174653. lajstromszámú szabadalom • Nagyfrekvenciás raszter szabálytalan raszterelem-struktúrával és eljárás a raszter előállítására
3 174653 4 Az ilyen raszternak körülbelül 25 mm—‘-es feloldóképessége van, képes diszkrét képeknek a regisztráló fotografikus rétegen történő létrehozására és feketedési tartományának átvitele 1,0 és 1,2 között van. A szabálytalan raszterelem-struktúrájú nagyfrekvenciás rasztert célszerűen olyan eljárással állíthatjuk elő, amelynek során egy üveglap mindkét oldalát hidrogén-fluoriddal maijuk, és az üveglapot a találmány szerint a marást megelőzően mindkét oldalán egyenletes felületi struktúra eléréséig csiszoljuk, az ezt követő marást pedig többszörösen megismételjük, míg végül 0,20 és 0,26 pm között lévő felületi érdességi Ra értéket kapunk. A javasolt eljárás következtében olyan átlátszó rasztert kapunk, amely a regisztráló fotografikus rétegen képes nagyfrekvenciás raszterkép létrehozására, feloldóképessége 26 mm—1 értékű, feketedési tartománya pedig 1,0 és 1,2 között van. Az üveglapot a találmány szerint legalább háromszor maijuk. Ha az üveglapot háromnál többször marjuk, ezzel biztosíthatjuk az adott érdességi érték egyenletes felületi eloszlását is. A találmány egy kiviteli változata szerint az üveglapot olyan oldatban maijuk, amely négy térfogategység hidrogén-fluoridot és egy térfogategység kénsavat tartalmaz. A találmány egy másik változata szerint az üveglapot olyan oldatban maijuk, amely három térfogategység hidrogén-fluoridot és egy térfogategység foszforsavat tartalmaz. A találmány egy újabb változata szerint az üveglapot olyan oldatban marjuk, amely négy térfogategység hidrogén-fluoridot, egy térfogategység kénsavat és egy térfogategység vizet tartalmaz. A fenti oldatok alkalmazása lehetőséget nyújt a teljes lapfelület egyenletes marására, és egyértelmű érdességi elosztás létrehozására. A találmányt a továbbiakban részletesebben újuk le, amelyből a szabálytalan raszterelem-struktúrájú nagyfrekvenciás raszter további előnyös tulajdonságai és az ilyen raszterek előállítási módja jobban kitűnik. A szabálytalan raszterelem-struktúrájú nagyfrekvenciás rasztert plánparallel üveglapból készítjük, amelynek mindkét felületén azonos felületi érdesség mérhető, amelynek értéke 0,20 és 0,26 /am között van. Az érdesség mértékét ismert módon egy Ra értékkel jellemezzük, amely a közepes profilvonaltól számítót kvandratikus eltérések átlagát jelenti. A találmány szerint javasolt raszternél az említett érdességhez a teljes üveglapfelületen azonos statisztikus Ra átlagérték tartozik, és ezzel a raszterkép statisztikus átlagkarakterisztikájának homogén jelleget biztosítottunk. A raszter nagy értékű, körülbelül 25 mm‘-es feloldóképességét, a raszterral visszaadható normális értékű feketedési tartományt és azt a tulajdonságot, amely szerint a raszter képes a regisztráló fotografikus rétegen diszkrét képszerkezet létrehozására, azáltal éljük el, hogy a raszter felület átlátszó és érdességének Ra értéke 0,20 és 0,26 /am között van. A találmány szerint a szabálytalan raszterelem-struktúrájú nagyfrekvenciás rasztert az alábbi úton hozzuk létre. Egy 1 és 10 mm közötti vastagságú plánparallel üveglapot mindkét oldalán csiszolunk, és ezáltal lehetővé tesszük, hogy a felületen az érdességnek mindenütt azonos statisztikusan Ra értéke legyen amely paraméter határozza meg a raszterral készített raszterkép raszterelemeinek méreteit és frekvenciáját. Ezzel a kezeléssel az üveglap felületi finomszerkezet azonban még matt marad, és az ilyen finomszerkezetű raszterek alkalmazásánál fényszóródás következik be amely a féltónusos kép feketedési tartományát csökkenti. Abból a célból, hogy javított átlátszóságú felületi érdességet kapjuk, a csiszolt felületet marásnak kell alávetnünk. Marószerként, mint megállapítottuk, a találmány szerint célszerű olyan oldatot alkalmazni, amely négy térfogategység hidrogén-fluoridot, és egy térfogategység kénsavat tartalmaz, vagy olyan oldatot, amely három térfogategység hidrogén-fluoridot és egy térfogategység foszforsavat tartalmaz vagy olyan folyadékot, amely négy térfogategység hidrogénfluoridot, egy térfogategység kénsavat és egy térfogategység vizet tartalmaz. A marást nagy felületi egyenletességű finonszerkezetű raszterstruktúra elérése céljából többször megismételjük. Az üveglapot célszerűen legalább háromszor maijuk. Az üveglap egyszeri marása eredményeként durvaszemcsézetű felületet kapunk, és ez csökkenti a raszter feloldódépességét és rontja a raszterkép vizuális áttekinthetőségét. A marást öblítéssel felváltva végezzük. A kezelést egészen addig végezzük, ameddig átlátszó, és 0,20 és 0,26/am közötti Ra érdességi értékű felületet nem kapunk, amely már alkalmas a regisztráló rétegen diszkrét kép létrehozására is. Ezen kombinált kezeléssel olyan szabálytalan raszterelemstruktúrájú nagyfrekvenciás rasztert hozunk létre, amely nagy értékű 25 mm—‘-es feloldóképességgel, 1,0 és 1,2 közötti normál átvitt feketedési tartománnyal és szabálytalan (felületét, alakját és számát tekintve változó) raszterelemekből alkotott finomszemcsés diszkrét struktúrájú leképzési tulajdonságokkal rendelkezik. A találmány szerinti rasztert kontaktmásoló berendezésekben alkalmazhatjuk. Az átlátszó nagyfrekvenciás rasztert felhasználhatjuk művészi képek reprodukcióinál, geometriailag bonyolult leképzések esetében és kis képrészletek gyakori előfordulásakor, mivel az ilyen raszter nagy feloldóképessége és kis moaréképzése következtében az átviteli pontosság megnövelését teszi lehetővé. 1. példa Plánparallel üveglap mindkét oldalát csiszolópor felhasználásával 40 percen át csiszoljuk. Gondos öblítés után a csiszolt lapot az alábbi összetételű oldatban vegyi kezelésnek vetjük alá: négy térfogategység hidrogén-fluorid, egy térfogategység kénsav. A marást és az ezt követő öblítést öt ízben megismételjük. Az üveglap felülete ekkor átlátszóvá válik és érdességének Ra értéke 0,22 /am lesz. Az említett kezeléssel olyan szabálytalan raszterelem-struktúrájú átlátszó rasztert kapunk, amelynek feketedési tartománya 11 és 1,2 között van és feloldóképessége 25 mm—f értékű. 2. példa Plánparallel üveglap mindkét oldalát csiszolópor felhasználásával 40 percen át csiszoljuk. Gondos öblítés után a csiszolt lapot az alábbi összetételű oldatban 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 65 2
