Fogorvosi szemle, 1999 (92. évfolyam, 1-12. szám)
1999-04-01 / 4. szám
Az 5-7. ábrákon a Si-, Ni- és Cr-atomok koncentrációprofiljai láthatóak a vizsgált területen. E vizsgálati módszerrel is megállapítható, hogy a Si-atomok koncentrációja a reakciózónánál hirtelen csökken (5. ábra), a Ni atomok koncentrációja a fémfelszín után csökken, majd a reakciózóna felszínén 1-1,5 pm széles rétegben ismét megemelkedik, majdnem eléri a fémötvözetben lévő koncentrációját (6. ábra), a Cr atomok koncentrációja a fémfelszín után jelentősen emelkedik, meghaladva a fémötvözetben lévő koncentrációját (7. ábra). Az 1. ábrán mutatott területről pontszerű atomi koncentrációméréseket is végeztünk (a világos pontok mutatják a mérések helyét, fölötte két fekete marker pont közötti távolság 0,5 pm). E mérések alapján összeállított elemprofilok a 8. ábrán láthatóak. Wiron 99 és Vision határfelület elemprofilja ... X- - - Al — - к— - Si —д— Mo — - ч— К + Sn —e— Cr —+— Ni 8. ábra. A pontszerű atomi koncentrációmérések alapján összeállított profilok a fémkerámia határfelületen Megbeszélés Az elektronsugaras mikroanalízist a fenti módszerekben az elektronmikroszkóppal egybekötött energiadiszperzív röntgen-spektrométer (EDRS) segítségével végeztük (a kiválasztott terület gerjesztett atomjai által emittált röntgenfotonok energiáját és számát méri). A PEM-képek szekunder elektronok leképezésével készültek. A pontszerű mérésnél az egyes pontokból 60 mps gyűjtöttünk információt, ami lehetőséget nyújtott arra, hogy az adott területen lévő elemek atomi koncentrációját néhány tized % pontossággal határozzuk meg. Ezzel a módszerrel Anusauice K. J. és mtsai. [1] kémiai interdiffúziót 124
