155489. lajstromszámú szabadalom • Eljárás és berendezés síküveg gyártására

155489 5 6 említeti mélyedés egy-egy részébe mélyed be. Ajánlatos lehet a torony szárait olyképp elhelyezni, hogy azok kapcsolatban vannak a mélyedés fenekével, a mélyedés felső része pedig kondenzátoron át vákuumszivattyúval kapcsolódik >és a fenék közelében gázbevezetés van, amely a torony egyik szárát összekapcsolja nem-oxidálódó gáz forrásával, amely az olvasztott ón említett cirkulálását eredményezi a vákuumtornyon át. Ez a gáz lehet hidrogén, vagy szénmonoxid, vagy nitrogén, vagy ezek keveréke. A találmány szerinti berendezést mindenütt használhatjuk a fürdő mentén és a tisztításnak alávetett ón hőmérséklete 600 és 11O0 C° között lehet aszerint, hogy milyen helyzetű a tartály mentén az a mélyedés, amelyből az ónt kiemeljük. Mégis előnyösnek bizonyult, ha a tisztítás céljából 850 C° feletti ónt emelünk ki a fürdőből. Ezért ajánliatos, hogy a berendezést tűzálló béléssel lássuk el és a találmány további jellemzője az, hogy a torony szárai vagy lábai, valamint a kamra belső szén'béléssel van ellátva. A szénbélés további előnye, hogy az oldott oxigén az ónból eltávozva reakcióba lép a szénnel, szénmonoxidot létesít, amelyet könynyen eltávolíthatunk. A találmány másik kivitelénél a torony egyik lába fúvókában végződik a felső kamra fent levő részénél, ahonnan az olvasztott ónt szétfrecskendezzük a kamrában, a fúvóka nyílás alatt pedig a kamrát kitölti a tömítés, amelyet Rasching-gyűrűkből készítünk. Ezeken a gyűrűkön átesik a szétporlasztott ón, a tisztító hatású vagyis a szennyeződések kibajtására alkalmas gáz pedig olyan bevezető csövön áramlik át, amely a kamrában levő ón felszíne felett végződik. Ilyen módon a tisztító gáz a tömítés alatt áramlik be és így felfelé hatolva ellenáramban mozog a lefelé hulló megolvasztott ónnal. A találmányt részletesebben néhány kiviteli alak kapcsán a rajzokra történő hivatkozással részletesebben magyarázzuk meg. E rajzokon az 1. ábra metszetet mutat a tartály falának egy részén át és ebben a tartályban van az olvasztott ón, a síküveg gyártására alkalmas módon. Az á'bra kutatja, hogy a tartály oldalfalában mélyedés vagy bevágás van, amely mélyedést alkot az ón számára és ez a metszet a 2. ábra I—I vonala mentén van véve. A 2. ábra függőleges metszet az 1. ábra szerinti mélyedésen át és az olvasztott ón tisztítására alkalmas találmány szerinti készüléket mutatja, amely a mélyedés felett van. A 3. ábra a megelőző ábrákban szemléltetett szerkezet megváltoztatott kivitelét mutatja és a 4. ábra a 2. ábrához hasonló feltüntetés és a találmányhoz tartozó egyik készüléket vagy szerkezetet szemlélteti. ^ Hivatkozással a rajz 1. és 2. ábrájára, az 1 fürdő természetszerűleg ónból vagy ónötvözetből van és fajsúlya nagyobb, mint az üvegé. Ezt a fürdőt hosszúkás alakú tartályban helyeztük el, melynek 2 oldalfala és 3 feneke van. Az üveget a fürdő egyik végénél szabályozott mennyiségben vezetjük be és erre a célra hengerelt üvegsZalagot használhatunk, melyet felületi kezelésnek is alávetünk, miközben a fürdőn végighalad. A hengerelt üvegszálag megolvasztható a fürdő felszínén és így olyan úszó üvegréteg keletkezik, amelynek anyaga akadálytalanul szétfolyhat oldalirányban. A fémen úszó üvegtest szalag alakjában halad előre a fürdőn. Más megoldásnál az üvegszalagot úgy hozzuk létre, hogy meghatározott mennyiségű üveget hengerlés nélkül juttatunk a fürdőre és lehetővé tesszük az üvegnek olyan oldalirányú szétfolyását, amely az üvegszálag mozgása folyamán létesül. A rajz szerint a 4 üvegszalagot az 1 fürdőn mozgatjuk az 5 nyíl irányában és miközben az üveg előrehalad, azt lehűtjük amint az kellően merev lesz és ekkor sérülés nélkül távolítjuk el a tartályból. E tartályban az ón felszíne, melyet 6-tal jelöltünk, a 2. ábra szerinti magasságban van és felette megfelelő anyagú védőatmoszférát tartunk fenn. Ez utóbbi a fürdő anyagával szemben inert gázból van és így szennyeződéseket létesít az üvegben, de alkalmas arra, hogy megvédje a fürdő felszínét azokon a helyeken, ahol azt a mély üvegszálag nem takarja. Az üvegszalagot a fürdő végénél kiemeljük a fürdőből. Elkerülhetetlen, hogy szennyeződések így pl. oxidok vagy kén ne jusson a fürdő anyagába és ezek az anyagok a védőatmosziérában is vannak, ahonnan a megolvasztott ónba hatolnak be és ezek az anyagok a fürdőre vitt olvasztott üvegből szabadulnak fel. Ezek a szennyeződések a fürdő ónjával reakcióba lépnek és pl. ónoxidot vagy ónszulfidot létesítenek. Ilyen módon a fürdő anyaga szennyezheti az üveget. A jelen találmány szerint a fürdőből a szenynyeződéséket rendkívül kis értékre szoríthatjuk le olyképp, hogy állandóan eltávolítjuk ezeket a szennyeződéseket a fürdő megolvasztott ónanyagából. Ez az állandó elvonás olyképp létesül, hogy megolvasztott ónt veszünk ki a fürdőből és azt egy tisztító zónán áramoltatjuk át, amelyben az ónt csekély nyomás hatásának tesszük ki, miáltal az oldott szennyeződések az ónból eltávoznak. Ezután a tisztított ónt visszavisszük a fürdőbe. Azt találtuk, hogy előnyös a tisztítást olyan helyről elvezetett ónnal végezni, amelynek hőmérséklete magasabb, mint 850 C°, de megvalósítható a találmány a fürdő más részeiből elvett ónnal is. Ha tisztítás céljából a kivezető végződésnél kb. 600 C°-ú ónt vezetünk el, azt a tisztító zónában melegíthetjük 850 C°-ra, megfelelő fűtőtestek alkalmazásával. A rajz szerint a 2 oldalfal mellett van az a mélyedés, amelyből az ónt elvesszük és ezt a mélyedést a 7 oldalfal, a 8 végfal és a 9 fenék határolják. A mélyedés lényegileg a 3 fenék meghosszabbítását képezi és 10 fedele van, amely a 7 és 8 falak felett helyezkedik el. 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 3