157921. lajstromszámú szabadalom • Naftokinondiazidszulfosavésztert tartalmazó tárolható, fényérzékeny anyag

MAGYAR NÉPKÖZTÁRSASÁG SZABADALMI LEÍRÁS 157921 C§! Bejelentés napja: 1967. VII. 26. (KA—1118) Német Szövetségi Köztársaság^beli elsőbbsége: 1966. VII. 27. Közzététel napja: 1970. IV. 30. Megjelent: 1971. IV. 01. Nemzetközi osztályozás: C 07 c 117/00; G 03 c 1/84 ORSZÁGOS TALÁLMÁNYI HIVATAL Bejelentés napja: 1967. VII. 26. (KA—1118) Német Szövetségi Köztársaság^beli elsőbbsége: 1966. VII. 27. Közzététel napja: 1970. IV. 30. Megjelent: 1971. IV. 01. Feltalálók: Prof. Dr. Süs Oskar vegyész, Wiesbaden-Biebrich, Dr. Uhlig Fritz vegyész, Wiesbaden-Biebrich, Schäfer Heinz műszaki előadó, Wiesbaden-Sonnenberg, Német Szövetségi Köztársaság Tulajdonos: Kalle Aktiengesellschaft, Wiesbaden-Biebrich, ' Német Szövetségi Köztársaság Naftokinondiazidszulfosavésztert tartalmazó tárolható, fényérzékeny anyag A találmány tárgya naf tokinondiazidszulf osavésztert tartalmazó tárolható, fényérzékeny anyag. Ismeretes, hogy naf tokinondiazidszulf osavész- 5 terek előállíthatók oly módon, hogy naf tokinondiazidszulf osaiv-kíloridöt valamely fendliai megfelelő oldószerben kondenzálnak. Az így előállított észterek fényérzékeny vegyületek, amely közül sok reprodukciók fotomechanikus úton 10 történő előállításánál a fényérzékeny réteg fényérzékeny anyagaként használható, és némelyik közülük gyakorlati jelentőségre is szert tett. Ismeretes az is, hogy nyomólemezekhez hasz- 15 nált fényérzékeny anyag előállítására olyan észtereket célszerű alkalmazni, amelyeknél a fenolgyök az eredeti fenollal összehasonlítva magasabb, -mintegy kétszeres vagy többszörös molekulasúllyal rendelkezik. Hátrányosnak mutat- 20 kozott azonban, hogy ezekből a viszonylag nagymolekulájú észterekből a legtöbb szokásos oldószerrel az észtert csak kismennyiségben tartalmazó oldatok állíthatók elo. Ezzel a hátránnyal azonban többnyire megalikusznak, mivel a fény- 25 érzékeny észtert tartalmazó anyag kémiai igénybevétele annak nyomólemezhez való feldolgozása során és később, az ezzel az anyaggal készült nyomólemezzel történő nyomtatásnál is szükségessé teszi, hogy az észter bizonyos fokig nehe- 30 2 zen oldódjék, ha a nyomólemez hosszú ideig való használatára súlyt helyeznek. Ismeretes továbbá, hogy a fényérzékeny anyagot naf tokinondiazidszulf osavamid alakjában állítják elő, melynek aminocsoportját kolofóniumból kinyerhető abietil-csoporttal helyettesítik, és ily módon egyszerű szerves oldószerekben oldható, fényérzékeny anyagot kapnak. E fényérzékeny naftokinondiazidszulfosavamidot a gyakorlatban alkalmazzák, azonban olyan nyomólemezek anyagául, amelyekkel nagyobb példányszámot kívánnak előállítani kevéssé alkalmas, mivel e nyomólemezek túl gyorsan elhasználódnak. Azt találtuk, hogy fényérzékeny naftokinondiazid-vegyület állítható elő, amely az eddig ismert hasonló típusú fényérzékeny vegyületeknél szerves oldószerekben jobban oldódik, és jó oldhatósága ellenére alkalmas hagy példányszám-ojt* adó nyomólemezek fényérzékeny anyagának a készítéséhez. A találmány tárgya tárolható, fényérzékeny anyag lenyomatok fotomechanikus úton való készítésére, ahol egy réteghördozóra Szerves oldószerben oldott fényérzékeny naftokinondiazidszulifoisQvészter vain felhordva. A réteghordozóra felvitt oldat legalább 10 súly% .(II) képletű 1,2--naftokinondiazid(—2)-4-szulfosav-kumüfenilésztert tartalmaz. 157921