201269. lajstromszámú szabadalom • Eljárás pozitív működésű ofszetlemez előállítására
HU 201269 A A találmány tárgya eljárás pozitív működésű ofszetlemez előállítására. A síknyomtatás egyik jelentős módját képezi az ofszetnyomás. Az ofszetnyomás sikeres alkalmazásának feltétele, hogy megfelelő minőségű előérzékenyített ofszetlemez álljon rendelkezésre. Az előérzékenyített ofszetlemez lényegében alumíniumból készült hordozó alaplemezből, és erre felvitt - 2-3 mikron vastagságú - fényérzékeny rétegből áll. Az alumínium alaplemezt a fényérzékeny réteg felvitele előtt különféle, önmagukban ismert kezelésekkel készítik elő. Ezek a kezelések zsírtalanítást, érdesítést, eloxálást, tömítést jelentenek általában. A megfelelően előkészített alumínium alaplemezre viszik fel a fényképészeti (fotomechanikai) úton előállítható nyomóforma kialakítására alkalmas fényérzékeny réteget, majd a rétegzett lemezt szárítjuk. A találmány tárgyát képező eljárás az alumínium alaplemez gyártását és annak előkészítésénél szóbajövő, előbbiekben említett kezeléseket nem érinti, csupán a fényérzékeny réteg felvitelére - kialakítására - vonatkozik. A fényérzékeny réteg felvitelére szóbajöhető ismert módszerek a pergetéssel, a merítéssel, a hengerléssel, az esőfüggönyös eljárással, illetve a porlasztással való rétegzés. Legkorábban a pergetéssel való rétegfelvitel alakult ki és terjedt el. Ez a módszer azonban már elavult, több szempontból korszerűtlenné vált. A merítéses eljárás hátránya, hogy a réteganyag lefolyása miatt nem lehet egyenletes rétegvastagságot kialakítani. Emiatt az így készült ofszetlemez minősége nyomtatásra nem alkalmas. A hengerléses módszer világviszonylatban a legelterjedtebb eljárás. Hengerléssel már megfelelően vékony és egyenletes vastagságú bevonatot lehet előállítani, de az ilyen eljárás foganatosítása során a rétegző egység közvetlenül érintkezik az alaplemezzel, így ennek rezgése, lengése nyomot hagy a bevonatot képező rétegen. Ez azt jelenti, hogy a rétegvastagság helyenként megváltozik, és e körülmény minőségi romlást jelent. A merítéses és a hengerléses módszernél is jelentkezik az a hátrány, hogy a rétegzési folyamatban a réteganyag elszennyeződik, vagy legalábbis az elszennyeződés valószínűsége nagy. Ez azért van, mert a merítéses eljárásnál az előkészített alaplemezeket a réteganyagot tartalmazó kádba mártják be, a hengerléses eljárásnál pedig a réteganyagot cirkuláltatják. A sorozatos bemerítés, illetve a drkuláltatás közben a réteganyagban a fizikai és kémiai szennyeződés feldúsul, ami sem technológiai, sem gazdasági szempontból nem kívánatos. Az előbbiekben vázolt hátrányos körülmények bizonytalanná teszik a fényérzékeny réteg egyenletes vastagságának kialakítását, holott közismert, hogy a rétegvastagság egyenletessége alapvető feltétele az előérzékenyített ofszetlemezek igényes nyomdaipari felhasználásának. Az esőfüggönyös módszer nem tartozik a legelterjedtebb megoldások közé. E módszer alkalmazása mellett is jelentkeznek nagyrészt azok a hátrányok és hiányosságok, amelyeket a korábban említett módszerek kapcsán már leírtunk. Az esőfüggöi nyös módszer sajátos hátránya ezeken túl még az, hogy az ilymódon felvihető réteg lényegesen vastagabb, mint a korszerű diazonium vegyületeket tartalmazó fényérzékeny másoló rétegeknél optimális. Az ismert módszerek felsorolásánál utolsóként szereplő porlasztásos módszer az ofszetlemezek rétegzésénél nem teijedt el, annak ellenére, hogy egyéb felhasználási területeken a hagyományos bevonatképző eljárások mellett, ez is közismert és széleskörűen alkalmazott. Ismeretes a porlasztásos rétegképzésnél az elektrosztatikus tér felhasználása, amelyek révén általában festékmegtakarítás érhető el Ilyen módszerek és eszközök ismerhetők meg például Turbai: Porlasztók című könyvéből (Műszaki Könyvkiadó, Budapest, 1976.), továbbá a 3 281 076 számú US PS-ből. E mószer alkalmazása mellett elvileg kiküszöbölhetők az ofszetlemezek rétegzésénél az előbbiekben vázolt ismert rétegzési módok hiányosságai, hiábi. Az elektrosztatikus térerő hatásával történő rétegzésénél az előbbiekben vázolt ismert rétegzési módok hiányosságai, hibái. Az elektrosztatikus térerő hatásával történő rétegzésnél ugyanis a rétegzőegység nem érintkezik közvetlenül az alaplemezzel, így annak rezgése, lengése nem hagy nyomot a felvitt rétegen, továbbá rétegzés közben a réteganyag nem cirkulál a rendszerben, ezért a szennyeződés fokozódása nem áll fenn. Ilyen körülményekre figyelemmel arra lehet következtetni, hogy az elektrosztatikus rétegképzés alkalmazásával szennyeződésmentes, állandó, egyenletes vastagságú réteg kialakítása válik lehetővé az ofszetlemezeknél megkívánt rétegvastagság-tartományban. A gyakorlatban mégis az tűnt ki, hogy az ismert elektrosztatikus rétegzési módszert a pozitív ofszetlemez előállításánál nem lehet eredményesen alkalmazni. Az eredményes alkalmazást itt kizárja számos, előre nem látható olyan probléma felmerülése, amely problémák más célú, más jellegű bevonatok készítése során fel sem vetődnek. E problémákra a következőkben mutatnak rá. A pozitív működésű ofszetlemez előállításához a találmány szerint is alkalmazni kívánt fényérzékeny réteg egyik fő komponense az O-naftokinondiazik-észter, amely önmagában ismert. Erre vonatozó ismertetést tartalmaz például a 22 31247 számú DE-OS, a 23 31377 sz. DE OS, a 2512 933 sz. DE OS és a 29 44 237 sz. DE OS, valamint a következő nyomtatványok: Stáhl E.: Nyomóforma készítés (Műszaki Kk. Bp. 1985), Radó E.: Ofszetforma készítés (Műszaki Kk. Bp. 1976), Péter Gy.: Szilágyi T.: Ofszettechnológia (Műszaki Kk. Bp. (1978), Nyomdaipari Enciklopédia (Műszaki Kk. Bp. 1979). Az O-naftokinon-diazik-észtert tartalmazó, erősen poláros, fényérzékeny oldat fajlagos villamos vezetése egy-két nagyságrenddel nagyobb az elektrosztatikus porlasztással felvihető folyadékok fajlagos villamos vezetésénél, amelyet a vonatkozó - elektrosztatikus porlasztással kapcsolatot - irodalom 10'13-10'5 ff1 cm'1 tartományban határoz meg. Ennek következtében az általunk alkalmazni kívánt említett komponenst tartalmazó oldat ezzel a módszerrel így nem rétegezhető fel. 2 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 65 2
