158726. lajstromszámú szabadalom • Eljárás félvezető elemek forrasztására hordozóhoz

158726 ban is. A felsorolás teljességének igénye nél­kül megemlítjük pl. a 3 340 602 USA szaba­dalmat, ami Sn tartalmú Au ötvözetet a fél­vezetőtok — ez pl. kovar-iból készülhet — és az állvány összeforrasztására javasolja. Az 1 047 370 angol szabadalom Au—In—Bi ötvözetet ajánl hőérzékeny műanyagokkal kap­csolatos felhasználásra. A 281 894 sz. holland szabadalom olyan meg­oldást javasol, amelyben a félvezető felületére Ni rétegelt galvánoznak, majd ezen Ni rétegre Au bevonatot visznek fel és az összekötés hő­hatására csiak e két réteg kialakítása után tör­ténik meg. Forrasztáanyagként használható, többalkotós Plb ötvözeteket cca. 10% Au és néhány száza­lék In, Sn, Ga tartalommal pl. a 3 140 527 sz. USA szabadalom ír le. Ugyancsak Au elektró­dákhoz kivezető huzal hozzáforrasztására al­kalmas Cd, tartalmú Pb ötvözetet ír le, az 1 164 801 sz. német szabadalom. Találmányunk lényegének kifejtése előtt,. azonban szeretnénk az ismert eljárások néhány nehézségéit megem­líteni, egyszersimint azok kritikáján kívül, ta­lálmányunkkal elérhető előnyökre is —• teljes­ség igénye nélkül — rámutatni. A viszonylag egyszerű félvezető-arany metal­lurgiai rendszer miatt ugyancsak egyszerű és ezért igen elterjedt eutektikus félf'Orrasztási módszer megvalósítása sem jár probléma nél­kül, különösen szilícium félvezető elemek ese­tében. A probléma az egyenletes, egész for­rasztási felületire kiterjedő nedvesítés biztosí­tása, azaz, hogy az eutektikus összetételű arany-félvezető olvadék a félvezető elem egész forrasztási felületén egyenletesen képződjön és azt egyenletesen vonja be. Ezt jelentősen megnehezíti a szilícium ele­mek felületét borító igen kemény oxidréteg. Az oxidréteg eltávolítása a jó felfoirrasztás alapvető feltétele. Az automata felforrasztó gépek az oxidréteg eltávolítását mechanikus úton oldják meg. oly módon, hogy vibrátor segítségével a szilicium elemet az aranyréteg vagy lemez felületéhez dörzsölődik. A mechanikus dörzsölés az oxid­réteget feltöri és az eutektikus képződés és ezzel együtt a forrasztás megindulhat. Az eutektikum .megjelenését vizuálisan ellenőrzik. Szalagos kályhában az oxidréteg áttörését sú­lyok segítségével biztosítják. A súly a kazettá­ba helyezett tartót, sziliciumelemet és 'a köz­ben levő arany fóliát szorítja össze. A jó ned­vesítés elősegítését míkid az automata gépek­nél, mind pedig szalagos kályháknál még azzal is elősegítik, hogy a félvezető elem, arany le­mez-tartó rendszert az eutektikum olvadás­pontja fölé melegítik kb. 100—160 C°-fcal. Mindezen megoldások azonban nem adnak tö­kéletes és önmagában megbízható eredményt. Kísérleteinkben — melyek találmányunk lé­nyegéhez vezettek — úgy találtuk, hogy a szo­kásos és ismert Au—Si rendszer helyett célsze­rűbb hármas rendszer alkalmazása. Az Au—Si 5 eutelktiikus arány lehető megtartása mellett, olyan harmadik alkotót alkalmaztunk, amely kétalkotós rendszerbén akár Au-wal, akár Sí­vel is jómihőségű forrasztó anyagnak .alkalmas. E célra jónak titánt, berilliumot és krómot ta-10 láltuk. Ezen anyagoknak még az a céljiakiknak meg­felelő tulajdonságuk is megvan, hogy a félve­zető felülétén levő SÍO2 rétegben beépüléskor, annak szerkezetét lágyítják fellazítják, az j 5 SÍO2 rácsban rácsmódosító kationként hatnak és egyszersmint az Au diffúziója számára a réteget áthatolhatóvá teszik. A forrasztáshoz alkalmazott Au fólia felüle-20 téré visszük fel a jelzett — Ti, Be, Cr — anya­gokat vékony néhány száz '— optimálisan 200— 300 Ä •—• Angsträm vastagságban, akár szín fém, akár arany ötvözet alakban. A Ti, Cr, Be felvitele az Au fóliára külön-25 féle ismert pl. vákuumos párologtatásos mód­szerrel történhet. Majd az így bevont fóliát a bevont felületével a félvezető elemhez illeszt­jük és az ily módon előkészített arany fóliá­val már az iparban szokásos (^automata-) gé­^0 peiken vagy szalagos kályhákban elvégezhető a tulajdonképpeni forrasztás, tehát a félvezető elem és a hordozó összekötése. Természetes, hogy, a Ti, Be, Cr réteget oly K5 módon is kialakíthatjuk, hogy a félvezető fe­lületét előzően (bevonjuk Ti, Gr vagy Be-vel és ezen rétegre visszük fel az Au bevonatot. De a szóban forgó fémekből álló Au ötvözetet is használhatunk, vagy először a hordozót von-40 juk be Au réteggel és erre visszük fel pl. a Ti réteget sitib. Az elmondottakat a könnyebb megértés vé­gett az alábbi példákkal kívánjuk megvilágí­tani. 45 a) példa: A szokásos — általában — 99,99% tisztaságú vagy ennél tisztább Au-iból készített 20—50 g0 /x — célszerűen 25/i — vastag fóliára nagy vá­kuumban (10-6 Hg m /m) 50—500 A — előnyö­sen — 100—150 A vastagságban titánt párolog­tatunk, majd az ily módon Ti-al bevont Au fóliát vákuumtérben 10—15 percig 500 C°-ra ._ felmelegítjük. 55 A szalagot ezután megfelelő méretűre dara­boljuk, majd automata gépen alkalmazzuk oly módon, hogy a titánnal bevont felülete az elem aranyhordozó rendszeriben a félvezető elem felé legyen. A titán jelenléte az eutekti­kum képződéshez szükséges időt-előmelegített állványnál — a szokásos 10—20 nap helyett 5—10 mp-re csökkenti, és az egész felületen «-, egyenletes nedvesítést biztosít. Ha az előkészí-60 2

Next

/
Oldalképek
Tartalom