173401. lajstromszámú szabadalom • Eljárás síkalakzatok, különösen textil síkalakzatok nemesítő kezelésére

11 173401 12 zisra egyenletesen besugároztunk. Ezt követően a képződött reakcióképes csírákat (szabad gyököket, peroxidokat, hidroperoxidokat) alakos henger se­gítségével helyileg alkalmazott hőhatás révén szét­roncsoltuk, és a kelmét 15 percen keresztül forrás­ban levő 12%-os vizes akrilsavoldattal érintkeztet­­tük. 25 C°-os vízzel intenzív öblítést végeztünk, majd a kelmét 3 percig 38 C*os 20%-os vizes akrilamid oldattal érintkeztettük. Ezután a kelmét 100% tömegnövekedésre kinyomtuk, majd elektron­gyorsító segítségével 2 • 106 dózisra egyenletesen besugároztuk. (11. ábra) Ily módon részben színez­hető, jó nedvességaffinitású terjedelmes, szennyta­szító tulajdonságú poliészterkelmét nyertünk, amely ruházati termékek előállítására alkalmas. 12. példa Pöliamidselyem anyagú síkhurkolt kelméből álló 100 g/mJ felületsúlyú 1 síkalakzatot elektron­gyorsító homogén 2 sugármezejében 0,3 MeV ener­giájú elektronokkal 2 • 106 rád dózisra sugároztunk be, majd ezután az 1 síkalakzatot folyamatosan 15%-os akrilsav-oldatot tartalmazó 3 ojtófürdőn vezettük át. Az érintkeztetés időtartamát 10 percre állítottuk be. Ezen kezelés során az akrilsav egyenletes ojtásos beépülését értük el. Az 1 síkalakzatot, ezt követően helyi gyökroncsoló esz­közként alkalmazott fűtött alakos 8 hengerrel érintkeztettük, amelynek következtében az 1 sík­alakzatban még meglevő szabad gyököket helyileg szétroncsoltuk. 10 percen keresztül 12%-os akril­­amidsawal történő érintkeztetést végeztünk, és minthogy az akrilamid ojtásos beépülése csak azokon a helyeken következett be, ahol az elő­zőekben alkalmazott 8 hengerrel a képződött szabad gyököket helyileg nem roncsoltuk szét, így helyi zsugorodás lép fel, amely struktúramintázatot eredményez. E struktúramintázatot elektrongyorsító homogén 2 sugármezejében foganatosított ismételt besugárzással fixáltuk. Az 1 síkalakzatot végül 5 öblítőfürdőben kimostuk, majd megszárítottuk és felcsévéltük. Eredményképpen hidrofil tulajdonságú, strukturált, antisztatikus és részlegesen színezhető kelmét nyertünk, amely különösen jól felhasz­nálható ingek, kötények és blúzok textil­anyagaként. (13. ábra) 13. példa 250 g/ms felületsúlyú, 50% poliamidszál és 50% poliészterszál keverékéből álló síkalakzatot elek­trongyorsító homogén sugármezejében 0,5 MeV energiájú elektronokkal 2 * 106 rád dózisra sugá­roztunk be. Ezt követően járulékos helyi besu­gárzást is végeztünk, amelyet 1 mm vastagságú alumíniumlemezből készült, 8 mm átmérőjű, egy­mástól 16 mm osztástávolságban elrendezett kör alakú áttörésekkel ellátott árnyékolósablonnal foga­natosítottunk 5 * 106 rád dózissal. Az említett besugárzásokat követően a kelmét 25 C*-os 20%-os vizes akrilamidoldattal 8 percen keresztül érint - keztettünk. A mosást követően hidrofil tulaj­donságú, különösen felsőruházati termékekhez al­kalmazható strukturált síkalakzatot nyertünk. (14. ábra) 14. példa 50% poliamidból és 50% poliészterből álló kevert, 250 gjm2 felületsúlyú síkalakzatot elektron­gyorsító alkalmazásával 0,5 MeV energiájú elektro­nokkal 5 * 106 rád dózisra egyenletesen sugároz­tunk be. A kelmét ezután fűtött alakos hengerrel érintkeztettük, ezt követően 2 • 106 rád dózisra ismét besugároztuk. 25 C°-os 20%-os vizes akril­amidoldattal 8 percen át történt érintkeztetés után a kelmét intenzíven kimostuk, megszárítottuk. Felsőruházati termékekhez jól alkalmazható hidrofil tulajdonságú strukturált síkalakzatot nyertünk (15. ábra) A példákban sugárkémiai eljárással iniciált oj­tásos kopolimerizációt a találmány értelmében ojtásos kopolimerizáció iniciálására alkalmas bár­mely ismert kémiai eljárás segítségével is iniciál­­hatjuk. 15. példa 50% poliamidszál és 50% polészterszál keveré­kéből előállított, 250 g/m2 felületsúlyú síkalakzatot elektrongyorsítóval 1 MeV energiájú elektronokkal 0,5 mm vastag alumíniumlemezből készített árnyé­kolósablon alkalmazásával helyileg besugároztunk. Minthogy ez esetben az árnyékolósablon vastagsága az alkalmazott 1 MeV energiájú elektronok ható­sugaránál ill. hatótávolságánál kisebb, így a síkalak­zatot egyetlen besugárzás során egyenletes besu­gárzást és helyi sugárhatást is nyer. Az ilyen módon foganatosított besugárzást követően a sík­alakzatot 20 C°-os 20%-os akrilamid oldattal 8 per­cen keresztül érintkeztettük. Mosás után felső­­ruházati termékek anyagaként jól felhasználható hidrofil tulajdonságú strukturált síkalakzatot nyer­tünk. A mellékelt rajz ábráin az 1 hivatkozási szám a nyers, nemesítőkezelés előtti síkalakzatot, a 2 hivatkozási szám a homogén, tehát egyenletes besugárzás sugár mezejét, a 3 hivatkozási szám az alkalmazott ojtófürdőt, a 4 hivatkozási szám a csupán helyi besugárzás sugármezejét érzékelteti. 5-tel jelöltük az alkalmazott öblítő és/vagy mosó­fürdőket, 6-tal a szárítózónát, 7-tel a kezelést követően már nemesített, javított tulajdonságú síkalakzatot, míg a 8 hivatkozási számmal a helyi gyökroncsoló eszközként alkalmazott fűtött alakos hengert jelöltük. Szabadalmi igénypontok: 1. Eljárás síkalakzatok, különösen textil sík­alakzatok nemesítő kezelésére, amelynek során a síkalakzatot ionizáló besugárzásnak, valamint oj­tásos polimerizáló reakcióknak vetik alá, azzal jellemezve, hogy a síkalakzatot 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 65 6

Next

/
Thumbnails
Contents