167985. lajstromszámú szabadalom • Fényérzékeny másolóanyag
65 167985 66 Az elemzés értelmében feltehető, hogy a kevert kondenzátumban a diazovegyület minden molekulájára számítva a második komponensből az (a) kondenzátumnál 1,2, a (b) kondenzátumnál pedig 1,5 mól jut. 5 60. példa Az eljárás azonos az 59. példában megadottal, de bevonásra a következő oldatot használjuk: 0,4 súlyrész a 3. példában leírt diazovegyületből, 10 0,069 súlyrész p-toluolszulfonsav, 0,02 súlyrész 4-metoxi-4'-dimetilamino-azobenzol, 10,0 térfogatrész víz és 90,0 térfogatrész oldószerkeverék, mely 60 térfogatrész víz és 15 90 térfogatrész oldószerkeverék, mely 60 térfogatrész etilénglikol-monometiléterből és 40 térfogatrész dimetilformamidból áll. Az 59. példában leírtakkal azonos módon megvilágításkor egy színes kontraszt-képet kapunk. 20 61. példa Az eljárás megegyezik az 54. példában leírtakkal, de egy cinklemezt vonunk be a következő bevonóoldattal: 25 0,3 súlyrész 15. példában megadott kondenzációs termékből, 1,0 térfogatrész víz, 0,54 térfogatrész 1 n.sósav, 1,0 súlyrész fenol-formaldehid gyanta, az 54. példa 30 szerint előállítva, 6,0 súlyrész etilénglikol-monometiléter és 4,0 súlyrész dimetilformamid. Az 54. példában leírt műveleti sorrendet alkalmazva egy pozitív relief es nyomóformát kapunk. 35 62-67. példák A 62-67. példákban bemutatunk néhány új kevert kondenzátumot, melyek fényérzékeny reprodukáló rétegek komponenseként alkalmazva felhasználhatók arra, hogy fotomechanikai úton offset nyomóformákat állítsunk elő. Alaplemezként alumínium fóliákat használunk, melyeket drótkeféléssel érdesítünk és a 3 220 832 sz. amerikai egyesült államokbeli szabadalom előírásai szerint polivinil-foszfonsawai kezelünk. A kevert kondenzátumok előállításának részleteit és a bevonóoldatok összetételét a következő 4. sz. táblázatban adjuk meg. Ha a 63. példa szerint készített másolóréteget összehasonlítjuk egy olyan másolóréteggel, mely azonos vastagságú, de csak a megfelelő diazovegyület formaldehides kondenzátumát tartalmazza, vagy olyan formaldehides kondenzátumot tartalmazó réteggel, mely a megfelelő mennyiségű formaldehidnek 4-metil-difenilaminnal való kondenzátumából áll, megállapítható, hogy a 63. példa szerint gyártott másolóréteg fényérzékenysége lényegesen nagyobb, mint a másik kettőé. A 65. példa szerint előállított reprodukáló rétegnél külön ki kell emeleni azt, hogy fényérzékenysége igen jó és tárolhatósága is kitűnő. Az előre érzékenyített nyomólemez még akkor is alkalmas másolásra és előhívásra, ha 100 C°-on tároljuk 8 óra hosszat. A 67. példában leírt másolóanyaggal kapcsolatban megjegyezzük, hogy egészen rövid megvilágítási idővel is megfelelő minőségű nyomóformák állíthatók elő vele. 5 kW-os xenon impulzuslámpát használva, 1 m-es megvilágítási távolság esetén 10-20 másodperces megvilágítási idő elegendő a kópia előállítására. A nyomóforma erősebbé tehető a szokásos lakkréteggel bevonva. Példa i Kevert kondenzátum (KK) Bevonó oldat Előhívó száma Diazo vegyüB vagy B, Aktív CO ElválasztA-N3 X aráKK' Jo Egyéb adaléOldószerlet A-NS X komponens vegyület va, mint nya a B vagy kok keverék Br hezaKK(tf-rész) ban (kb) 62 Diazo 10, belső só 1 -CH2 0 Belső só 1 :0,35 0,1 -DMF:H2 0 H 2 0 92 :8 63 Diazo 2, H2 P0 4 ~ 5 CH2 0 H2 P0 4 ~ •H3 P0 4 1 :0,75 0,1 0,3 ml 0,1 MH3PO4 100 ml oldatban EGMME(BA) H2 0 H2 0 54:35:10 64 Diazo 1, Cl~ 19 CH2 0 CH3SO3-1 : 1,40 0,4 EGMME(BA) 0,5% H2 0 54 :36 : trinát-10 riumfoszfát vízben 65 Diazo 2, HSO4-— 47 — naftil(2)-S03 -1 :0,85 0,5 — EGMME/BA 36-43. 80 :20 példák 66 Diazo 5, HS04 ~ 41 cr 1:1,1 1,0 1,5 mól H3PO4 1 mól diazocsoportra EGMME/BA 36-43. 80 :20 példák 67 Diazo 11, ci-.z f* 41 naftil(2)-S03 -1 :1,75 0,5 EGMME 36-43. példák DMF = = dimetil form amid, EGMME = etiler íglikol monometiléter, BA = butilacetát, tfr. = térfogatrész 33
