173401. lajstromszámú szabadalom • Eljárás síkalakzatok, különösen textil síkalakzatok nemesítő kezelésére
9 173401 10 sugárral, amely a kelmét 5 mm átmérőjű, 12 mm osztástávolságú körkörös mintázatnak megfelelően járja be, így tehát szabad gyökök e mintázatnak megfejelő helyi eloszlásban képződnek. A szövött kelmét ezután 45 C° hőmérsékletű 25%-os vizes akrilsavoldatban 15 percen keresztül kezeljük, s ennek következtében a második besugárzásnak megfelelő mintázatú, egyidejűleg helyi zsugorodással is járó ojtás történik, amely a szövött kelme ornamentális struktúramintázatát eredményezi. (4. ábra) A kezelés végén öblítést és szárítást is alkalmazunk. A fenti módon tartósan nemesített poliamid/poliészter szálanyagú szőtt kelmét nyerünk, amely fokozott színezhetőségű, jó nedvességaffinitású és terjedelmes benyomást kelt. Az ilyen kelmék különösen jól alkalmazhatók divatos, kellemes öltözködésfiziológiai tulajdonságokkal bíró ruházati cikkek előállítására. 6. példa 50% poliakrilnitril és 50% poliamid szálasanyag-keverékből álló 160 g/m2 felülelsúlyú nemezeit (non woven) kelmét monomer metilmetakriláttal átitattuk és 80% tömegnövekedésre kinyomtuk. A kelmét ezután elektrongyorsító homogén sugármezejében 300 keV energiájú elektronokkal 3 * 106 rád dózisra egyenletesen besugároztuk, amelynek következtében egyrészt a monomer rnetilmetakrilát polimerizálódott, másrészt a nemezeit kelmében szabad gyökök keletkeztek. Az utóbbiak meghatározott hányadát fűtött alakos hengerrel helyileg szétroncsoltuk. A helyi gyökroncsolást követően a kelmét 60% sztirolt és 40% metanolt tartalmazó 35 C° hőmérsékletű alkoholos sztirololdatban 15 percig kezeltük. Ennek következtében a sztirol helyi ojtásos beépülése és helyi zsugorodás következett be, így felülettexturált nemezeit kelmét nyertünk, amely különösen jó rothadásállékonysága és savállósága révén tűnt ki és előnyösen műszaki célokra alkalmazható. 7. példa 60% poliakrilnitril és 40% poliészter szálkeverékből álló 140 g/m2 felületsúlyú 2,00 m széles szőtt kelmét árnyékolósablon alkalmazásával elektrongyorsító segítségével 300 keV energiájú elektronokkal 5 • 106 rád dózisra helyileg besugároztuk. A kelmét ezután 15 percen keresztül sztirolgozben kezeltük, és ennek során helyi ojtás, s ezzel együttjáróan helyi zsugorodás lépett fel, amely utóbbi 120C°-on foganatosított forrólevegős kezeléssel még intenzívebbé vált. A fenti módon ornamentális struktúramintázattal bíró kelmét nyertünk, amelyet ezután elektrongyorsító homogén sugármezején vezettünk keresztül, majd ezt követően 15 percig 40 C°-os 50%-os alkoholos sztirololdatban kezeltünk. (6. ábra) A maradék monomerek eltávolítása után különösen vízálló szőtt kelmét nyertünk. 8. példa 70% pamutfonal és 30% polipropilén fonal keverékéből álló 180 g/m2 felületsúlyú nemezeit kelmét elektrongyorsító segítségével és 1 mm vastag alumíniumlemezből készített, meghatározott mintázat szerint kialakított áttörésekkel ellátott árnyékolósablon alkalmazásával helyileg besugároztunk, ahol is az elektronok energiája 300 keV volt, és az adszorbeált dózis 1,3 • 106 rád volt. Közvetlenül a helyi besugárzást követően forrási hőmérsékleten levő 25%-os vizes akrilsavoldattal 10 perces kezelést végeztünk, amelynek eredményeként az akrilsav ojtásos helyi beépülése következett be. E kezelés után a kelmét ezúttal elektrongyorsító homogén sugármezejében 1,8 • 106-on rád dózissal ismételten besugároztuk, majd 10 percen keresztül forrásban levő 25%-os akrilsavoldattal kezeltük. (7. ábra) Pamut/polipropilén-összetételű, fokozott szilárdságú nemezeit kelmét nyertünk, amely mártás útján jól színezhető és ezen túlmenően terjedelmes jelleget mutat. 9. példa 70 fx vastagságú poliamidfóliát elektrongyorsító árnyékolósablonnal helyileg takart sugármezejében 25 keV energiájú elektronokkal 6 • 106 rád dózisra helyileg besugároztunk, majd a besugárzott fóliát 60 C* hőmérsékletű 30%-os vizes akrilamid oldattal 10 percen át érintkeztettünk. Ezután vízöblítést alkalmaztunk, majd a fóliát 3 percen keresztül 25 C° hőmérsékletű 15%-os vizes akrilsavoldattal kezeltük. Ezt követően 3 • 106 ra dózissal ismételt, azonban egyenletes besugárzást végeztünk. (8. ábra) A fenti kezelés eredményeként ornamentális mintázattal rendelkező, jól színezhető, különösen dekorációs célokra alkalmas poliamidfóliát nyertünk. 10. példa Poliamidszálakból álló padlóburkolatot elektrongyorsítóval 1 MeV energiájú elektronsugárzással 7 • 106 rád dózisra sugároztunk be, majd ezután a képződött gyököket fűtött alakos henger segítségével helyileg szétroncsoltixk. Ezen helyi gyökroncsolás után a padlóburkolatot 10 percen keresztül forrásban levő 28%-os vizes akrilsavoldattal érintkeztettük. Ezután nyomóhengerpár alkalmazásával a padlóburkolatot 120% tömegnövekedésre áhított uk be és elektrongyorsító ezúttal homogén sugármezejében 2 • 106 rád dózisra ismételten besugároztuk. (10. és 12. ábra) A padlóburkolatot 30C*-on vízzel öblítettük és nátriumionokkal előállítottuk a kívánt nátriumsót. Ezt követően bázi- SGS festékkel színeztük. Eredményképpen részben színezett, hosszú időn keresztül szennytaszító és antisztatikus padlóburkolatot nyertünk, amely terjedelmes benyomást kelt. 11. példa 160 g/m2 felületsúlyú poliészter anyagú szőtt kelmét homogén elektronsugárzással 107 rád dó5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 65 5
