157949. lajstromszámú szabadalom • Stabil vékonyréteg ellenállása
157949 8 Egy üveg mikroszkóp lapot . használtunk szubsztrátumként. A lapot királyvízben főztük, desztillált vízben öblítettük és lánggal szárítottuk, hogy tiszta felületet kapjunk. A kereskedelmi finomságú tantált tárcsa formájában alkal- 5 máztuk, amelynek 10 cm volt az átmérője és gyűrű alakú (99,5% tisztaságú) alumínium-réteget erősítettünk rá olyan módon, hogy az alumínium a tantál tárcsa geometriai felületének 25%-át takarta. A vákuum-kamrát kezdetben 1X10~6 io torr nagyságrendű nyomásig evakuáltuk, majd argont bocsátottunk be 25 mikron higanynyomáson. Az anód és katód távolsága közelítően 6,3 cm volt és a maszkkal ellátott szubsztrátumot a kettő közöitt helyeztük el közvetlenül a Orooke- is féle sötét téren kívül. kb. 4000 volt nagyságú egyenfeszültséget kapcsoltunk a katód és az anód közé és 8 percen keresztül végeztük a porlasztást, ilyen módon létrehozva tantál-alumínium ötvözetből álló réteget, amely közelítően 25 20 atom% alumíniumot tartalmazott és vastagsága 1000 Á volt. A ráporlasztott tantál-alumínium ötvözetet ezután 200 A vastagságú nikrom réteggel és 4000 25 A vastag arany réteggel vontuk be hagyományos vákuum párologtatásos módszerrel. Ezután vezető alakzatot alakítottunk ki a nikrom-arany rétegben, hagyományos cinkográfiai -módszerrel, amihez jód-jodid marartót használtunk. A nikro- 30 mot sósavval távoli to ttuk el. Ezt követően a 13 ellenállások meander alakzatát alakítottuk ki a struktúrában hagyományos cinkográfiai módszerrel, amelynél maratóként 1:1:1 arányban víz, sósav és salétromsav keverékét használtuk. Ezután kenőanyagból levő maszkot alkalmaztunk a szokásos módszerrel a vezető területek fölé és az így kapott együttest 0,01%-os citromsav elektrolitba mártottuk és 30 percen keresztül 40 40 volt feszültségen eloxáltuk. Ezután eltávolítottuk az eloxált együttesről a kenőanyagot és a struktúrát 250 C°-on 5 óra hosszat levegőn hevítettük. Végül az ellenállást szokásos beszabályozó eloxálással a szükséges értékre jusztíroztuk. A kapott ellenállás együttest ezután egyedi ellenállásokra bontottuk és mártó forrasztásos technikával rögzítettük rájuk a kivezetéseket. Ezt követően terhelési vizsgálatot végeztünk 1,3 watt teljesítménynél. Egy hét után azt találtuk, hogy az átlagos ellenállás kb. 0,1%-kal változott. Összehasonlítás céljára megjegyezzük, hogy kiértékeltünk egy csoport tantál-nitrid ellenállást, amelyek a 3 242 006 számú USA szabadalmi leírásban ismertetett eljárással készültek. Ezeknél, 1,3 wattos terheléses próba után a tantál-nitrid ellenállások ellenállása közelítően 2—3%-kal változott. Bár a találmány tárgyát képező megoldást fentiekben részletesen ismertettük és a rajz is szemléltette ezt, az előzőekben ismertetett anyag kizárólag magyarázatként szolgál és nem korlátozza találmányunk, köriét. Nyilvánvalóan számos változat valósítható meg a szakemberek által, de ezek a találmány tárgykörébe esnek, amelyet az igénypontok határoznak meg. Szabadalmi igénypontok 1. Stabil vékonyréteg ellenállás, amely nemvezető , szubsztrátumot és ezen vékony fémréteget tartalmaz, azzal jellemezve, hogy a vékony-35 réteg tanitáÜMalumínium ötvözetből áll, amely 20—60 atom% alumíniumot tartalmaz. 2. Az 1. igénypont szerinti ellenállás kiviteli alakja, azzal jellemezve, hogy a vékony réteg eloxált tantál-alumínium ötvözetből álló réteget tartalmaz. 1 rajz, 6 ábra A kiadásért ielel: a Közgazdasági és Jogi Könyvkiadó igazgatója. 4 7008547. Zrínyi (T) Nyomda, Budapest V., Balassi Bálint utca 21—23.
