159482. lajstromszámú szabadalom • Eljárás rétegek eltávolítására laser-sugarak alkalmazásával

SZABADALMI 159482 MAGYAR NÉPKÖZTÁRSASÁG LEÍRÁS áfck Nemzetközi osztályozás: H 01 c 17/00 «I5» Bejelentés napja: 1969. XII. 01. (Sí—1147) H^ß Német Szövetségi Köztársaság-beli elsőbbsége: 1968. XII. 02. (P 18 12 188.5) \* i ORSZÁGOS TALÁLMÁNYI HIVATAL Közzététel napja: 1971. IV. 23. Megjelent: 1972. VII. 30. ^*+*Jjjiíín\ ^ Feltalálók: Heim Günter oki. fizikus, Regensburg, Rosen Hans-Georg mérnök, München Tulajdonos: Siemens Aktiengesellschaft, München, Német Szövetségi Köztársaság és Nyugat-Berlin Eljárás rétegek eltávolítására laser sugarak alkalmazásával 1 A találmány tárgya eljárás rétegek, különösen ellenállási rétegek eltávolítására, nyalábolt fényenergia alkalmazásával. Ismert, hogy laser sugarak segítségével fémek és nem fémes anyagdk megmunkálhatok oly 5 módon, hogy például egy laser-barendezésből kilépő párhuzamos fénynyalábot lencserendszer segítségével gyújtópontban egyesítenek és ezt a gyújtópontot a megmunkálandó felületre irányítják. A teljesítménysűrűség jelenleg elérhető io mértéke néhány Megawatt/cm2. Az elektromos ellenállásoknál alkalmazott vékony rétegeknek sugárzással, pl. a C02 laser A = 10,6 /i hullámhosszú sugaraival szemben 15 tanúsított magas visszaverőképessége miatt azok megmunkálása csak kis geometriai méretek vagy csekély hővezetés esetén oldható meg. A találmány célja olyan eljárás kialakítása, amelynek segítségével az előzőekben leírt hát- 20 rányok kiküszöbölhetők. Célja továbbá, hogy a beégetett sáv teljes hosszában egyenlő széles legyen, a széleken pedig ne jelentkezzenek berepedések, ezek a szélek ne legyenek szétkenődve vagy elszenesedve. A helybenmaradó 2

5 fémréteg ne nyíljon szét és egyéb elváltozást se mutasson, ne legyen azon mechanikus sérülés, vagy fizikai-kémiai elváltozás. Ezt a célkitűzést a találmány szerint oly módon oldjuk meg, hogy az eltávolítandó rétegre 30 egy fedőréteget viszünk fel, amely az alkalmazott fényenergiával szemben visszaverődést csökkentő rétegként hat. Ezzel az eljárással azt az előnyt biztosítjuk, hogy a sugárzás viszszaverődése csökken és ezzel az eltávolítandó réteg felmelegedése meggyorsul. Alkalmas rétegek képezhetők szilárd fluorszénhidrogénekből, pl. politetrafluoretilénből. Fedőrétegként különösen előnyös egy fenolgyanta-észterimid lakk használata. Ez a lakk mindenekelőtt az elektromos ellenállásként alkalmazott szén- vagy krómnikkel rétegeknél mutat kifogástalan eredményeket. Elégetésnél gyakorlatilag nem képződik szénzárvány, ionképződés nélkül olvad és a megmunkálandó rétegből elgőzölgő szén- vagy fémrészecskéket beburkolja, valamint szigeteli, szilárd állapotban pedig igen nagy ellenállású és átütési szilárdságú, továbbá lehűlésnél nem képződnek a réteg szélén mikrorepedéseket eredményező dudorok. Mivel ez a lakkréteg a készterméknél semmiféle zavaró hatást nem okoz, besugárzás után annak ismételt eltávolítása nem szükséges; sőt jelenléte a külső, atmoszférikus és/vagy elektromos behatásokkal szemben kiváló oltalmat is nyújt. A felvitt lakkréteg visszaverődést csökkentő hatásának teljes kihasználása érdekében a fedőrétegnek legalább d vastagságúnak kell len-159482