173401. lajstromszámú szabadalom • Eljárás síkalakzatok, különösen textil síkalakzatok nemesítő kezelésére
3 173401 4 besugárzás —A—A—A—A—A— —A—A—A——A— (makromolekula) (makrogyök)-A-A-A-Â-A- + n • B -A-A-A-A—A( makrogyök) (nomomer) ,g\ ^ ;n (ojtott makromolekula) Nagymolekulasúlyú polimer szerkezeti anyagként poliamidszál kelmét és monomerként akrilamidot alkalmazva olyan poliamidkelmét nyerünk, amely fokozott nedvességaffinitással rendelkezik, és ily módon öltözködésfiziológiai szempontból előnyös tulajdonságú. Poliészterszálból álló textil síkalakzat, valamint monomerként akrilsav CH2=CHCOOH alkalmazása esetén pedig bázisos színezőanyagokkal jól színezhető textilkelmét nyerhetünk. A sugárkémiai úton iniciált ojtásos reakcióhoz sugárforrásként mindenfajta ionizáló sugárzást előállító sugárforrás alkalmazható, különösen jól bevált elektron-, gamma- és röntgensugarak alkalmazása. Monomereknek ojtásos úton nagymolekulasúlyú polimer szerkezetű anyagokra történő felvitelének ismert eljárásai esetében hátrányként és hiányosságként jelentkezett azon tény, hogy az ismert eljárások a síkalakzat textiljellegét, azaz vizuális megjelenését nem változtatják meg. Ismeretes olyan eljárás, amelynek során az ojtáskor fellépő zsugorodást, azaz a felület csökkenését síkalakzatok struktúrahatásainak, azaz térbeli alakváltozásainak létrehozására használják fel. Ezen eljárás során az ojtásos polimerizáció iniciálásához szükséges szabad gyököket a síkalakzat felületének vonatkozásában nem egyenletesen, hanem csupán helyileg, illetve helyileg változó módon hozzák létre. A gyökök helyi létrehozását vagy árnyékolósablon alkalmazásával, vagy pedig a síkalakzatnak először ionizáló sugarakkal történő egyenletes besugárzásával, majd a besugárzás révén képzett szabad gyököknek a síkalakzat meghatározott részfelületein helyileg foganatosított szétroncsolásával végzik, amely utóbbi példaképpen fűtött profites hengerek segítségével foganatosítható. A síkalakzat térbeli alakváltozása struktúrahatásokat eredményez, így például ornamentális mintázatokat, amelyek színmintákkal kombinálhatok. A textil síkalakzatok nedvességaffinitása is kedvező értelemben változtatható. Az utóbbiként említett eljárásoknál hátrányos, hogy az ún. parciális modifikálásnál nem állíthatók elő olyan hatások, amelyeknek előfeltételét monomerek ojtásos reakcióval történő felvitele, különösen egyenletes felvitele képezi. Ilyen hatások példaképpen az antisztatikus tulajdonságok vagy a víztaszító tulajdonságok megváltoztatásai lehetnek, amelyeknél zárt villamosán vezető, vagy víztaszító „film” jelenléte elengedhetetlenül szükséges. A találmány célja textil síkalakzatok színezhetőségét, nedvességaffinitását, rothadásállékonyságát, víztaszító tulajdonságait és antisztatikus tulajdonságait is megváltoztató, kedvező értelemben befolyásoló olyan eljárás kialakítása, amely egyidejűleg lehetőséget nyújt ornamentális struktúra- és színminta hatások előállítására is. A kitűzött célt olyan eljárás kialakításával és alkalmazásával érjük el, amelynél a találmány értelmében a síkalakzatot ionizáló sugárzással egyenletesen besugározzuk, a besugárzás előtt, alatt vagy után ugyancsak egyenletesen monomerekkel érintkeztetjük, adott esetben közbenső öblítést és szárítást alkalmazunk, ezután ionizáló sugarakkal helyileg besugározzuk, majd egyenletesen monomerekkel érintkeztetjük, vagy ionizáló sugarakkal egyenletesen besugározzuk és a képződött gyököket helyileg roncsoló eszközökkel érintkeztetjük, majd a síkalakzatot monomerekkel egyenletesen érintkezésbe hozzuk. A találmány szerinti eljárás előnyös foganatosítási módjainál a helyi ojtásos polimerizációt az egyenletesen történő ojtásos polimerizációt megelőzően végezzük, ionizáló sugárzásként célszerűen elektronsugárzást, különösen 40 keV-tól 3 MeV-ig terjedő energiájú elektronsugárzást alkalmazunk. Célszerűnek bizonyult, ha a helyileg történő besugárzáshoz árnyékolósablonnal takart egyenletes sugárzást alkalmazunk. A helyileg történő besugárzáshoz ugyanakkor intenzitás- és/vagy irányvezérelt sugárzást is alkalmazhatunk. Célszerűnek bizonyult helyi gyökroncsoló eszközként fűtött, alakos hengerek vagy irányított lézersugarak alkalmazása. Ojtóoldatként a találmány szerinti eljárás foganatosítása során felhasználhatók cseppfolyós vagy légnemű halmazállapotú monomerek, így példaképpen vinilvegyületek, különösen akrilsav, akrilamid vagy sztirol. A találmány szerinti eljárás előnyös foganatosítási módjainál a síkalakzatot meghatározott mértékben előfeszített állapotban, és különösen forróvízzel, hevített levegővel vagy gőzzel kezelhetjük. A helyileg történő besugárzáshoz alkalmazott árnyékolósablon vastagságát különböző hatások elérése érdekében az elektronsugarak maximális hatótávolságánál nagyobbra, vagy annál kisebbre is megválaszthatjuk. Előnyösnek bizonyult, ha a helyi ojtásos polimerizációt az egyenletesen történő ojtásos polimerizációval egyidejűleg foganatosítjuk, továbbá ha csupán a gyököket részlegesen roncsoló hőmérsékletre felfűtött alakos hengereket alkalmazunk. A találmány szerinti jellemzők az eljárás különböző foganatosítási módjai során az alábbiak szerint kombinálhatok: a) Az előzetes besugárzásos eljárás szerint a homogén modifikálás céljából a síkalakzatot először homogén sugármezőjű sugárforrás ionizáló sugaraival besugározzuk, s ennek során olyan reakcióképes csírákat hozunk létre, amelyek ojtófürdőben ojtásos polimerizációt iniciálnak. Ezt követően, adott esetben közbenső öblítés és közbenső szárítás után a síkalakzatot ionizáló sugárforrás inhomogén sugármezőjén vezetjük keresztül, ahol is az inhomogenitást árnyékolósablonnal vagy a sugárzás intenzitásának és/vagy helyének, azaz irányának vezérlésével állíthatjuk elő. Ez utóbbi során olyan reakcióképes csírák keletkeznek, amelyek a soronkövetkező ojtófürdőben a monomer helyileg történő ojtásos felvitelét iniciálják, ahol is az utóbbi 5 10 15 :o 25 30 35 40 45 50 55 60 65 2
