148127. lajstromszámú szabadalom • Eljárás nagytisztatású, elsősorban félvezetők gyártására szolgáló szilícium előállítására

2 148.127 gyakoribb szennyeződéseiből adódó egyéb folya­matok háttérbe szorulnak és így a képződő szilí­cium emiatt is sokkal tisztább. Különösképpen áll ez a félvezetők gyártásában igen káros bőr­szennyezésre. A BCI3 megbontása ui. valamivel magasabb hőmérsékletet igényel, mint a SÍCI4 és így a wolframszilicid képződése mellett a wolf­ramboridé háttérbe szorul. A találmány szerinti eljárás pl. az alább vázolt két elrendezésben valósítható meg, de a bemuta­tott készülékek elrendezése és formája a taiál­mánv "!.'%íracT ét TTPm érmti (1) -> k j - \ vi bol 1 ' i a« cbol ' J ~-" 1 ->nnr L T T~ ^ej r b n a B n-jkcic-fciL-i i1" i i \ r jH 4 ]"i'eí n'irz) IT 1 n i > i -> 1 ' K le i1 ! mhii if V e n A 1, ' ÍO i-v T 1 >j b k j\d 'ne1 -! 1 T b <-i- 1 / u ^r kv 1 1 •- 1 1- vnr' 1 'i ik út i > ' j nyu­i "~" t f ^7 f ír/ / i > L .1 T ) 1 - r k 1 "1 f ' t A HI 1 i 1 "í nli it DD [ T> 1 TT1 - \ v '"'-' nrhi ' 1<A t ul ( 1 1 ) ti 1 11 K c1 in 1 c < ^ F ' I <•( 1 cf ->/i 1 i ' -• a S el er t 1 1_ i 'iit« rosites» a G csavarok , ' ^g^ 4 O J 1 i\/ I-7? Cibu/ i 1 ° .,= u 1-n >t T it t )' ° es F-rsitlakozokon másreszt c "fnu 1 ' r Lio i-f •"• r I f mrs 1 e\ <. t'n k°i iul kip" •">] ik 1 v Oj.fi 1 uh i^al^kia A. D-t rbon runt^<n 1 -1 s li dando hí /H -\ n ki^ '» -1 e i)ni°l l 1 ^ il az ib 1 íz attekmtheio^g ked­véért csak hármat tüntettünk fel. A wolframhuzalokat először hidrogénben izzít­juk, és csak azután vezetjük be a SÍCI4 gőzöket a hidrogénnel együtt a reakciós edénybe. Az (1) reakció a wolframhuzaloknak megfelelő hőmér­sékletre történő beállítása után indul meg és a kí­vánt szilicid rétegvastagság elérése után a reakció a huzal lehűtésével szüntethető meg. A szilicizá­lás után a gázelegy a K kivezető csövön át távo­zik a készülékből. A wolframhuzalok felületére a lehűtéskor rákondenzáló SiCU-tól és az esetleg képződött kloridoktól tiszta hidrogénben történő mérsékelt izzítással tisztítjuk meg a szilieizált ter­méket. A SiZilicizálandó wolframnak huzal alakban tör­ténő alkalmazása csak egyik példája a találmány megvalósítási módjának, ettől eltérő megoldások is lehetségesek. • Alkalmazható pl. a wolfram nagy­felületű, kisszerneséjű alakban, amikor a villamos fűtés nem közvetlenül átvezetéssel, hanem közép­frekvenciás örvényárammal történik. Előnyös kiviteli alakja az eljárásnak, ha a por­kohászatban szokásos módon wolframporból ru­dakat sajtolunk és ezeket előizzít ás után hidro­génatmoszférában, közvetlen áramátvezetéssel olyan hőmérsékleten zsugorítjuk, hogy kellő szi­lárdságra tegyenek szert, de a pórusok be ne zá­ródjanak. A rudakat hosszabb ideig ilyen hőmér­sékleten izzítjuk, ezáltal elérjük, hogy a szennye­ző anyagok messzemenően kipárolognak és az anyag tehát megtisztul, a wolframrúd amellett nagy felületű marad. Ha ilyen rudakat izzítunk SÍCI4 + H2 atmoszférában a fentebb már említett hőmérsékleten, úgy jelentősebb szilíciummennyi­ségeket köthetünk meg WoSi2 alakjában. A (2) reakcióban a szilíciumot a 2. ábrán jelzett elrendezésben állítjuk elő, amely azonban csak egy példája a többféle kínálkozó megvalósítási le­hetőségek e^vikének A szilieizált wnlframspirálok 1/ \ -> ] K i -1 is m )"ott a in1 1 1 >P /c / E'" u^cgtiu \ k iumeo.cn bru F^ \ 1 t 3oT a mir z it b3i zetok h»'i * \ s il -h WD fi ím i^/it-e-ahoz s uk°ecf p> MP^IIO1 ' ara­-pol \e e-'ik 1 p 1 üo1 -11 \ irii i,} 1 ' -)­e^LL1 1 " " b d 10 11 nC <-,«•-!U d1 Í-l'! I ) J V1 \ayr) YJO , ólod ' \ B lpme t 1 i^ilm s L °\ui ío^y-1 \ \ ' ! 1 1 > Ilivel" 1 ^i t -\ Q s'i a 13 ' n ' id "t 1 t> t 1 o hii h : 1 1 1 "• ' lUi » | r T i as ei 1 1 -1 q II a^la1 n ~ ~>i i 1 " 1 I 1-11 ' !~"~ ! ^ C 111 1 g "<•?)! -'"ti1 br 1 \ b­( 1 1 n i n e 1 l r I 1 dm i I i° r 01 1 mi"! 31 ' 1 i \ T 1 1 na 1 ( ^i nek rn cilh ' f 1 1 1 f 1 n -i " " 1 i \ i"1 "• line1 ír -" ^ 10 ''t1 1 vb)1 vi­f 1 1 c in-1 ^! r» v=i [11 TvTi "tiLi |i 1 a T17C ' te n 1 1 b i ^ + 1 o1 o i^itrtt "il un 1 1 r1 + 11 1 v ^ 1 t E^ tfbb s /e r 1 rit^^m^l t 14+ ' teli4 - ui-gyobbnai^, mii 10 -arm az iiod.ilomool eddig 1JP.IV.­retessé vált és így a találmány szerinti eljárással előállított szilíciumból lényegesen jobb egyenirá­nyítók, tranzisztorok és egyéb félvezető eszközök lesznek előállíthatók, mint eddig lehetséges volt WSÍ2 thermikus bontását úgy is kivitelezhet­jük, hogy a bomlásnál felszabaduló Si-ot egy pl. polystiróllal bevont lemezen, pl. csiszolt, nagy­tisztaságú cíuarzlemezen fogjuk fel és a felpáro­logtatást addig folytatjuk, amíg a réteg vastag­sága folytán a szilíciurnlemez kellő szilárdságra tesz szert. A szilíciumlemezke a közbenső polis­tirolhártya folytán a kvarclemezkéről leválasztha­tó, és ha azután nagytisztaságú argonban a szilí­cium olvadáspontjához közeleső hőmérsékleten hosszabb ideig izzítjuk, úgy ez egykristállyá is át­alakítható. Az egykristálylapból azután minden félvezető-eszközt (napfényelem, tranzisztor, egyen­irányító stb.) előállíthatunk. A wolfram, ill. molibdénszilicidek elbontása vákuumban csak akkor vezet a kívánt tisztaságú szilíciumhoz, ha a vákuum elég jó és nem tartal­maz aktív gázokat. Célszerűnek bizonyult ezért a termikus bontásra használt és evakuált appara­túrában a vákuumnak javítása olyan módon, hogy az apparatúrához még egy másik edényt csatla­koztatunk, amelyben nagyon jó gázlekötőképes­séggel bíró fémeket, például titánt, zirkont, tan­tált, thoriumot izzítunk szalag, vagy huzal formá­jában. Ilyen módon olyan tiszta vákuumteret és olyan jó vákuumot sikerült létesíteni, hogy az egyatomos adszorbeált gázréteg képződésének ide­je nagyobb lett, mint a szilícium párologtatásának ideje. Szabadalmi igény-pontok: 1. Eljárás nagytisztaságú elemi szilícium előál­lítására, azzal jellemezve, hogy izzó, magas olva­dáspontú fémek, pl. wolfram, molibdén stb. felett

Next

/
Thumbnails
Contents