202335. lajstromszámú szabadalom • Eljárás és berendezés lézer-plazma ultraibolya sugárzásának növelésére
3 HU 202 335 B 4 a 2 targetnek a 4 lézerfényhez viszonyított helyzete a vákuum lerontása nélkül változtatható, célszerűen a 2 target forgathatóan van elhelyezve. Az 1 vákuumedényben 103 mbar-nál kisebb, célszerűen 10~5 mbar-os vákuumot hozunk létre. A 2 target fém, pl. arany, de lehet szén, foszfor, szilícium és sok más anyag is. A 3 lézerrel előállított 4 lézerfényt a lencseként kialakított 5 ablakkal a 2 target felületére fókuszáljuk, mégpedig legalább 104 W/cm2, célszerűen 108 W/cm2 intenzitással. Az 1 vákuumedényben a 9 tápegység és az elektródák segítségével legalább 102 V/cm, célszerűen 103 V/cm erősségű statikus elektromos teret hozunk létre, és a 6 lézerplazmát ebben keltjük. Az elektromos tér polaritása olyan, hogy a pozitív töltésű ionokat a 6 lézerplazma közepéből kifelé vonzza. A találmány szerinti eljárás és berendezés segítségével a 6 lézerplazmából nyert 7 ultraibolya fény és a gerjesztő 4 lézerfény intenzitásának aránya - az ismert megoldáshoz képest - általában 3-5-szörösére nő, de egyes spektrumvonalak tekintetében több nagyságrendnyi javulás is elérhető. SZABADALMI IGÉNYPONTOK 1. Eljárás lézerplazma ultraibolya sugárzásának növelésére, amelynek során egy vákuumedényben elhelyezett targetre fókuszált legalább 10* W/cm2 intenzitású lézersugárral lézerplazmát keltünk, és a keletkező' ultraibolya fényt kivezetjük a vákuumedényből, cuzal jellemezve, hogy a lézerplazmát (6) legalább 102 V/cm i*érerősségű és olyan polaritású statikus elektromos tát jen keltjük, amely a lézerplazmában (6) levő pozitív töltés ű ionokat a lézerplazma (6) közepéből kifelé vonzza. 2. Berendezés az 1. igénypont szerinti eljárás foganatosítására, amelynek target elhelyezésére alkalma^ vákuumedénye van, amely be- és kilépő ablakokkal van\ ellátva, azzal jellemezve, hogy a vákuumedényben (1) '■ pozitív és negatív elektródák vannak kialakítva, amelyek kondenzátorral (12) ellátott nagyfeszültségű tápegység (9) pólusaival vannak összekötve, továbbá a targetnek (2) az a része, ahol a lézerplazma (6) keletkezik, a pozitív elektródához közelebbi térrészből helyezkedik el. 3. A 2. igénypont szerinti berendezés, azzal jellemezve, hogy a targetnek (2) a lézerfényhez (4) viszonyított helyzete változtatható a vákuum lerontása nélkül, célszerűen a target (2) forgatható. 4. A 2. vagy _3. igénypont szerinti eljárás, azzal jellemezve, hogy fémesen vezető targetanyag esetén a target (2) maga a pozitív elektróda. 5. A 2-4. igénypontok bármelyike szerinti berendezés, azzal jellemezve, hogy fémesen vezető vákuumedényfal esetén a fal (11) maga van a targethez (2) viszonyítva negatív potenciálra kötve. 5 10 15 20 25 3
