160123. lajstromszámú szabadalom • Eljárás nem fémes anyagok, elsősorban műanyag felületek bevonására

100123 8 zötti hőmérsékleten folytatjuk le. A reakcióidő a nukleofil reagens vagy fémorgani'kus vegyület jellegétől, emellett az oldószertől és a hőmérséklettől is függ, rendszerint azonban 1 perc és 24 óra között van. Az előállított alacsony oxidációs fokú foszforvegyületet rendszerint oldószeres 'közegben alkalmazzuk. A foszfort a nukleofil reagenssel vagy fémorganikus vegyülettel oldószeres közegben reagáltatjuk, vagy előbb a foszfort a megfelelő reagenssel vagy vegyülettel reagáltatjuk és azután adjuk hozzá az oldószert. Pl. a foszfort etanol jelenlétében nátriumetoxiddal reagáltathatjuk, vagy a foszfort nátriumetoxiddal reagáltatjuk, ezt követően pedig etanolt adunk hozzá. Hasonló módon a foszfor reagáltatható valamely szokásos oldószerben nukleofil reagensek keverékével, vagy a foszfort minden egyes reagenssel külön reagáltatjuk és a 'kapott termékeket egyesítjük. Az alacsony oxidációs fokú foszforvegyület szempontjából megfelelő oldószerek vagy hígítószerek azok az oldószerek vagy ezek keverékei, amelyek a foszforvegyületet oldják, de nem reagálnak a képződött vegyületekkel és így annak aktivitását gyors ütemben nem csökkentik. A képződött foszfói-vegyületek szempontjából aktivitást csökkentő vagy lassú elbontó hatást gyakorló oldószereket csak akkor javasolunk, ha ezek kedvező kompenzáló tulajdonsággal rendelkeznek. mint pl. a szubsztrátum felületét duzzasztják. A megfelelő oldószerek rendszerint semleges vagy gyengén savas kémhatásúak. Mind poláros, mind apoláros oldószerek felhasználhatók. Az erős szolvátképző oldószerek, mint protonos vagy dipolar is aprotonos típusúakat előnyben részesítjük. Mindazok az oldószerek, amelyek a műanyagfelületet duzzasztják, vagy a felület alá behatolnak anélkül, hogy a felületi tulajdonságokat hátrányosan befolyásolnák, előnyben részesítendők. A tipikus oldószerek va»y hígítószeriek alifás vagy aromás jellegűek és rendszerint legfeljebb 30 szénatomot tartalmaznak. Ezek közé tartoznak az alifás és aromás szénhidrogének, éterek és tioéterek, karbonil•vegyületek, mint észterek és ketonok, nitrogéntartalmú vegyületek, mint amidok, aminők, nitrilek és nitrovegyületek, alkoholok, fenolok, merkaptánok és halogéntartalmú vegyületek. A megfelelő konkrét oldószerek közül az alkoholok, mint metanol, etanol, propanol, butanol, oktilalkahol, decilalkohol, benzilalkohol, ciklohexanol, etilénglikol, glicerin és hasonló oldószerek, 6—18 szénatomos aromás szénhidrogének, mint a benzol, toluol, xilol, etilbenzol, naftaion, tetralin stb., éterek, mint metiléter, etiléter, propiléter, izopropiléter, metil-t-nbutiláter, 3-metoxihexán, anizol, karbitol, difeniloxid stb. 1—18 szénatomos alkánok, mint metán, etán, propán, hexán, oktán, dekán, oktadekán, ciklopentán, ciklooktatetraén stb., dipropilszulfid, dibutilszulfid, dimetilszulfoxid, tetrahidrotiofén, bütilformiát, metilaoetát, etilaoetát, benzilaoetát, fenilkarbonát, formamid, dimetilformamid, aoetamid, N-metilH2-pirrolidon, aceton, nitnobenzol, monoklórbenzol, acetofenon, izoporon, tetrahidrofurán, halogénezett szénhidrogének és halogénezett szénvegyületek, mint a 5 kloroform, széntetraklorid, triklóretilén, triklóretán, diklórpropán, etildiíbromid, etilklórbromid stb., anilin, hexilamin, aoetonitril, .benzonitril, hexametilfoszforaimid, dodecilmerkaptán, fenolok, mint fenol, rezorcinol, pirokateehin, 10 hidrokinon, p-t-butilfenol, para-klórfenol, parafenilfenol, krezol, tiofenol, merkaptofenol, stb. említendő. Az alacsony oxidációs fokú foszforvegyület oldatban levő mennyisége a foszfortartalomra számítva kb. 0,0001 súly% konoentrá-15 dótól telítettségi koncentrációig ingadozhat, előnyösen 0,01—0,6 súly% foszfortairtalmú oldatot használunk. Az alacsony oxidációs fokú foszforvegyülettel történő kezelés eredményeképpen a foszfor-20 vegyület az anyag felületére rétegződik. A rétegződésben azt értjük, hogy az alacsony oxidációs fokú foszforvegyület a felületen, a felületbe beágyazva vagy az anyag felülete alá beágyazva lehet jelen. Az alacsony oxidációs fokú 25 foszforvegyület helyzete némiképpen függ az oldószernek a szubsztrátumra kifejtett hatásától. Az alacsony oxidációs fokú foszforvegyülettel történő érintkeztetés előtt az anyag felületét meg kell tisztítani. Ez azonban nem igényel 30 speciális felületkezelést, mint maratást, csiszolást stb. Az anyagot az alacsony oxidációs fokú foszforvegyület oldatával általában az anyagot lágyuláspontja alatti hőmérsékleten és az oldószer lágyuláspontja alatti hőmérsékleten érint-35 keztetjük. A hőmérséklet rendszerint —30 °C-tól 135 °C-ig terjed, előnyösen pedig 15—100 °C között van. Az érintkeztetési idő az anyag, az oldószer jellegétől és a hőmérséklettől függ, rendszerint azonban kb. 1 másodperctől 1 óráig, 40 vagy ennél hosszabb ideig terjed, előnyösen pedig 1—10 perc. Az első kezelési lépés után a szubsztrátumot valamely oldószerrel leöblíthetjük, majd meg-45 száríthatjuk, például akként, hogy az anyagot levegőn vagy iners atmoszférában, mint nitrogén- vagy széndioxid-atmoszférában állni hagyjuk, esetleg a felületet valamely sugárzó fűtőberendezéssel vagy szokásos szárítószekrényben 50 megszárítjuk. A szárítási idő tág határok között ingadozhat és például 1 mp-4ől 30 percig, esetleg ennél hosszabb ideig terjedhet.- A szárítási idő előnyösen 5 mp —10 perc, legelőnyösebben pedig 5—110 mp. A felület leöblítése 55 nem kötelező művelet, vagyis tetszés szerint alkalmazható. A kezelt anyagot ezt követően további kezelés előtt tároljuk, vagy közvetlenül a második feldolgozási műveletnek vetjük alá. 60 A találmány szerinti eljárás második lépésében a foszforral kezelt anyagot valamely, a felületen levő alacsony oxidációs fokú foszforvegyülettel reakcióképes, fémsó vagy fémkomp-65 lexsó oldatával érintkeztetjük és így fém-fosz-4