159333. lajstromszámú szabadalom • Eljárás szigelő rétegnek szigetelő réteggel való összekötésére

5 159333 dául 100—300 vagy több mikroaimper/cm2 ér­tékről egy nagyon kis értékre. A kitűzött cél­nak leginkább kis áram felel meg. Minél na­gyobb a feszültség és ennek megfelelően az áram, annál kevesebb időre van szükség, és fordítva. Gyakorlati felhasználások folyamán az áramsűrűség- általában 3-—20 mikroamper/ ,'mm2 között, a folyamat ideje pedig 1—3 perc között van. A következőkben szervetlen szigetelőnek má­sik szervetlen szigetelőhöz való találmány sze­rinti erősítésére jellemző példákat ismertetünk. Az eljárás foganatosítására, az 1. ábráin vázla­tosan szemléltetett elrendezést használjuk. Az, egyik példánál a 10 szigetelő lényegében alkáliamentes keményüveg, a 12 alaptest pe­dig bórszilikát üveg volt, amelyen SiO el­pánologtatásával tapadó sziliciumszuboxid be­vonatot hoztunk létre. A szigetelő 0,05 mm vastag, az alaptest pedig 0,5 mm vastag volt. A sziliciuimszuboxid film vastagsága szokáso­san használt módon 2000 és 5000 angstrom között volt. Az egységet 600 C° és 700 C° közötti hőfokra hevítettük fel. Az anyagré­tegekből álló egységre egyenáramú 16 áram­forrást kapcsoltunk. A negatív pólust a szige­telőre kötöttük és 1000 volt körüli kis áramot keltő feszültséget alkalmaztunk. A szigetelő és a 11 szigetelőréteg között körülbelül 3 perc alatt jó kötést kaptunk. A szigetelő üveg­anyaga lényegében szimmetrikus feszültség el­oszlási karakterisztikájú. Hasonló eredménye­ket kaptunk akkor, ha fordított feszültséget alkalmaztunk. 10 szigetelőként kvarcüveget al­kalmazva szintén hasonló eredményeket kap­tunk. Egy másik példánál mind a 10 szigetelő, mind a 12 alaptest 0,25 mm vastag bórszilikát üveg volt, amelyek közé a 12, alaptesten szili­ciumszuboxid réteget alkalmaztunk. Az egysé­get körülbelül 500 C°-ra hevítettük fel és a feszültséget egy egyenáramú forrásról körül­belül 3 percig kapcsoltuk az egységre. A 10 szigetelő eleimet negatívnak választva körül­belül 20 mikröamper/mm^s áramot kaptunk. Egy olyan példánál, amelynél a 12 alaptest fémes molibdén volt, amely SiO rápárolagta­tásával létrehozott körülbelül 5000 angstrom vastagságú 11 szigetelő réteget tartott, és a 10 szigetelő 0,25 mm vastag bórszilikát üveg volt, a szigetelőket körülbelül 500 C° hőmér­sékletre hevítettük és a kötést kb. 20 imikro­amper/mm2! nagyságú egyenáramnak kb. 3 percig való alkalmazása révén értük el. A bór­szilikát üveget választottuk negatívnak. Kötést értünk el általában hasonló körülmé­nyek között azzal az eltéréssel, hogy a 12 alaptest molibdén helyett nikkel volt. Az egyik műveletnél a sziHciumszuboxid réteg körül­belül 2000 angstrom Vastag és a másik eset­ben körülbelül 8500 angstrom vastag volt. Egy további példánál a 12 alaptest 0,25 mm vastag sziliicium volt, amelyen körülbelül 2000 angstrom vastagságú tapadó szilieiumnitrid ré­teget formáltunk ki. A 10 szigetelő 0,25 mm vastag bórszilikát üveg volt, amelyet körül­belül 500 C°-ra hevítettünk föl. Egyenáramú áramforrást kapcsoltunk az egységre, a 10 szi-5 getelőt negatívnak választottuk és körülbelül 1 percig körülbelül 3 mikraamper/mmá erős­ségű áramot bocsátottunk keresztül. A. 2. ábrán a találmány alkalmazására olyan 10 példa látható, amelynél egy hálózatot, illetve áramkört tokozás jelleggel zárunk el a környe­zettől és tömítetten zárt vezető csatlakozóvége­ket is létesítünk. A találmány szerinti eljárás­nak ennél a foganatosítási módjánál a 40 15 üveglapot vékony, filmszerű 41, 42 és 43 áram­körök fölé erősítjük, amelyeket a rajz vázlato­san szemléltet. Ezek az áramkörök a 44 alap­testen valamilyen jól ismert módon erősíthe­tők meg. A 45 sziliciumszuboxid filmet, illetve 20 réteget az áramkörök fölé SiO párologtatása révén juttatjuk, és a 40 szigetelő üveglapot a 45 sziliciumszuboxid filmhez a találmányunk szerinti eljárás révén erősítjük. A 41, 42 és 43 áramkör-elemeknek kinyúló 41a, 42a, illetve 25 43a vezető csatlakozóvégei vannak. Jól látható, hogy az áramkörök hermetikusan el vannak zárva és a burkolt, védett áramköröket vezető csatlakozóvégek kötik össze a külső környezet­tel. Találmányunk elvi alapjainak alkalmazása 30 révén nagyon sok hasonló felhasználásra van lehetőség. A használt szigetelő anyagok és a 40 szige­telő 45 sziliciumszuboxid réteghez való kötésé­nek feltételei a körülményektől függően vál-35 fázhatnak, és a kötés az 1. ábrával kapcsolat­ban előzőkben ismertetett példák valamelyiké­nek megfelelően hajtható végre. így összeköt­hető sziliciumszuboxid réteggel ellátott alap­test és bórszilikát üvegből való felső szige-40 telő is. A rajz 3. ábráján a 30 és 31 üvegtestek érint­kező felületei síkok és a 32 áramforrás áram­köre a réteges egységen keresztül zárul. A 33 tartólap a rétegekből álló egység melegítésére 45 is szolgál és e célból a 33 tartólapba elektro­mos ellenállás-fűtőtest építhető be, aniely a 34 és 35 érintkezőkön keresztül csatlakozik egy fel nem rajzolt áramforráshoz. Az üvegtestek más módon is félhevíthetők, így például in-50 dukoiós hevítéssel vagy az egységnek kemen­cébe helyezése révén. A 32 áramforrás alkal­mas arra, hogy az összetett egységen áramot vezessen keresztül, és e célból az áramforrás­nak 36 csatlakozópontja a. 33 tartólapon levő 55 37 csatlakozóponttal van összekötve, az áram­forrás másik, 38 csatlakozópontja padiig a 30 üvegtest felső felületével a 39 érintkezőn ke­resztül van összeköttetésben. A 39 érintkező a 30 üvegtesttel közvetlenül érintkezhet, Vagy 60 ha ez kívánatos, ezek között körülbelül 1 mm nagyságú kis távolság lehet, aminek révén" a 39 érintkező és 30 üvegtest között nagy villa­mos térerősség jön létre, ez ionizálja a leve­gőt, és a légrésen és egységen kis áram folyik 65 keresztül. Az áramforrás a legtöbb esetben elő-3

Next

/
Oldalképek
Tartalom