169542. lajstromszámú szabadalom • Eljárás geometriai alakzatokból álló rétegnek egy szubsztrátumon való kialakítására villamos vezető filmanyag felgőzölögtetésével vagy porlasztásával
3 169542 4 mázasánál a védőréteg még a fotokémiai eljárásnál szükséges hővédelemről is gondoskodik, hogy vákuumozás során gázleadás ne jöjjön létre. Védőrétegként olyan anyagokat használunk, amelyek a felvitt anyagot a maróoldattal szemben védik. Ezek egyaránt lehetnek fémes és nem fémes anyagok. Ha rezet viszünk fel, úgy például krómot is alkalmazhatunk. A védőréteget célszerűen a komplett maszknak vákuumban való gőzöléséver vihetjük fel. A maszk kialakításának egy másik módja az, hogy a fotokémiai kristályszerkezetet pozitív alakban visszük fel, míg a szita többi részére önmagában ismert módon, például galvánosan visszük fel, majd ezután távolítjuk el a fotokémiai réteget. A negatív réteget tartalmazó maszk így mentes minden fotókémiai anyagtól. Az eljárás folyamán fontos követelmény, hogy a maszk a szubsztrátumon szorosan felfeküdjön. A szabad szitaszövet ezzel szemben a felvitt réteg miatt a szubsztrátumtól kis mértékben eláll (lásd 1. ábra). Ez a távolság elegendő arra, hogy a felviendő anyag a szubsztrátumra felvitt maszknak és a sugárforrásnak egymáshoz képest viszonylagos mozgása miatt a szitaszövet mögé könnyen eljusson, azonban nem juthat a maszk negatív rétege mögé. Ily módon a szubsztrátumon kifogástalan rétegek alakithatók ki. A találmány szerinti megoldás előnye mindenek előtt az, hogy igen bonyolult geometriai alakzatú réteget is felvihetünk a találmány szerinti eljárással és így kiküszöbölhetjük az eddigi pozícionálási problémákat, minek következtében a találmány szerinti megoldásnál nincsenek érintkezési hézagok. Előnyös továbbá, hogy a maszk regenerálása igen egyszerű. A találmány szerinti eljárást és annak megvalósításához szükséges szerkezeti megoldást az alábbi példa alapján ismertetjük részletesebben, rajz alapján. A rajzon az 1. a), b) és c) ábrán a maszk előállításához szükséges eljárás egymást követő lépé-1 seit szemléltetjük vázlatosan, 2. ábra a maszk alkalmazásának eljárási lépéseit szemléltetjük, ugyancsak vázlatosan. Az l/a ábrán 2 fotokémiai réteggel ellátott 1 szitaszövetet ábrázoltunk, amely rozsdamentes anyagból készült és amelynek finomsága 80 jnm, a szálak átmérője pedig 40 pn, A 2. ábrán látható, hogy a 2 fotokémiai réteget önmagában ismert módon kezeltük, miaek, következtében fotokémiai 3 réteg képződött. Ezután az egész maszkot vákuumban krómmal gőzöltük fel, miáltal 4 védőbevonat jött létre (lásd l/'c ábrát). Á 4 védőbevonat mind a fotókémiai 3 réteget, mind az 1 szitajzövetet védi, mindenekelőtt a regenerálás alkalmával, ha például többszörös gőzölés után 5 a szíta szálai közötti távolság kevés, és ha emiatt a maróoldatban kell maratni. A 2. ábrán fenolgyanta 5 szubsztrátumot ábrázoltunk, amelyre felgőzölt 8 réteg a tapadóképességének megnövelése céljából egy, a ta-10 padást elősegítő 6 közvetítőréteget, vittünk fel. Az 1 szitaszövetből, a fotókémiai 3 rétegből és " 4 védőrétegből álló maszk a preparált 5 Szubsztrátumon szilárdan tapad. Egy, a gőzölés folyamán a felviendő anyagnak a gőzforrásból 15 kiinduló sugara különböző szögekben csapódik fel, miért is a 40 /ím vékony 1 szitaszövet huzaljai mögött is a fotokémiai rétegnek megfelelően igen éles peremek alakulnak ki. Ezzel az eljárással igen szigorú paraméterű vezetőla-20 pok is előállíthatók. SZABADALMI IGÉNYPONTOK 25 1. Eljárás geometriai alakzatokból álló rétegnek egy szubsztrátumon való kialakítására villamos vezető filmanyag felgőzölésével vagy porlasztásával, célszerűen nyomtatott huzalozású lemezek kialakítására, amelynek során' a 30 szubsztrátumra először a kívánt alakzatot (struktúrát) maszk alakjában visszük fel, majd a villamos vezető fémréteget a maszkon történő porlasztással vagy felgőzöléssel alakítjuk ki, azzal jellemezve, hogy maszkként szitamaszkot 35 alkalmazunk, és hogy a szubsztrátumra (5) felvitt maszkot (1, 3, 4) és a vele szemben elhelyezett gőz- és porlasztó-forrást egymáshoz képest viszonylagos mozgásban tartjuk. 40 2. Az 1. igénypont szerinti eljárás foganatosításának módja, azzal jellemezve, hogy a a felgőzölést vagy porlasztást több forrásból végezzük. 45 3. Az 1. vagy 2. igénypont szerinti eljárás foganatosításának módja azzal jellemezve, hogy az előnyösen 60—100 pm finomságú és 30— 50 jura huzalátmérőjű maszkot a felgőzölést vagy porlasztást megelőzően egy hő- és vákuumbiz-50 tos védőbevonattal (4), célszerűen krómbevonattal vonjuk be. 4. A 3. igénypont szerinti eljárás foganatosításának változata azzal jellemezve, hogy a 55 hő- és vákuumbiztos védőbevonat alkalmazása helyett (4) a negatív réteget (3) galvános úton visszük fel, és hogy a pozitív réteget ezt megelőzően fotokémiai eljárással lefedjük, 1 rajz. 4 ábra A kiadáért felel: a Közgazdasági és Jogi Könyvkiadó igazgatója 77. 70 897 Petőfi Nyomda, Kecskemét 2