169542. lajstromszámú szabadalom • Eljárás geometriai alakzatokból álló rétegnek egy szubsztrátumon való kialakítására villamos vezető filmanyag felgőzölögtetésével vagy porlasztásával

3 169542 4 mázasánál a védőréteg még a fotokémiai eljá­rásnál szükséges hővédelemről is gondoskodik, hogy vákuumozás során gázleadás ne jöjjön létre. Védőrétegként olyan anyagokat használunk, amelyek a felvitt anyagot a maróoldattal szem­ben védik. Ezek egyaránt lehetnek fémes és nem fémes anyagok. Ha rezet viszünk fel, úgy például krómot is alkalmazhatunk. A védőréte­get célszerűen a komplett maszknak vákuumban való gőzöléséver vihetjük fel. A maszk kialakí­tásának egy másik módja az, hogy a fotokémiai kristályszerkezetet pozitív alakban visszük fel, míg a szita többi részére önmagában ismert mó­don, például galvánosan visszük fel, majd ez­után távolítjuk el a fotokémiai réteget. A nega­tív réteget tartalmazó maszk így mentes minden fotókémiai anyagtól. Az eljárás folyamán fontos követelmény, hogy a maszk a szubsztrátumon szorosan felfeküdjön. A szabad szitaszövet ez­zel szemben a felvitt réteg miatt a szubsztrá­tumtól kis mértékben eláll (lásd 1. ábra). Ez a távolság elegendő arra, hogy a felviendő anyag a szubsztrátumra felvitt maszknak és a sugárforrásnak egymáshoz képest viszonylagos mozgása miatt a szitaszövet mögé könnyen el­jusson, azonban nem juthat a maszk negatív rétege mögé. Ily módon a szubsztrátumon ki­fogástalan rétegek alakithatók ki. A találmány szerinti megoldás előnye min­denek előtt az, hogy igen bonyolult geometriai alakzatú réteget is felvihetünk a találmány sze­rinti eljárással és így kiküszöbölhetjük az eddi­gi pozícionálási problémákat, minek következ­tében a találmány szerinti megoldásnál nincse­nek érintkezési hézagok. Előnyös továbbá, hogy a maszk regenerálása igen egyszerű. A találmány szerinti eljárást és annak meg­valósításához szükséges szerkezeti megoldást az alábbi példa alapján ismertetjük részletesebben, rajz alapján. A rajzon az 1. a), b) és c) ábrán a maszk előállításához szükséges eljárás egymást követő lépé-1 seit szemléltetjük vázlatosan, 2. ábra a maszk alkalmazásának eljárási lépé­seit szemléltetjük, ugyancsak vázlato­san. Az l/a ábrán 2 fotokémiai réteggel ellátott 1 szitaszövetet ábrázoltunk, amely rozsdamen­tes anyagból készült és amelynek finomsága 80 jnm, a szálak átmérője pedig 40 pn, A 2. ábrán látható, hogy a 2 fotokémiai ré­teget önmagában ismert módon kezeltük, mi­aek, következtében fotokémiai 3 réteg képző­dött. Ezután az egész maszkot vákuumban krómmal gőzöltük fel, miáltal 4 védőbevonat jött létre (lásd l/'c ábrát). Á 4 védőbevonat mind a fotókémiai 3 réteget, mind az 1 szita­jzövetet védi, mindenekelőtt a regenerálás al­kalmával, ha például többszörös gőzölés után 5 a szíta szálai közötti távolság kevés, és ha emiatt a maróoldatban kell maratni. A 2. ábrán fenolgyanta 5 szubsztrátumot áb­rázoltunk, amelyre felgőzölt 8 réteg a tapadó­képességének megnövelése céljából egy, a ta-10 padást elősegítő 6 közvetítőréteget, vittünk fel. Az 1 szitaszövetből, a fotókémiai 3 rétegből és " 4 védőrétegből álló maszk a preparált 5 Szub­sztrátumon szilárdan tapad. Egy, a gőzölés fo­lyamán a felviendő anyagnak a gőzforrásból 15 kiinduló sugara különböző szögekben csapódik fel, miért is a 40 /ím vékony 1 szitaszövet huzal­jai mögött is a fotokémiai rétegnek megfelelő­en igen éles peremek alakulnak ki. Ezzel az eljárással igen szigorú paraméterű vezetőla-20 pok is előállíthatók. SZABADALMI IGÉNYPONTOK 25 1. Eljárás geometriai alakzatokból álló ré­tegnek egy szubsztrátumon való kialakítására villamos vezető filmanyag felgőzölésével vagy porlasztásával, célszerűen nyomtatott huzalozá­sú lemezek kialakítására, amelynek során' a 30 szubsztrátumra először a kívánt alakzatot (struk­túrát) maszk alakjában visszük fel, majd a vil­lamos vezető fémréteget a maszkon történő por­lasztással vagy felgőzöléssel alakítjuk ki, azzal jellemezve, hogy maszkként szitamaszkot 35 alkalmazunk, és hogy a szubsztrátumra (5) fel­vitt maszkot (1, 3, 4) és a vele szemben elhe­lyezett gőz- és porlasztó-forrást egymáshoz ké­pest viszonylagos mozgásban tartjuk. 40 2. Az 1. igénypont szerinti eljárás foganatosí­tásának módja, azzal jellemezve, hogy a a felgőzölést vagy porlasztást több forrásból végezzük. 45 3. Az 1. vagy 2. igénypont szerinti eljárás fo­ganatosításának módja azzal jellemezve, hogy az előnyösen 60—100 pm finomságú és 30— 50 jura huzalátmérőjű maszkot a felgőzölést vagy porlasztást megelőzően egy hő- és vákuumbiz-50 tos védőbevonattal (4), célszerűen krómbevonat­tal vonjuk be. 4. A 3. igénypont szerinti eljárás foganatosí­tásának változata azzal jellemezve, hogy a 55 hő- és vákuumbiztos védőbevonat alkalmazása helyett (4) a negatív réteget (3) galvános úton visszük fel, és hogy a pozitív réteget ezt meg­előzően fotokémiai eljárással lefedjük, 1 rajz. 4 ábra A kiadáért felel: a Közgazdasági és Jogi Könyvkiadó igazgatója 77. 70 897 Petőfi Nyomda, Kecskemét 2

Next

/
Oldalképek
Tartalom