198246. lajstromszámú szabadalom • Eljárás és berendezés felületek alakjának, alakváltozásainak vagy alakhibáinak háromdimenziós meghatározására a Moire-jelenség segítségével, inkoherens fény alkalmazásával

HU 198246 B 6 Az un. protekciós moiré eljárás ill. en­nek megvalósítására szolgáló berendezés úgy van kialakítva, hogy egy egyenközű rács ké­pét a vetítő objektív a vizsgált felületre ké­pezi le, míg egy második objektív a felületen kialakult csíkos rajzolatot egy másik rácsra képezi le, ahol a moiré-jelenség létrejön. Bi­zonyítható, hogy a moiré-csikok a szemlélőtől azonos távolságban lévő pontokat összekötő vonalak. Ily módon a moiré-ábra szintvonalas térkép gyanánt használható. A moiré-csikok leszámlálása után a moiré-csikoknak megfelelő és közel állandó mélységméret ismeretében a test mélységi méretei (a fénykép síkjára me­rőleges irányú méretek) meghatározhatók. Az említett projekciós moiré eljárás előnye, hogy alkalmazásával nagyobb mélységélesség érhe­tő el, mint az árnyék moiré eljárással. Ezen kívül az objektivek kép és tárgytávolságé­­nak megváltoztatásával a kivetített csíkok osztása és igy a mérés érzékenysége is szé­les határok közölt változtatható. A projekciós moiré eljárás hátránya viszont, hogy kizáró­lag diffúzán visszaverő felületek vizsgálatára alkalmas. A moiré interferometria néven ismeretes mérési eljárás rendkívül érzékeny és nagy­pontosságú eljárás, amely az interferenciás és a moiré eljárás együttes alkalmazásán ala­pul. A mélységméretnek a mikrométer tört részei nagyságrendjébe eső változásai már kimutathatók ezzel a mérési módszerrel. A mérés alapelve az, hogy a korábbiak során az interferenciás mérési módszerek ismerte­tésénél elmondott módon kialakuló interferen­cia csikókat használják fel a moiré-jelenség létrehozására. Ennek az eljárásnak a hátránya az, hogy kizárólag tükrösre polírozott felületek vizsgálatára alkalmas és hogy csak a mikro­méter nagyságrendű mélységméretek érzékel­hetők ezen módszer alkalmazáséval. További hátránya abban van, hogy az eljárás bonyo­lult és költséges berendezéseket igényel. Célkitűzésünk, hogy a találmány szerinti eljárás és az eljárás megvalósítására szolgáló berendezés útján az ún. reflexiós moiré-eljá­­rás, az árnyék moiré eljárás, valamint a pro­jekciós moiré eljárás kombinációjával ezen eljárások valamennyi előnyét egyesítsük, a felsorolt hátrányaikat kiküszöböljük és ily módon olyan új komplex vizsgálati módszer alkalmazását tegyük lehetővé, amely a moiré eljárással történő felületvizsgálatok esetében, - kiemelten az orthopédiai alkalmazás terüle­tén - tehát élő emberi testek vizsgálata ese­tén biztosít különleges előnyöket. A talál­mány szerinti eljárás azonban egyéb, gépé­szeti, egészségügyi, iparművészeti gyártmá­nyok felületének vizsgálatánál és mérésénél is jelentős előnyöket biztosit. Az ismert és fentebb részletesen leírt eljárások tanulmányozása sorén ugyanis fel­ismertük, hogy az árnyék-moiré eljárás kom­binálható a reflexiós moiré eljárással, vala­mint a projekciós moiré-eljárással és ezen új kombinációk eredményeként kapott moiré-csi­kok mind szabadszemmel, mind fényképezés­sel vizsgálhatók és a vizsgálat adatai szám­szerű mérés céljára is felhasználhatók. A ta­lálmány szerinti eljárás és az eljárás megva­lósítására szolgáló berendezés tehát a refle­xiós moiré-eljárás, az árnyék moiré eljárás és a projekciós moiré eljárás kombinációján alapszik, amely olyan komplex vizsgálati mód­szereket tesz lehetővé, amelyekkel végzett felületvizsgálatok ez idáig csak a méréstech­nika más területein alkalmazott különleges eljárásokkal voltak elvégezhetők. Ilyen nem várt új előny két példáját említjük az alábbiakban: A holografikus méréstechnika területén ismei't kétexpozieiós eljárás a reflexiós és a projekciós moiré eljárással is megvalósítható. A vizsgált felület két állapotában (elmozdulás előtti és vi iá ni, vagy deformáció előtti és utáni állapotában) egy-egy csíkozott felvételt készítünk, azonos képkockára, a két csíkozat fedéséből moiré-csikok alakulnak ki és ezek a változást (elmozdulást vagy deformációt) igen érzékenyen jelzik. Ilyen módon kimutat­ható pl. az emberi test mozgása lélegzetvétel során, vagy stimulátor alkalmazása közben. Kimutatható továbbá pl. egy láb és a róla készült sámfa különbsége. További példaként említjük egy mester­darab és a róla készült másolat eltérésének vizsgálati lehetőségét. Kimutathatók a terhe­lés, vagy rezgés útján okozott deformációk különböző gyártmányokon stb. A találmány szerinti eljárás és az eljá­rás megvalósítására szolgáló berendezések alkalmazásának másik igen előnyös lehetőségét a számítógéppel tervezett felületek vizsgálatánál való alkalmazhatósága alapján hangsúlyozzuk. Mint ismeretes, a holográfia-technikában mér alkalmaznak olyan eljárást, melynek sorén számítógéppel tervezett felületek hologram-képét hozzák létre anélkül, hogy maga a felület ténylegesen elkészült volna. A moiré­­tochnikában a projekciós moiré eljárás segítségével ez az eljárás ugyancsak megva­lósítható. A találmány szerinti eljárás lényege ab­ban van, hogy a számítógépes tervezéssel kialakított felületre vetített alkalmas rajzola­tú rács képének az adott felületen deformált vonalait a számítógéppel számoljuk ki és a számítógép vezérlésű rajzológépen készítjük ei. Ennek fényképét a vizsgált, ténylegesen elkészült felületre révitt csikók képével hoz­zuk fedésbe és az így kapott moiré-csikok a tényleges felületnek a számítógéppel terve­zett felülettől való eltérését jelzik. A találmány szerinti eljárással végrehaj­tott mérés ebben az esetben azt az előnyt biztosítja, hogy nem szükséges az elméletileg helyes felületet ténylegesen elkészíteni ah­hoz, hogy az eltérést ki lehessen mutatni. 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 65 5

Next

/
Thumbnails
Contents