vagy intenzitásés/vagy irányvezérlés révén létrehozott inhomogén sugár mezején vezetjük keresztül. Ezt követően a síkalakzatot ojtófürdőbe vezetjük be, amelyben a monomer helyi ojtásos felvitele következik be, ami helyi zsugorodással és ornamentális struktúramintázat kialakulásával jár együtt. Ezt követően a síkalakzatot az előzetes besugárzásos eljárás szerint egyenletesen modifikáljuk, tehát ionizáló sugárforrás homogén sugármezején vezetjük át, majd ismételten ojtófürdővel kezeljük. A síkalakzatot végül öblítjük illetve mossuk, szárítjuk és kigyűjtjük. g) Az f) alatt ismertetett módon járunk el, azzal a különbséggel, hogy a síkalakzatnak a homogén sugármezőn történt átvezetést követő, ojtófürdővel történő ismételt érintkeztetését elhagyjuk. h) A síkalakzat részleges modifikálását az f) alatt ismertetett módon végezzük, majd ezt követően a szimultán eljárás szerinti egyenletes modifikálást végzünk oly módon, hogy a síkalakzatot először ojtófürdőben kezeljük, majd ionizáló sugarakkal egyenletesen besugározzuk. Ezt követően a síkalakzatot öblítjük és/vagy mossuk, szárítjuk és kigyűjtjük. j) A síkalakzatot először ionizáló sugárforrás homogén sugármezején történő átvezetés útján és a képzett szabad gyököknek helyi gyökroncsoló eszközökkel történő érintkeztetése révén foganatosított helyi szétroncsolásával részlegesen modifikáljuk. Ezt követően ojtófürdőben kezeljük, amelyben a monomer helyi felvitele történik és ezzel ornamentális struktúramintázat képződik. A síkalakzatot ezután az előzetes besugárzásos eljárás szerint egyenletesen modifikáljuk, ahol is ez utóbbit ionizáló sugarakkal történő egyenletes besugárzással végezzük, majd ezt követően ismételt ojtófürdőben történő kezelést alkalmazunk. A síkalakzatot végül öblítjük és/vagy mossuk, szárítjuk és alkalmas módon kigyűjtjük. k) A j) alatt ismertetett módon járunk el azzal a különbséggel, hogy a homogén, tehát egyenletes besugárzást követő ojtófürdős kezelést elhagyjuk. l) A részleges modifikálást először a j) alatt ismertetett módon elvégezzük. Ezt követően a szimultán eljárás szerinti egyenletes modifikálást alkalmazzuk oly módon, hogy a síkalakzatot először ojtófürdőben kezeljük, majd ionizáló sugárforrás homogén sugármezejének tartományában vezetjük át. A síkalakzatot végül öblítjük és/vagy mossuk, szárítjuk és kigyűjtjük. m) A síkalakzatnak úgy az egyenletes modifikálást, mind a részleges modifikálást kiváltó besugárzását ugyanazon besugárzó berendezésben, példaképpen elektrongyorsítóban is végezhetjük. n) A síkalakzatot egyenletesen besugározzuk, és ojtófürdővel érintkeztetjük. Fűtött alakos henger segítségével a meglevő gyököket helyileg roncsoljuk. A síkalakzatot ezután ismételten ojtófürdővel érintkeztetjük és újból egyenletesen besugározzuk. o) A síkalakzatot először egyenletesen, majd rögtön ezután csupán részlegesen, tehát helyileg besugározzuk, majd ezt követően ojtófürdővel érintkezt etjük. p) A síkalakzatot egyenletesen besugározzuk. A képződött gyököket fűtött alakos henger alkalmazásával helyileg szétroncsoljuk. Ezután ismételt egyenletes besugárzást alkalmazunk és az így kezelt síkalakzatot ojtófürdőn vezetjük át. Úgy az egyenletes modifikáláshoz, mind pedig a részleges, tehát helyi modifikáláshoz alkalmazott monomer lehet vagy cseppfolyós, vagy légnemű halmazállapotú. Az egyes részműveletek között ismert kezelési műveletek, így példaképpen öblítés, mosás, szárítás is tetszés szerinti sorrendben járulékosan beiktatható. 5 10 15 20 2S <0 35 40 45 50 55 60 65 3
