174653. lajstromszámú szabadalom • Nagyfrekvenciás raszter szabálytalan raszterelem-struktúrával és eljárás a raszter előállítására
magyar NÉPKÖZTÁRSASÁG SZABADALMI LEÍRÁS Bejelentés napja: 1974.III.il. (VE—755) 174653 Nemzetközi osztályozás: C 03 C 15/00 ORSZÁGOS TALÁLMÁNYI HIVATAL Közzététel napja: 1979.VII.28. Megjelent: 1981.11.15. Feltaláló: Andreeva Viktoria Ivanovna, mérnök, Popova, Alexandra Ljudovikona, mérnök, Lapatukhin Veniamin Semenovich, mérnök, Moszkva, Szovjetunió Szabadalmas: Vsesojuzny Nauchno-Issledovatelsky Institut Komplexnykh Problem Poligrafii, Moszkva, Szovjetunió Nagyfrekvenciás raszter szabálytalan raszterelem-struktúrával és eljárás a raszter előállítására 1 2 A találmány a nyomdaipar területére vonatkozik, különösen pedig nagyfrekvenciás raszter szabálytalan raszterelem-struktúrával és eljárás a raszter előállítására. Rasztereket széles körben alkalmaznak nyomóformák fotografikus előállítási folyamataiban féltónusos képnek raszterképpé való átalakítására szabálytalan raszterelem-struktúrájű kép visszaadása céljából. A szabálytalan raszterelem-struktúrájű nagyfrekvenciás raszterek a már régóta ismert és használt szabályos raszterelem-struktúrájű raszterekkel szemben számos előnyös tulajdonsággal rendelkeznek, amelyek közül a legfontosabb, hogy feloldóképességük jobb. A szabálytalan raszterelem-struktúrájú raszterek ezen tulajdonsága az átvitt képrészletek élességének és felbontásának jelentős mérvű növelését teszi lehetővé, amikoris a reprodukció során a képhatás egészében véve is javul. Ismert már olyan, szabálytalan raszterelem-struktúrájú raszter, amelyet plánparallel üveglap képez, melynek mindkét oldala matt kiképzésű. A matt oldalak érdekességét 0,32 és 033 Mm közötti Ra érték jellemzi. A szóbanforgó raszter kielégítő feloldóképességgel rendelkezik, de az ismert raszterekkel visszaadott feketedési tartomány csak kicsi, és ez az eredeti képek reprodukcióját nehezíti. Ismert más eljárás is szabálytalan raszterelemstruktúrájú nagyfrekvenciás raszterek előállítására, amelynél az üveglapot hidrogén-fluorid gőzökben kétoldalról marták. Az üveglapot egészen addig kezel-174653 ték a savgőzökben, ameddig olyan finom szemcseszerkezetet el nem értek, amelyhez 032 és 033 pm-es Ra érdességi szám tartozik. Ez a raszterelőállítási eljárás jelentős hátrányokkal járt. A hidrogén- 5 -fluorid egyenetlenül felszálló gőzei az üvegmarás során megnehezítették a kezelt lap teljes felületén az egyenletes statisztikus érdességi Ra középérték biztosítását. Ez a jelenség a raszterképszerkezet statisztikus átlagos karakterisztikájának az inhomogenítását idéz- 10 te elő és ez a raszterkép jóságát rontotta. A hidrogén-fluorid gőzzel végzett kezelés következtében az üvegfelület finomszerkezete mattá vált. A raszter felületi érdességének ilyen jellege esetében a raszterral átvihető feketedési tartomány alacsony 15 értékű (mintegy 0,7-es) volt. Célunk a találmánnyal az említett hátrányos tulajdonságok elkerülése. A találmány feladata olyan átlátszó nagyfrekvenciás raszter kifejlesztése, amelynél az egész felület 20 átlátszó, és érdességét egyetlen egyértelmű statisztikus Ra középérték jellemzi, és amelyet olyan eljárás útján lehet előállítani, amely az említett típusú rasztert hozza létre. Ez a raszter képes diszkrét képeknek a regisztráló fotografikus rétegre történő 25 átvitelére, feloldóképessége nagy és alkalmas a normál feketedési tartományok visszaadására is. Ezt a feladatot azáltal oldjuk meg, hogy a szabálytalan raszterelem-struktúrájú nagyfrekvenciás raszter üveglapból áll, és mindkét felülete átlátszó, de érdes, 30 a találmány szerint ezen érdesség Ra-ért ékei 0,20 és 0,26 Mm közé esnek.
