199189. lajstromszámú szabadalom • Eljárás és berendezés fémek hidrogén átbocsátóképességének és felületi hibáinak kimutatására
199189 latra alkalmas csiszolatot készítettünk, másik felületét zsírtalanítottuk. A zsírtalanított felülethez 20 mm belső átmérőjű üvegcsövet ragasztottunk. Az így kialakított edényt egy fényáteresztő optikai üveg fölé öntött zárófolyadékra — 1,25 sűrűségű desztillált glicerinre — helyeztük buborékmentesen. Az edénybe 90,5 tf% H20, 9,4 tf% H2S04, 3,85-10“* tf% As203 és 1,93X X10 Mf% HgCl2-ből készült elektrolitot öntöttünk. Az anódon, — mely a mintadarab 5 fölött 3 mm távolságban elrendezett 0 20 mm lemez — 100 mA cm2 áramsűrűségű egyenáramot bocsátottunk keresztül, közben egy hűtőspirál segítségével az elektrolit hőmer- 5 sékletét 20±3°C-on tartottuk. A H2 gázbuborék megjelenését, illetve az áthaladás intenzitását fordított Le Chatelier rendszerű fémmikroszkóppal vizsgáltuk és fotózással rögzítettük. Azonos összetételű adagból hen- 10 gerelt három tekercs mintáinak vizsgálata az alábbi eredményeket adta: 6 Tekercsszám Lemez vastagság mm t 0 sec Oelleg Időbeli lefolyás 25575 0,82 10,6 lokális intenzív 25577 0,74 8,0 lokális kis intenzitású 25579 0,73 5,3 lokális intenzív SZABADALMI IGÉNYPONTOK 1. Eljárás fémek hidrogén átbocsátóképességének és felületi hibáinak kimutatására 0,1 —3,0 mm vastagságú mintadarabon, mely- 35 nek egyik felületén mikroszkópos vizsgálatra alkalmas csiszolat van, másik felülete ismert módon zsírtalanítva van, azzal jellemezve, hogy a zsírtalanított felülethez elektrolit befogadására alkalmas, szigetelő anyag- 40 ból készült edényt, például csövet, célszerűen ragasztással rögzítünk, a csiszolt felülettel az edényt egy fényáteresztő lemez, előnyösen optikai üveg, fölött lévő zárófolyadékra buborékmentesen ráhelyezzük, az edénybe 89— 4(. 92 tf% H20, 8,1 — 10,7 tf% H2S04, 0,02— 0,07 tf% As203 és 0,01—0,04 tf% HgCI2-ből készített elektrolitot Öntünk, az edényhez rögzített mintadarabtól — mely egyben a katód is — 3—5 mm-re lévő anódon 80—150 mA/ 50 /cm2 katódfelület áramsűrűségű egyenáramot bocsátunk keresztül, a mintadarab csiszolt felületén az első H2 gázbuborék, majd az intenzitás megállapítására további H2 gázbuborékok megjelenési idejét és/vagy egyéb elváltozás — például elszíneződés — idejét mérjük, közben az elektrolit hőmérsékletét célszerűen hűtőspirállal 20±3°C-on tartjuk, a kiértékeléshez a H2 gázbuborékok helyét önmagában ismert módon pl. fotózással rögzítjük. 2. Berendezés az 1. igénypont szerinti eljárás foganatosítására, azzal jellemezve, hogy aljzatba (3) beépített fényáteresztő lemez (4), célszerűen optikai üveg, fölött elhelyezkedő mintadarabra (1), előnyösen ragasztással, rögzített szigetelőanyagból készült elektrolit edénye (2), az aljzatra (3) illeszkedő, az elektrolitedényt (2) körülvevő előnyösen két részből álló háza (6), a házhoz (6) rögzített szár (7) végén a mintadarabbal (1) párhuzamosan elrendezett attól 3—5 mm távolságra lévő korongalakü anódja (8), az anód (8) körül az elektrolit edénybe (2) benyúló hűtőspirálja (9), a mintadarabhoz (1) kapcsolódó, annak leszorítására alkalmas, célszerűen rugósán kiképzett katódvezetéke (10) van. 1 lap rajz, 1 ábra 5
