159442. lajstromszámú szabadalom • Eljárás offsetnyomólemez előállítására erőérzékenyített nyomóelemezanyagból

159442 9 10 téten keresztül megvilágítottuk és ezt követően 2fy0 r-os vizes tainátriumf oszfátoldta'ttial történő le­törlésével előhívtuk. A pozitív kép tiszte, féme­sen, csillogó alapon jelent meg. A képet hordó félületet az alap hidrafilitásának fokozása cél­jaiból l!%-os foszforsavval áttöröltük. Ezt köve­tően a még kissé nedves, fólia rétegzett oldatát az alábbi összetételű lakkal vontuk be: 5 súlyrész o-krezolból és formaldehidből elő­állított 108—4118 C° olvadáspontú novolakgyamta, 50 súlyrész oiklohexanon, 50 súlyrész glicerin, 0,5 súlyrész ikristályilbolya (tófenilmetán­-^színezék). A réteg felhordására pergetőt használtunk. A rétegzett fóliát meleg légáraimban, majd kb. 2 percig 100 C°-on szárítottuk. Az így nyert, előórzékenyített nyomólemiez­anyagot negatív előtéten keresztül megvilágítot­tuk, majd 1,9%-as vizes trinátriurnfaszfátoldat­tal előhívtuk. A fóliát ezután vízzel öblítettük, szárítottuk és két félre osztottuk. Az egyik felét 240 C°-ra felmelegített kemencébe tettük és 20 percig otthagytuk, míg a másik felét nyomda­gépben nyomtatáshoz közvetlenül felhasználtuk. A fóliának a kemencében melegített felén a képalap a felmelegítés után szennyeződött volt, és ezt a szennyeződést 5%-os trinátriumfoszfát­aldattal lemostuk. Vízzel történő öblítés és 1%~ os foszforsavval végzett kezelés után a fóliát zsíros nyoindafestékkel megfestettük. Nyomdagépen a lemez nem melegített felével mintegy 10 000, ezzel szemben a lemez felmele­gített felével mintegy 20O00 kifogástalan minő­ségű lenyomatot lehetett előállítani. 4. példa: Alumtaiumifólia kefével érdessé tett felületéra az alábbi összetételű oldatot rétegeztük: 1,5 súlyrész a 3. példa szerinti diazidovegyü­let 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 A lakkot a nyomólemezre vattapamaccsal vit­tük fel és könnyedén bedörzsöltük, míg a kép színeződött. A képalap a lakkot csak kismér­tékben vette fel, és 1%-os foszforsavval végzett áttarlésével a lakk odatapadt nyomaitól meg­tisiztítottuk. A lemezt ezután vízzel leöblítettük és meleg levegőn szárítottuk, majd 240 C0j ra felmelegített kemencébe helyeztük és 20 percig otthagytuk. Ezt követően a képatap bavonattlal teljesen szennyezett volt. Lehűtés után a fóliát 9%-os trinátriomfoszfátoldattal áttöröltük, mi­által a képalap szennyeződését eltávolítottuk. Ezután a fóliát 1'%-os foiszforsavoldattal átitatott vattapamaccsal néhányszor áttöröltük. A fosz­forsavtól még nedves fóliát ezt követően zsíros nyonidafestéklkel megfestettük. A nyomólemezzel ofszetnyomdagépen 70 000 kifogástalan minőségű lenyomatot tudtunk elő­állítani. Összehasonlítás céljára azonos módon másik nyomólemezt készítettünk, csupán azzal a kü­lönbséggel, hogy ezt a nyomólemezt előhívás után lakkahnem vontuk be és nem is melegí­tettük fel. Ezzel a nyomólemezzel ugyanazon a nyomdagépen csak mintegy 10 000 kifogástalan minőségű lenyomatot tudtunk készíteni. 2. példa: Alumíniumifólia mechanikailag érdessé tett felületére az alábbi összetételű oldatot rétegező tük: 1,3 súlyrész az 1. példa szerinti düazovegyület, 0,3 súlyrész 108—il,18 C° olvadáspontú o-kre­zol^foírmiaidehid-novolak és 100 súlyrész etilénglikolmonometiléter. 3. példa: Alumíniumfólia mechanikailag érdessé tett felületéire pergető alkalmazásával az alábbi ösz­szetételű oldatot rétegeztük fel: 1 súlyrész p^aminofenolglikolétarirel kétsze­resen amidált 4,4'-diazido!sztil!bén­-2,2'-diszulfonsav (előállítása a 929.460 sz. német szabadalmi le­írás szerint), 0,2 súlyrész 108—1H8 C° oHkrezol-formalde­hid-navolak, 100 térfogatrész dimetilformamid. A fóliára felvitt fényérzékeny réteget meleg légárammal, majd az-oldószer tökéletes eltávo­lítása céljából 90 C°-on még 5 percig szárítot­tuk. Az így nyert fényérzékeny anyagot kb 1—2, percig transzparens, negatív filmelőtéten keresztül ívlámpával megvilágítottuk. Az így nyert exponált képet 1'%-os vizes trinátrium­foszfátoldattal történő tamponálással pozitív képpé előhívtuk. A még nedves fóliát az 1. pél­dában leírt módon fenolgyantalakkal bevontuk. Ezt követően a fóliát 1%-os foszforsavval tisz­títottuk, szárítottuk és 20 percig 240 C°-on melegítettük. A képalapot ezután láthatatlan bevonat szennyezte. Lehűtés után a lemezt 3I%-OB vizes hidrogéntfluoriddal letöröltük. Tisz­ta nyomólemezt nyertünk, amellyel ofszet­nyomdagépen mintegy 20 000 kifogástalan mi­nőségű lenyomatat lehetett előállítani. összehasonlítás céljára azonos módon másik nyomólemezt készítettünk, azzal a különbség­gel, hogy a nyomólemez lakkozását, és felmele­gítését elhagytuk. Az így előállított nyomó­lemezzel ugyanazon a gépen csak mintegy 3000 kifogástalan minőségű lenyomatot lehetett ké­szíteni. 5

Next

/
Oldalképek
Tartalom