122468. lajstromszámú szabadalom • Részaránytalan vezetőképességű elektródarendszer
123468. 3 A szelénből kis mennyiséget kikenés révén alumíniumlemezre viszünk fel; ez az alumíniumlemez vagy korong a szelén jobb tapadásának elérése céljából szén-5 réteget hord. Ezt a szénréteget szuszpenzióból visszük fel, ami pl. elektroforézis útján történhet, mire a lemezt vagy korongot 10—-15 percen át kemencében kb. 600 C° hőmérsékletre hevítjük, 10 hogy a szén beszáradjon és az alumíniumon jól összefüggő réteget alkosson. Hogy sima, a szelént jól fogva tartó szénreteget kapjunk, mimellett a fölös szénrészecskéket eltávolítjuk, az alut5 míniumlemez vagy korong amaz oldalát, amelyen a szén van, forgó kefével dörzsölj ük. A felvitt szeiénréteg a kívánt vastagságot sajtolás révén kapja. Hogy egészen 20 lapos szelénréteget kapjunk és a szelénnek a sajtolási felülethez tapadását, valamint szennyezéseknek a szelénhez jutását megakadályozzuk, a hordozólemezt vagy korongot a felvitt szelénnel 25 együtt előzetesen két csillámlemezke közé helyezzük, mimellett egyenletes nyomáseloszlásnak a teljes szeiénfelületen való elérése céljából a csillámlemezkék egyikére azbesztlemezt fektetünk. 30 Az elektródarendszer felépítéséhez a következő lépés a szelénréteg felületén az itt jelenlevő, hozzáadott halogenidnek a szilárd, szigetelő fémoxiddá való átalakítása, mely fémoxid a záróhártyát felépítő 35 egyik alkatrész. Ez az átalakítás úgy történhet, hogy vizet, pl. vízgőz alakjában, vagy pedig gőzt engedünk e felületre hatni, miközben az egészet kb. 200 C° hőmérsékletre hevít -40 jük. A halogenid ekkor oxiddá alakul át, mimellett a keletkezett halogénhidrogén elillan. Inkább adagolt átalakulás elérése céljából kívánatos, ha a felületen határozott 45 mennyiségű vizet helyezünk el és ezt azután hevítjük. Mivel azonban ez a víz legnagyobbrészt elillant, mielőtt a halogeniddel reagált volna, célszerű, ha magas forrpontú oldószerrel keverjük, melynek 50 előnye az is, hogy a szelénmasszán jól teríthető ki. Ehhez használhatunk pl. glicerint. A glicerin-vízkeverék viszkózus folyadék alakjában nagy felületen kisvastagságú rétegként vihető fel. 55 A találmány szerint az oxid a felületi rétegben ez esetben is visszamarad, míg a víz, a glicerin és a halogénhidrogén elillannak. Még jobb átalakulást kapunk, mely a felületi rétegbe valamivel nagyobb mely- 60 ségig hatol és ennek folytán jobb záróhártya létesüléséhez hozzájárul, ha a halogenidnek oxiddá való átalakításai nem vízzel, hanem lúgosán reagáló anyag segélyével végeztetjük. E célból használ- 65 hatunk pl. nátronlúgot, kálilúgot vagy lúgosán reagáló sóoldatot. Ugyanazokból az okokból, amelyeket előbb említettünk, célszerű ez esetben is magas forrpontú oldószer alkalmazása, mely a szelén- 70 masszán kitűnően teríthető szét és amihe; ez esetben is glicerint használhatunk. Ha e felvitelt követően ismét hevítünk, a halogenidnek oxiddá való átalakulása nagyobb mélységig megy végbe. Az ott 75 jelenlevő szelénrészben elgőzölög, részbei: pedig a hevítést és a lehűtést követő, z, szervetlen átalakulási termékek, pl. nátrium- vagy káliumhalogenidek eltávolítását célzó mosás során szintén távozik. 80 Előnyösen alkalmazhatunk lúgosaL reagáló szerves anyagokat is, amilyen pl. a piridin, anilin vagy chinolin. ChinoliL alkalmazásánl nem szükséges egyidejűleg magas forrpontú oldószer alkalmazása. 85 Lúgosán reagáló szerves anyagok alkalmazásának előnye, hogy nem kell mosással szervetlen átalakulási termékeket átalakítani. Mosás alkalmazása azonban e; esetben is előnyös lehet, hogy a felületi 90 rétegből fölös szelénrészecskeket eltávolítsunk. Lúgosán reagáló anyagnak vagy víznél, esetleg magas forrpontú oldószerrel keverten való felvitele pl. úgy történhet, hog\ 95 ezeket az anyagokat előbb a már említeti csillámlemezkére visszük fel, mire ezt i. szelénnel érintkezésbe hozzuk. E kezelési követően a lemezt a szelénnel kemencébe helyezzük és még bizonyos időn, pl. 100 10 percen át kb. 200 C° hőmérsékletei hevítjük. A záróhártyára ekkor, esetleg külön pl. műgyantából álló hártya elhelyezése után, a jó vezető elektródát visszük fel, mely íoö pl. bizmutnak, kadmiumnak és ónnak 103 C°-nál megömlő ötvözetéből áll. E;: a felvitel történhet felfecskendezésselpl. 50—-100 mikron vastagságig. Az ilyen elektródarendszert előnyösei no lehet egyenirányítónak használni. Eg\ bizonyos esetben, amikor adalékul zirkonkloridot használtunk, 10 cma hatékony felületnéla következő eredmény érhető el: 2 Volt rákapcsolt feszültség esetébei 115 az egyenirányított áram erőssége legalábL
