157949. lajstromszámú szabadalom • Stabil vékonyréteg ellenállása

157949 5 6 mikron higany-nyomás, 5000 voltos nagyságren­dű porlasztó feszültség esetén. A szélső maximá­lis nyomás az, amelyen a porlasztás még megfe­lelően vezérelhető az előírt tűréshatárok között. A fenti fejtegetésekből következik, hogy a mini­mális nyomást a legkisebb lerakási sebesség ha­tározza meg, amely gazdaságosság szempontjá­ból még megengedhető. Miután a szükséges nyo­mást elértük, a 11 katódot villamosan negatívvá tesszük a 12 anódhoz képest. A feszültség, amely szükséges ahhoz, hogy a tantál-alumínium ötvözetből olyan porlasztott ré­teget állítsunk elő, amely alkalmas a találmány céljaira, 1000—6500 voltos egyenfeszültség tarto­mányban van. Ha növeljük a potenciál különb­séget a 12 anód és a 11 katód között, a hatás ugyanaz, mintha növeljük a nyomást, vagyis nö­vekszik a lerakás sebessége és az áram. Ennek megfelelően a maximális feszültséget ugyanazon tényezők megfontolása szabja meg, mint ame­lyek a maximális nyomást vezérlik. Az anód és katód közötti távolság nem kriti­kus. Mindamellett azt a minimális távolságot biz­tosítani kell, amely szükséges a porlasztást lét­rehozó ívkisüléshez. Sok sötét csíkozás van a lét­rehozott ívkisülésben a porlasztás folyamán. Ezen csíkozások közül egyesek jól ismertek és ne­vük is van, mint például a Crooke-féle sötét tér. A porlasztási lépés folyamán a legjobb hatásfok biztosítására a 15 szubsztrátumot közvetlenül a Crooke-féle sötét téren kívül kell elhelyezni, a 12 anódhoz közelebb fekvő oldalon. A 15 szubsz­trátumnak a 11 katódhoz való közelebb helyezé­se rosszabb minőségű fémlerakodást eredmé­nyez. Ha a 15 szubsztrátumot távolabb helyez­zük el a 11 katódtói,"akkor a teljes porlasztott fém egy kisebb töredéke a szubsztrátumon visz­szaverődik és ezáltal megnöveli azt az időt, amely szükséges ahhoz, hogy adott vastagságú lerako­dást állítsunk elő. Megjegyezzük, hogy a Crooke-féle sötét tér helye változik a nyomásban bekövetkezett válto­zásokkal és növekvő nyomással közelebb kerül a katódhoz. Ha a szubsztrátumot közelebb visz­szük a katódhoz, akkor az akadályként hat a gáz­ionok útjában, amelyek bombázzák a katódot. Ennek megfelelően, a nyomást elég alacsony értéken kell tartani, úgy hogy a Crooke-féle sö­tét tér azon a ponton túl legyen, amelynél a szubsztrátum árnyékolná a katódot. Ezen különböző tényezők, vagyis a feszültség, a nyomás, a katód, az anód és a szubsztrátum, kölcsönös helyzetének kiegyensúlyozása, hogy jó minőségű lerakódást kapjunk, a porlasztás terü­letén jól ismert. Visszatérve most részletesebben a tárgyalt példánkra, azáltal, hogy megfelelő feszültséget, nyomást és a különböző elemek megfelelő távol­ságát biztosítjuk a vákuumkamrában, a tantál­alumínium ötvözetet réteg alakjában rakjuk le. amelynek alakját a 16 maszk határozza meg. A porlasztást annyi ideig végezzük, amennyit kiszá mítottunk, hogy a kívánt vastagságot kapjuk. Találmányunk céljára a lerakott réteg alakját és vastagságát a kívánt ellenállás végértéke ha tározza meg. A lerakott réteg kezdeti vastagsá­ga előnyösen 400 A fölött van. Ez az érték 'két tényezőn alapul: először is az ötvözet vastagság az eloxálást követően előnyösen nagyobb 300 A-ná'l, hogy biztosítsuk a folytonosságot és má­sodszor, hogy legalább 100 Ä vastagságolt át­alakítsunk oxiddá, ami la művelet megkönnyíté­se szempontjából előnyös. Nincs felső határ a réteg kezdeti vastagsága szempontjából, ame­lyet az eljárás írnia elő és minden rétegvastag­ság, amely összhangban van a kívánt elienállás végértékkel, megfelelő. Gyakorlati célokra meg­állapítottuk, hogy 4000 A megfelelő, bár 25 000 A vastagságok is a taMknány szerinti tartomá­nyon belül vannak. A porlasztás lépését követően a tantál-alumí­nium, ötvözet réteget megfelelő elektrolitben el­oxálni lehet és ezt a folyamatot mindazon té­nyezőkkel lehet vezérelni, amelyek a hagyomá­nyos eloxálási eljárásoknál előfordulnak. Bárme­lyik szokásos elektrolit, mint például hígított sa­létromsav, bórsav, ecetsav, citromsav, borkősav stb. választhatók mindaddig, amíg kompatibili­sek az ötvözettel, amelyet eloxálni kell és figye­lembe kell venni a struktúra végső használatát. A szokásos eljárás, amelyet követünk, hasonlít a hagyományos eloxálási eljárásokhoz, amelyeknél kezdetben kis feszültséget alkalmaznak, majd nö­velik a feszültséget, úgy hogy konstans eloxáló áramot tartsanak fenn. A találmány szerinti ellenállás gyártásnál az eloxálást mindaddig lehet folytatni, amíg a kí­vánt ellenállás értéket megkapjuk és ezt figyelő, eszköz jelzi, majd az eredményként kapott struk­túra hőkezelléses elő-öregítésnek tehető ki olyan módon, amint azt a 3 159 556 számú USA sza­badalmi leírás ismerteti, vagy bármiilyen módon kezelhető, amely összhangban van végső fel­használásával-Egy találmány szerinti példát az alábbiakban ismertetünk. Az ismertetett példa és ábrák ki­zárólag a találmány tárgyának jobb megértése érdekében szerepelnek a leírásban, míg a talál­mány oltalmi körén belül a szakemberek számos változatot képesek létrehozni. Példa Az alábbiakban példaképpen egy ellenállás ta­lálmány szerinti gyártását ismertetjük. Az 1. ábrán látható katódporlasztó berendezés­hez hasonlót alkalmaztunk, hogy tantál-alumí­nium réteget állítsunk elő. A ténylegesen alkal­mazott készülékben az anód lebegett és a poten­ciál különbséget azáltal tartottuk fenn, hogy a katódot a földhöz képest negatívvá tettük. 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 3

Next

/
Oldalképek
Tartalom