158963. lajstromszámú szabadalom • Eljárás krómlapok maratására és az ilyen módon előállított fotólitografikus maszkok

158963 teszik bonyolult mintázatnak a .pontos maratását az alapanyag felületiére. Ezeknél az eljáiréísofcnál a félvezető szelet oxidélt felületét fényérzékeny anyaggal voniják be, ilyen módon védőréteget alakítanak ki, majd ezt a védőrétegét nyílásokkal kiképzett maszkon vagy stencilen keresztül ibolyántúli fénynek teszik ki. A védőréteg fénynek kitett szakaszai polimerizálódna'k. Mivel ezek a polimerizált szakaszok előtóváfolyadékíban nem oldódníak, az oxidrétegen filmrétegként megmaradnak, míg a védőréteg védett szakaszait a folyadék feloldja és több nyílást vagy ablakot létesít a védőrétegen. Mivel ezek a nyíllások az oxidrétegen kis szakaszokat tárnak fel, korróziót előidéző folyadékot, mint fluorhidrogénsav hígított vizes oldatát, mely ammónluimfluoridot tartalmaz (pl. 6,8% HF és 31,6% NHÍF súly%4>an), mely megtámadja ax oxidréteget, de nem magát ä félvezető szeletet juttatják a f otovédőrétegre és az oxidréteg szabaddá vált (ún. ablakok) szakaszaira, és ily módon kis nyílások-' bői álló mintázatot lelhet maratni az oxidrétegbe. Amint már említettük, ezt követő művelétekben ezeken a nyílásokon keresztül vezetőképességtípusát meghatározó szennyezéseket tartalmazó anyagókat lehet diffundálni az oxidmaszkíba és a félvezető szeletbe, hogy ily módon p—n átmenetnek megfelelő kialakítást kapnak: vagy fém érintkező pontokat lehet gőzölögtetés útján a félvezető lemez feltárt szakaszaira juttatni, érintkező végek kialakítására. Ezeknek a fotolitografükus vagy maratási eljárásoknak az a-fcalmazása igen nagy jelentőségű integrált ánaimkörök létesítésénél is. így példaképpen az eljárás igen előnyös kivitelezési módjaként meg kell említenünk, a mászkáló réteg mintázat kialakítását. Ennék során kis vezetőképességű anyagot "juttatunk gőzölögtetés segítségével a szubsztrátumra és a már fentiekben ismertetett .módon a. szufosztrátumot fényérzékeny lakfcanyaggal burkolják, ezt a fényérzékeny anyagot a kívánt védőrétegmiintázatnak megfelelő negatív képet alkotó maszkon keresztül fényhatásnak tesszük ki, a fénynek ki nem tett laikkréteget oldószer segítségével eltávolítják és végül a 'maszkoló réteg mintázatot kis vezetőképességű anyag szabaddá váló szakaszainak maratás útján való eltávolításával alakítják ki. Magától értetődően a fotolitogirafikus és maratási eljárások során elérhető pontosság határait szükségszerűen a fényérzékeny anyag lefedésiével és feltárásával elérhető képfelbontás mértéke szabja meg." A méretek csökkentésében jelentkező követelmények miatt egyre fokozottabb mértékben szükségessé válik az. egyre nagyabb mérvű képfelbontás. Ennek megfelelően olyan maszkoknál, melyeket fotoreziszt anyagnál használnak, hogy az ibolyántúli sugarak (hatását maghatározott szakaszokban teljesen kiküszöböljék éles. elhatároló vonalnak kell lenni az. átlátszó és az át nem tetsző szakaszok között. Amint azt az 1 576 139 sz. francia szabadalmi leírás ismerteti, igen jó minőségű maszkok állíthatók elő krómrétegnek üveglapra gőzölögtetés útján történő felhordásával, majd ezt fcö-5 vetően a kívánt mintázatnak a krómrétegbe való maratásaival, szokványos fotolitografikus és maratási eljárást alkalmazva. Amint azt a hivatkozott szabadalmi leírásunkban ismertettük, előnyösen a krómréteget két műveletben 10 hordjuk fel, mely műveletek között közbenső felületkezelést alkalmazunk. Magától értetődő, hogy amennyiben az átlátszó és az át nem tetsző szakaszokat éles elvá-15 lasztó határvonalaikkal akarjuk kialakítani a maszkon, a krómréteg maratását óvatosan kell végezni, hogy a tényálló kép szélein alámairatás ne keletkezzék. Amennyiben ezéken az éle. ken alámarás jelentkezik, úgy határozatlan, 20 szabálytalan és szaggatott vonal választja el az át nem tetsző szakaszokat és így magától értetődően az abból fotolitografikus úton élőállított képek élessége is megfelelően csökken. 25 A fentieknek megfelelően találmányunk egyik célkitűzése olyan, fotolitografikus eljárásoknál alkalmazható maszk kialakítása, mely éles, jól elhatárolt vonalakkal rendelkezik az átlátszó szakaszok és az át nem látszó szakaszok között. 20 Ugyancsak a találmány körébe tartozik olyan marató oldatok készítése, melyek a krómmal borított üvegmaszklba a mintázat maratása során a széleket kisebb' mértékben támadják 35 meg. Végül a találmány egy másik, célkitűzése szerint olyan eljárást alakítunk ki, mely a találmány szerinti m aratóold at gyors hatását kedvezően segíti _ elő. 40 A találmány fentiekben vázolt célkitűzései, valamlint a találmány szerinti megoldás egyéb előnyei oly módon érhetők el, hogy a krómmal borított üveg-maszkba a mintázatot sav-oldat 45 segítségével maratjuk, mély oldat foszfor- és kénsav keverékéből áll. Az alkalmazott savoldat gyors hatását oly módon segítjük elő, hogy a fcrómifelületet előnyösen fémkatalizátorral, így alumínium, ón, magnézium, cink, kad-50 mium vagy hasonló fémhuzallal érintkeztetjük. Példa: 55 Üveg szubsztrátumra vékony •krómréteget hordunk fel, gőzölügtetéses felhordási eljárás alkalmazásával. Amint azt már hivatkozott magyar szabadalmi leírásunkban ismertettük, előnyös ennék a rétegnek két különálló műveletgQ ben való felhordása, melyek között csiszolási műveletet alkalmazunk, melynek során a felületre lazán tapadó összes krámrészecskét eltávolítjuk. Ilyen módon lényegileg apró (tűszúrásnyi) ponthibáktól (pinhole) mentes, vékony 65 teljesen fedő krómréteget kapunk, melynek 2