200578. lajstromszámú szabadalom • Eljárás titán-dioxidot tartalmazó optikai film előállítására
27 HU 200578 B 28 29. példa 1 g csillámpalalemezt 10 g 1 n nátronlúgoldatban 10 percig melegítünk, majd a 0,5 mimnél nagyobb darabokat szltálással elkülönítjük. A 21. példában leírt összetételű előkezelő oí- 5 datból 10 mi-t adunk hozzá, és melegítjük. 10 perc múlva a cslllámpaláról a folyadékot dekantáljuk, mossuk, és rozsdamentes acéledényben körülbelül 400°C hőmérsékleten klhevítjük. Ezután a csillámpalalemezeket 50 ml 10 térfogatú edénybe visszük át, és a 17. példa (9) lépésében megadott összetételű anyalúg egy részletében szuszpendáljuk. Az anyalúgot keverés közben forraljuk, és körülbelül 10 perces intervallumokban az anyalúgot frissítjük, miköz- 15 ben a cslllámpalalemezek változását megfigyeljük. Megállapítható, hogy a visszaverődós fokozatosan erősödik, ami arra utal, hogy a csillámpala felületén titán—dioxid—réteg alakul ki. 20 30. példa A 17. példa (6) és (7) lépése szerint kezeit üveglemezeket a 17. példa (8) lépésében leírtak szerint literenként 10~5 mól vasat tartalmazó 25 vas(llí)—kiorid—oldattal előkezeljük. A fiimképzést a 17. példa (9) lépése szerint végezzük. Az üveg barna elszíneződése nélküli, fényes filmet kapunk. 30 31. példa A 30. példában leírtak szerint járunk el, azzal az eltéréssel, hogy literenként 10~1 2 mól vasat tartalmazó vas(lll)—kiorid-oldattai végezzük az előkezelést. 35 Fényes filmet kapunk az üveg barna elszíneződése nélkül. Összehasonlító példa A 17. példa (7) lépése szerint előállított üveg- 40 lemezeket a 17. példa (8) lépésében leírtak szerint előkezeljük bárium-kiorid—, alumínium-klorid-, króm -kiorid-, mangán-klorid-, kobalt—kiorid—, nikkel-nitrát-, róz-klorid vagy stroncium-nitrát-oldattal, amelyeket a vas(lll)— 45 klorid-oldathoz hasonló módon állítunk elő, a 17. példa (3) lépésében leírtak szerint. Egyik oldattal sem sikerült irizáló vagy fényes filmbevonatot előállítanunk. 50 SZABADALMI IGÉNYPONTOK 1. Eljárás titán—dioxldot tartalmazó optikai film előállítására hidroxilcsoportokat tartalmazó felületen, előnyösen üvegen vagy csillámpalán, 55 titánsók hidrolízisével, azzal jellemezve, hogy (a) előkezelő lépésként a bevonandó felületet titánsav 1—14 szénatomos egy- vagy többértókű alkohollal képzett vízoldható észterének vagy szerves vagy szervetlen savval alkotott vízoldható t!tán(lV)-sónak vizes, ásványi savas oldatába merítjük, amelyben az össz-tltán koncentráció 10_s—10~2 mói/lster, és legalább 75°C-on, előnyösen legalább 10 percen keresztül melegítjük, és/vagy a felületet fémtartalmát tekintve 10~5—10~2 mól/l koncentrációban legalább egy vízoidható vas(ll)-, vas(lll)-, ón(il)- vagy ón(IV)—sót, és adott esetben, vagy ezeknek egy 1 —6 szónatomos többértékű alkohollal alkotott kondenzációs termékét tartalmazó vizes, ásványi savas oldatba merítjük, és legalább 75°C-on, előnyösen legalább 10 percen keresztül melegítjük; és kívánt esetben az így előkezelt felületet legalább SOQTl-on, előnyösen 10—20 percen keresztül kihevítjük, majd (b) flimképző lépésként az (a) lépés szerint előkezelt felületet legalább egyszer egy fent megadott titánészter vagy titánsó ásványi sa vas, vizes oldatába merítjük, amelynek össztitán koncentrációja legalább 0,3 mmói/iiíer, és amelyben a sav titánhoz viszonyított mólaránya 5—200, és legalább 75“C-on, előnyösen legalább 10 percen keresztül melegítjük, és kívánt esetben a bevont felületet legalább 300°C-on kihevítjük, és (c) kívánt esetben az (a) és (b) lépés közé egy magképző lépést iktatunk, amelynek során az (a) lépés szerint előkezelt felületet egy fent megadott titánószter vagy vízoldható titán(lll)vagy titán(IV)—só ásványi savas, vizes oldatába merítjük, amelyben az össz-titán koncentráció legalább 0,1 mól/liter, és legalább 75"C-on, előnyösen 10 percen keresztül melegítjük, majd legalább SOO^C-on kihevítjük. 2. Az 1. igénypont szerinti eljárás, azzal jellemezve, hogy az előkezelő lépést vas(ll)—kiorid vagy vas(lll)—kiorid és többértékű alkohol kondenzációs termékét tartalmazó oldatban hajtjuk végre. 3. Az 1. igénypont szerinti eljárás, azzal jellemezve, hogy az előkezelési lépés két lehetséges módját egyetlen lépésben hajtjuk végre. 4. Az 1. igénypont szerinti eljárás, azzal jellemezve, hogy a flimképző lépést egynél többször végezzük. 5. Az 1. Igénypont szerinti eljárás, azzal jellemezve, hogy bevonandó felületként csillámpalalemezt használunk. Rajz nélkül Kiadja: Országos Találmányi Hivatal, Budapest A kiadásért felel: dr.Szvoboda Gabriella osztályvezető N° 2216. Nyomdaipari vállalat, Ungvár
