200907. lajstromszámú szabadalom • Eljárás fogpótlás előállítására
1 HU 200907 B 2 cirkóniumionos bombázással, a 8 mikrométer vastag dekoratív külső réteg felhordását pedig titán- és cirkónium-nitrid keverékéből, az 1. példában leírtak szerint végezzük. Az előállított fogpótlás azonos műszaki és gyógyászati jellemzőkkel rendelkezik, mint az 5. példában leírt típus. 12. példa Az előállítandó fogpótlás monolit, hídjellegű szerkezet, amelynek alapja króm-kobalt-ötvözet, titánoxi-nitrid dekoratív külső réteggel, továbbá titán és titán-nitid keverékéből álló átmeneti réteggel. A pótlásalap előállítása, polírozása, mosása és vákuumkamrába helyezése az 1. példában leírtak szerint történik. A vákuumkamrához három plazmaforrás tartozik, amelynek elgőzölögtetendő anyagként titánt tartalmaznak. A pótlásalap ionos tisztítása az 1. példában leírtak szerint történik. Ezt követően 200 V negatív feszültséget helyezünk a pótlásalapra, majd bekapcsoljuk a két további plazmaforrást, amelynek íváramerősségét egyenként 80 A erőségűre állítjuk be, a kamrába nitrogént vezetünk, miközben ennek nyomását fokozatosan, l,3xlO'3 Paról-l,3xl0"2 Pa-ra növeljük a 6 mikrométer vastagságé átmeneti réteg teljes kiválásának időtatama alatt. Az átmeneti rétegben a titán-nitridtartalom 0,1 tömeg %- ról 90 tömeg %-ra növekszik. Amikor az átmeneti réteg 6 mikrométeres vastagsága kialakul, a nitrogén-bevezetést leállítjuk és nitrogén-oxigén elegyet vezetünk be (85 térfogat % nitrogén és 15 térfogat % oxigén), miközben a nyomás 6,6x10'’ Pa értékre állítjuk be. Ezt követően 25 mikrométer vastag dekoratív külső réteget alakítunk ki. A műszaki és gyógyászati jellemzők az így előállított fogpótlás esetében megfelelnek a 2. példában adottaknak. 13. példa Az előállítandó fogpótlás monolit, hídjellegű konstrukció, amelynek alapja króm-kobalt-ötvözet, és azon titán- és cirkónium- nitrid keverékéből (50 tömeg % titán-nitrid és 50 tömeg % cirkónium-nitrid) előállított dekoratív külső réteg, továbbá egy tantál- és tantálnitrid keverékből előállított átmeneti réteg helyezkedik el. A pótlásalap előállítása, polírozása, mosása, vákuumkamrába helyezése az 1. példában leírtak szerint történik. A vákuumkamrához három plazmaforrás tartozik, amelyek közül elgőzölögtetendő anyagként az elsőben tantál, a másodikban titán és a harmadikban cirkónium található. Az ionos tisztítás a 10. példában leírtak szerint történik. Ezután a pótlásalapra 100 V negatív feszültséget kapcsolunk, a kamrában nitrogént vezetünk, miközben ennek nyomását fokozatosan l,3xlO'3 Pa-ról l,06x 10'1 Pa-ra növeljük a 4 mikrométer vastag átmeneti réteg teljes kiválási ideje alatt. Az átmeneti rétegben a tantál-nitrid-tartalom a réteg teljes vastagságában 0,01 tömeg %-ról 90 tömeg %-ra növekszik. Amikor az átmeneti réteg a 4 mikrométer vastagságot eléri, bekapcsoljuk a titános és cirkóniumos plazmaforrásokat, miközben az íváramerősségeket egyenként 90 A értékre állítjuk be, a tantálos plazmaforrást leállítjuk, a pótlásalapra 250 V negatív feszültséget kapcsolunk. Ezt követően nitrogént vezetünk a kamrába, miközben a nyomást 5,3x10"’ Pa értékre állítjuk be, majd a titán- és cirkónium-nitrid keverékéből álló dekoratív külső réteget leválasztjuk. Amikor ezen réteg vastagsága eléri a 9 mikrométert, a plazmaforrásokat lekapcsoljuk, leállítjuk a nitrogén-bevezetést, lekapcsoljuk a negatív feszültséget a fogpótlásról, a forgatóberendezést leállítjuk. 10 perc elteltével a pótlás kivehető a kamrából. Az így előállított fogpótlás műszaki és gyógyászati jellemzői megfelelnek a 6. példában leírt típusnak. 14. példa Az előállítandó fogpótlás forrasztott, hídjellegű szerkezet, melynek alapja rozsdamentes króm-nikkelacél és ezüst-cink- forrasz, titán-nitrid dekoratív külső réteggel, valamint króm és króm-nitrid keverékéből álló átmeneti réteggel. A pótlásalap előállítása és molása all. példában leírtak szerint történik. Ezt követően a pótlásalapot egy vákuumkamrában a forgatóberendezés dobjára helyezzük. A vákuumkamrához három plazmaforrás tartozik melyek közül elgőzölögtetendő anyagként az elsőben króm, a másik kettőben titán található. A vákuumkamrát l,3xl03 Pa nyomásra légmentesítjük, a forgatóberendezést bekapcsoljuk, a pótlásalapra 700 V negatív feszültséget kapcsolunk és az ionos tisztítást 4 percen keresztül végezzük. Ezután 30 V negatív feszültséget kapcsolunk a pótlásalapra, a plazmaforrással 90 A íváramerősséget állítunk be és a kamrába nitrogént vezetünk. A nitrogén nyomását fokozatossan 1,3x10' 3 Pa-ról 3,9xlO"2 Pa-ra növeljük a 4 mikrométer vastag átmeneti réteg teljes kiválási ideje alatt. A króm-nitrid- koncentráció az átmeneti réteg vastagságában 0,01 tömeg %-ról 90 tömeg %-ra növekszik. Ezen réteg mikrokeménysége 4X104 MPa-ról 2,6x104 MPa értékre növekszik. Amikor az átmeneti réteg vastagsága eléri a 4 mikrométert, bekapcsoljuk a két titán- plazmaforrást, ezekben egyenként 90 A íváramerősséget állítunk be, a pótlásalapokra 180 V negatív feszültséget kapcsolunk és a króm-plazmaforrást lekapcsoljuk. Ezt követően nitrogént vezetünk a kamrába, melynek nyomását 6,6x10'’ Pa értékre állítjuk be, és a titán-nitridből álló, 10 mikrométer vastag dekoratív külső réteget leválasztjuk. Amikor ez a réteg eléri a 10 mikrométer vastagságot, a plazmaforrásokat lekapcsoljuk, a nitrogénbevezetést leállítjuk, lekapcsoljuk a feszültséget a pótlásról és leállítjuk a forgatóberendezést. Az így előállított fogpótlás műszaki és gyógyászati jellemzői megfelelnek az 1. példában szereplő típus adatainak. 15. példa Az előállítandó fogpótlás fonrasztott, hídjellegű szerkezet, melynek alapja rozsdamentes króm-nikkelacél és ezüst-cink- forrasz, cirkónium-nitrid dekoratív külső réteggel, króm és króm- nitridkeverékéből álló átmeneti réteggel és króm védőréteggel. A pótlásalap előállítását a 11. példában leírtak szerint végezzük, hasonlóképpen a mosást is. Ezt követően a pótlásalapot egy vákuumkamrában a forgatóberendezés dobjára helyezzük. A vákuum-5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 65 9
