85555. lajstromszámú szabadalom • Eljárás vasötvözetek különösen ferrochrom ötvözetek előállítására
— 2 — ferröehromot használunk, melyet egy redukálható chromvegyületnek lényegileg egyenérékű mennyiségű és alacsony széntartalmú siliciumos redukálóval vas jelen-5 létében végzett redukciója révén állítottunk elő, úgy hogy alacsony széntartalmú ferröehromot kaptunk, melynek higítási terméke is lényegileg mentes lesz fölöslegéé szélitől s" "gyakorlatilag csak silici-10 ummal lesz fertőzve, mely fprtőzmény, még ha meg is haladná a megengedett átlagos mennyiséget, oxidáló fuvatás révén könnyebben és gazdaságosabban "űzhető ki, mint a szén. 15 Minthogy egyébként azonos körülmények között a silicium oxidáló fuvatás révén a szénnel könnyebben és gazdaságosabban űzhető ki, alacsony széntartalmú siliciumos redukáló használata révén oly 20 ferrochromot kapunk, mely fuvatás segélyével igen jól tisztítható, mimellett a elírom oxidálódási veszteségei csökkentetnek, egyrészt mert a silicium eltávolítására aránylag rövid idő szükséges és mert 25 a fuvatást megelőző higítás folytán a ferrochrom chromtartalma már lényegesen csökkentetett. Emellett a nyers higítási terméknek aránylag magas silicium•tartalma az olvadék hőmérsékét a fuvatás 30 közben erősen fokozza, ami szinte hozzájárul a chrom oxidálódásának csökkentéséhez. Alacsony fertőzmény-tartalom alatt oly széntartalmat értünk, mely a fém folt-35 mentesítő sajátságait nem képes károsan befolyásolni s oly siliciumtartalmat, mely-1%-ot nem halad meg. Az eljárás legcélszerűbb kiviteli módjánál azonban, ha a redukálást alacsony széntartalmú silici-40 umos redukálóval végezzük s a higítási terméket fuvatjuk, könnyen juthatunk 1%-nál lényegesen kevesebb siliciumot tartalmazó foltmentes fémhez. Emellett ezen alacsony siliciumtartalmat a kombi-45 nált hígítással és fuvatással érhetjük el, ha az eredeti ferrochrom tisztátlansági foka ezt szükségessé tenné. A chromvegyületnek a siliciumos redukálóval való redukcióját magában a vas-50 vagy acélfürdőben végezhetjük, de úgy is járhatunk el, hogy előbb az alacsony szénta.rtalmú és siliciumot tartalmazó ferrochromot állítjuk elő s ezt keverjük megömlesztve a vas- vagy acélfürdőhöz. 55 A legcélszerűbb siliciumos redukáló a fcrrosilicium, mely célszerűen sok, pl. 80% vagy több siliciumot tartalmaz. A ferrosiliciumnak, vagy egyéb siliciumos redukálónak széntartalmát ismernünk kell, hogy a termelendő fémnek 60 megfelelően tekintetbe vehessük" a fürdő készítésénél. Foltmentes acél gyártásának esetén a szükségélt szénmennyiséget az eljárás bármelyik szakaszában alkalmas, széntar- 65 talmú anyag adagolása révén táplálhatjuk, mely célból megfelelő széntartalmú fémet használunk a fürdőhöz, vagy a fémfürdőben vagy a higítási termékben nyersvas, vagy szén vagy faszén stb. révén 70 fokozzuk a széntartalmat. Az eljárás minden olyan kemencében foganatosítható, melyben az anyagokat az egész művelet alatt ömlesztett állapotban tarthatjuk s melyből a terméket kiönthet- 75 jiik vagy lecsapolhatjuk. Külső fűtést is alkalmazhatunk oly célból, hogy a redukálás közben, vagy a fuvatás közben vagy után a kívánt magas hőfokot fenntarthassuk. Jól használhatók az elektromos ke- 80 mencék, pl. a Heroült- vagy Snyder-féle kemencék. A higítási termékbe a leesapolás vagy a fuvatás előtt célszerű alkalmas desoxidáló szert keverni. így pl. ajánlatos, hogy 85 a fúvatandó fém 1—2% mangánt tartalmazzon. A következő példák az eljárás gyakorlati módozatait képezik: Példa: 0.20% szenet és 12% siliciumot 90 tartalmazó kezdő ferrochrom-ötvözetet készítettünk zúzott és mosott chromitnak számított mennyiségű ferrosiliciummal való redukálása révén. Ezen kezdő ötvözethez 80% mangánt és 7% szenet tartalmazó 95 ferromangánt adtunk olyan mennyiségben, hogy a keletkező fém következő elemzési adatokkal bír: chrom 58.50% mangán 8.00% 10( silicium 10.90% szén 0.86% Az olvadt fémet chromitbélésű forró konverterbe töltve, kb. négyszerannyi súlyú frissen fúvott olvadt salakmentes Bes- 10E semer-fémet öntöttünk hozzá, mely kb. 0.12% oxigént tartalmazott; a keletkezett ötvözet elemzési adatai: chrom 11.70% mangán 1.60% ii( silicium 2.18% szén 0.18%