198971. lajstromszámú szabadalom • Berendezés hegesztés során alkakmazott anyagok, elsősorban huzalok elektrokémiai tisztítására
1 HU 198971B 2 Azáltal, hogy a kenőanyag védőbevonatban kis mennyiségű alkálifémsó van jelen, végbemegy a huzal aktiválása, ami hozzájárul a hegesztési (v stabil égéséhez és fennmaradásához. A találmány szerinti berendezés egy előnyös kiviteli alakja értelmében az elektrolitikus plazmalronnak az elektrolit bevezetésére és elvezetésére szolgáló nyílásokkal ellátott háza van, amelyen keresztül van a kezelendő huzal vezetve, és a ház két kerámialapot tartalmaz, melyek között keramikus hengeres palástövek vannak egymás után forgathatóan elrendezve. A huzal kezelését az elektrolitikus plazmatrónban kisülési jelenségek kísérik. Az elektrolitikus plazmatron előbb ismertetett kiviteli csökkenti a lökéshullámoknak a plazmatron belső felületére kifejtett hatását, amely optimális technológiai kezelési paraméterek megválasztását teszi lehetővé. Ez ismételten a huzal kezelési minőségének javulásához vezet és meghosszabbítja az elektrolitikus plazmatron élettartamát. Fentieken túlmenően a palástövek hengeres alakja lehetővé teszi a plazmalronba vezetett elektrolitáram sebességének gyors csillapítását, valamint az elektrolit egyenletes eloszlását a plazmatron belsejében. Ez kizárja a turbulens elektrolitáramlások kialakulását és nagymértékben hozzájárul a szennyeződött elektrolitfrakció plazmatronból való hatékony eltávolításához. Ennek következtében gyorsan megtörténik az elektrolit cseréje, ami ugyancsak a huzalkezelési minőségét javítja. A keramikus hengeres palástövek elforgatásának lehetősége lehetővé teszi az optimális elektrolitszint megválasztását és ezáltal gyors és pontos optimális kezelési módszer meghatározását. Ez különösen fontos olyan elektrolitikus plazmaeljárásoknál, amelyeknél az elektrolit szintje lényegesen befolyásolja a technológiai folyamatot. Ugyancsak célszerű és előnyös a találmány szerinti berendezés olyan kiviteli alakja, amelynél minden egyes kerámia lapban legalább egy furat van kiképezve, amelybe olyan hüvely van behelyezve, amelyben excentrikusán kialakított huzalátvezető furat van kiképezve. Az excentrikus hüvelyek alkalmazása egyszerűvé teszi a plazmatron beállítását és beigazítását a berendezés hossztengelyéhez és csökkenti a technológiai beállításhoz és beszabályozáshoz szükséges időt. Ugyancsak előnyös a találmány értelmében, ha minden egyes kerámia lapban legalább egy olyan horony van bemunkálva, amelyben huzalátvezető vezetés van beültetve, amely felső részének a horonyból történő akadálytalan kihúzása érdekében osztottan van kialakítva. A huzalátvezető vezetés osztott kialakítása lényegesen leegyszerűsíti a huzal bevezetésének folyamatát a plazmatronba, csökkenti a bevezetési műveletek által igénybevett időt és növeli a berendezés üzembiztonságát. Célszerű továbbá a találmány szerinti berendezés olyan kiviteli alakja, amelynek értelmében a kerámialapok és a kerámia hegeres palástövek érintkezési tartományukban rugalmas tömítéseket befogadó gyűrűhornyokkal vannak ellátva. A rugalmas tömítéseket befogadó gyűrűhornyok az elektrolitnak a plazmatronból történő kiszivárgásának meggátlására, valamint az elektrolitikus plazmakezelés során fellépő lökésszerű terhelések csillapítására szolgálnak. Kívánatos, hogy a minden egyes kerámiahengeres palástövben kialakított huzalátvezető nyílás a palástöv akkora szektorára terjedten ki, amelynek ívhossza lényegében egyharmada az adott palástöv kerületi hosszának. Az említett méretezés lehetővé teszi a technológiai folyamathoz, szükséges elektrolitszint beállítását a plazmatronban és kedvező feltételeket teremt a szennyeződött és kihabosodott termékek eltávolításához, a plazmatron felső periférikus részéből, amelyek a huzal kezelése során keletkeznek. Ha az említett szektor ívhossza kisebb, mint a palástöv kerületi hosszának egyharmada, úgy az elektrolitszint megnő a plazmatronban, ami negatívan befolyásolja a huzalkezelés technológiai folyamatát. Ha a szektor ívhossza nagyobb, mint a palástöv kerületi hosszának egyharmada, úgy az elektrolitszint a plazmatronban lesüllyed, amin ugyancsak negatívan befolyásolja a technológiai folyamat lezajlását. Célszerű továbbá a találmány értelmében, ha a kenőanyag védőbevonatot felhordó berendezés védőbevonat kenőanyag fürdőből és a kenőanyag védőbevonatvisszavezető szivattyúból áll. Az említett szerkezeti kialakítás kedvező feltételeket teremi a kenőanyag védőbevonat megújítása számára és stabilizálja a kenőanyag védőbevonat megbízható felhordását a kezelt huzalfelületre. Előnyös továbbá, ha a huzalmosó berendezés legkevesebb két kamrát tartalmaz, amelyek egymás mögött vannak elrendezve, ahol a huzal haladási irányába nézve az első kamra mosóvízforrással, a második kamra pedig mosóvízforrással és sűrített levegő forrással áll összeköttetésben. A második kamra jelenléte és kialakítása intenzívvé teszi a huzalfelület lemosását a salakszennyeződések és az elektrolitnyomok eltávolítására azáltal, hogy a sűrített levegő sugárral a mosóvizet örvénylő mozgásba hozza. További előnye, hogy a huzalfelület mosására felhasznált víz mennyisége is redukálódik. Célszerű, ha a huzalszárító készülék legalább két pár görgőt tartalmaz, ahol minden egyes pár a görgő két oldalán, egymással szemben elhelyezett görgőből áll, amelyek őket villamosán hevítő áramforrással állnak kapcsolatban. A huzalszárító készülék egyetlen kompakt építési egységként történő kialakításával és az alkalmazott villamos hővezetéses szárítással a huzalszárítás jó minősége és a fémbe diffundált hidrogén eltávolítása mellett annak a lehetőségét kínálja, hogy a berendezés méretei és súlya a szokásos nagyméretű, durva gőz- vagy gázműködésű léghevftőket tartalmazó szárítóberendezések el5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 65 5
