Szabadalmi Közlöny és Védjegyértesítő, 1990 (95. évfolyam, 1-6. melléklet
1990 / 6. szám - Dr. Bobrovszky Jenő: A mikroelektronikai félvezető termékek topográfiájának oltalmáról
1990/12 - SzKV 6. »z. Melléklet 11 kát, főként a rajzokat, fényképeket. Mint korábban említettük, eltérés van az egyes szabályozásokban atekintetben, hogy a topográfia chipbe foglalása (ún. „first silicon”) szükséges-e vagy elegendő a maszk, illetve csak a topográfia ábrázolása. Az USA-ban pl. az IC valamennyi rétegéről ábrázolást kell benyújtani, továbbá négy példányban letétbe kell helyezni a maszk mű reprodukcióit. A lajstromozott topográfiának a társadalom, a köz részére való feltárása úgy történik, hogy annak ábrázolását a lajstromozás napjától bárki megtekintheti, egyes országokban másolatot is kérhet. Ez az adatbázis és a korábban már kereskedelmi forgalomba hozott integrált áramkörök alapot képezhetnek az elemzéshez, továbbá a mérnöki rekonstruáló tevékenységhez. A lajstromozott topográfia ábrázolásának a bejelentő által titkosként megjelölt részeit rendszerint csak az eljárásban résztvevő felek tekinthetik meg a hatóság engedélye alapján. E részleges titokbantartási lehetőségre azért van szükség, mivel a könnyű másolási lehetőségek miatt egyes részletekre fokozott oltalom nyújtása indokolt. E tekintetben azonban vannak korlátozások (pl. az USA joga szerint a titkosként megjelölt rész nem haladhatja meg a nyílt rész nagyságát, a japán jog szerint a titkosítás nem veszélyeztetheti az elrendezési minta azonosíthatóságát.) A magyar törvényjavaslat mindezen kérdések tekintetében a nemzetközileg elterjedt megoldásokat vette át. VIII. VIII. A topográfiák sui generis oltalmának egyik legfontosabbjcérdése az oltalom hatálya, azaz a jog tartalma, terjedelme és korlátái az egyéni és közérdekek kényes egyensúlya megőrzésével. A jogszabályok alapján az oltalom kizárólagos jogot ad az akár optikai vagy elektronikai eszközzel maszkban, számítógépes szalagon vagy bármely más eszközzel a topográfia többszörözésére (reprodukciójára), mirkochipben (félvezető termékben) való rendszeres megtestesítésére (inkorporálására), és mindezek behozatalára és forgaloinbahozatalára (ideértve az átruházást, szétosztást, bérbeadást, kiállítást, mindezek céljára való raktározást, felajánlást stb.). Az oltalomból eredő jogok ilyen részletes kifejezése a Washingtoni Szerződésben és a GATT tárgyalások keretében jelenik meg. Megjegyzendő, hogy az USA joga szerint az alapvető oltalmi jog a maszk mű többszörözése (reprodukciója), a Közösségi Irányelvek szerint a topográfia reprodukciója. A reprodukció fogalma azonban nemcsak az azonos dimenzióban való többszörözést foglalja magába, hanem a dimenzióváltást, tehát a mikrochipben való megtestesítést is. A japán jog szerint az oltalom tartalma áramköri elrendezés felhasználása mikrochip gyártására. Általában a jog tartalma nem a szerzői jogi monista (a személyi és vagyoni jogokat egyesítő) autorizációe jognak felel meg, hanem a licencia adását és a vagyoni jog átruházását egyaránt lehetővé teszi. Bár az USA Semiconductor Chip Protection Actje sok vonásában a szerzői jogi törvény mintájára készült és igazgatása is a Szerzői Jogi Hivatalhoz tartozik, az oltalmi jogot egyesek „ipari szerzői jognak”, mások az iparjogvédelem egyik speciális típusának tartják14, a Washingtoni Szerződés viszont bármely formában (az iparjogvédelem vagy szerzői jog területén illetve sui generis oltalomként) megvalósíthatónak, így bármely jogterületre sorolhatónak minősíti.15 Véleményünk szerint itt a szellemi tulajdon két ága, a szerzői jog és az iparjogvédelem illetve azon belül a szabadalmi jog demarkációs vonala átjárhatóvá vált annak következtében, hogy a kifejezési forma és az idea az integrált áramkörök esetén elválaszthatatlanul, monolitikusán összefonódik, s emiatt egy szabadalmi jogi — szerzői jogi konceptuális hibrid alakult ki. Ezzel a szellemi tulajdon korábbi — a szerzői jog és az iparjogvédelem két „féltekéjére” épülő — rendszere az alkotás tárgya szerint fragmentálódni látszik az angol-amerikai típusú pragmatikus törvényhozás általánosodása következtében.16 Az oltalom terjedelmét a szabadalmi jogban a találmányt definiáló igénypont, a szerzői jogban maga a műben megjelenő egyéni, eredeti kifejezési forma határozza meg. Az integrált áramkör elrendezési mintája oltalmának terjedelmét a lajstromozott topográfia ábrázolása határozza meg. A szerzői jogi analógia alapján az oltalom megsértését jelenti egyrészt, ha a lajstromozott topográfia lényeges részét (minimális rész kivételével) felhasználják, másrészt ha a topográfia önállóan használható eredeti részeit egy nagyobb rendszerben vagy önmagukban (továbbfejlesztés nélkül) alkalmazzák, illetve ha a topográfia előállítására szolgáló, közbeeső „félkész” chipre vonatkozó ábrázolásokat alkalmazzák. Az önállóan nem használható és nem eredeti részek másolása nem tiltott. Az oltalom korlátái tekintetében általános elv, hogy a jogi védelem nem terjed ki a topográfia alapját képező elvre (pl. az elrendezés logikája), eljárásra (pl. gyártási technológia) és rendszerre (pl. az elrendezés funkcionalitása), sem a félvezető termékben tárolt információra, hanem csak a topográfiára, mint a jelzett elvek, eljárások és rendszerek adott topográfiában való alkalmazására. Ebben a szabályban az idea-topográfia dichotómiája jelenik meg, amely azonban az integrált áramkörök esetén, éppenúgy mint a szoftvereknél — a gondolati tartalom és a kifejezési forma fúziója következtében — esetenként nehezen alkalmazható. Általános elv az is, hogy a topográfia illetve a maszk mű reprodukciója kutatási, oktatási és magáncélra megengedett, az elv törvényhozási kifeje
