198165. lajstromszámú szabadalom • Eljárás egy olefines kettőskötést és halogént tartalmazó, legfeljebb 6 szénatomos halogénalkének előállítására

5 198 165 6 Ezzel lehetővé teszik a reakcióláncok számának és ezáltal a reakcióláncok hosszának változtatását is. Ha például 104 lánchosszúságot kívánunk elérni, vagyis 104 lehasítási folyamatot egyetlen iniciáló gyökre, akkor ebben az esetben a diklóretán .'adalék­anyag arány legfeljebb 10”4 mól lehet 1 mól diklór­­etánra. Kiindulási anyagként különösen az 1,2-diklór­­etán alkalmas, de használható 1,1-diklóretán is. A találmány szerinti eljárás ezen előnyös foganato­­sítási módjára alkalmas lézersugár-források például Nd :YAG (X = 265 nm); KrF (X = 249 nm); KrCl (\ = 225 nm); ArF (X = 193 nm). Egyéb alkalmas lézer pl. valamely látható spektrum-tartományú fes­téklézer vagy infravörös tartományú C02-lézer. Azt tapasztaltuk továbbá, hogy egy ilyen eljárás­nál akkor is igen jó eredmények érhetők cl, ha az ismert termikus eljárást (pirolízist) a fotokatalitikus eljárással kombináljuk. Ilyenkor azt hasznosítjuk, hogy a kémiai reakció a két eljárásnál különböző és egymástól független utakon folyik le. Ezáltal külö­nösen arra nyílik lehetőség, hogy valamely már meg­levő, termikus eljárásra szolgáló berendezést, kis rá­fordítással fotokatalízises eljárással kombináljuk, miáltal elkerülhető költséges új műszaki berendezések beszerzése. Ezért a találmány szerinti eljárás egy második vál­tozata szerint az említett telített vegyületet egy reak­ciótérben termikusán kezelünk és koherens és/vagy inkoherens fénnyel sugározzuk be. A találmány szerinti eljárás ilyen kombinált válto­zatánál a reakciókörülményeket (pl. nyomást, hő­mérsékletet, a reagáló anyagok áramlási sebességét, adott esetben az adalékanyagokat) az ismert termikus eljárás és a fentiekben, a találmány szerinti eljárás első változatával kapcsolatban leírt reakciókörülmé­nyeknek megfelelően választjuk meg. A kombinált változatnál előnyösen 200 és 600 °C, különösen 450—550 °C hőmérsékleten dolgozunk; dolgozhatunk normál vagy csökkentett nyomáson, előnyösen azonban nagyobb nyomáson. Különösen előnyös 1000—3000 kPa nyomás alkalmazása, mert ily módon a rcakciótennékek, különösen a halogén­hidrogén jobb elkülönítése érhető el. A kis abszorp­ciós hatáskeresztmetszetek alkalmazását a termikus eljárással történő kombináció még inkább elősegíti. Inkoherens fényforrásként előnyösen középnyo­mású fémgőzlámpát vagy alacsony nyomású féni­­gőzlámpát, különösen 0,01-10 W/cm2, előnyösen 0,1—2 W/cm2 kvantumáram-tartományú fémgőzlám­pát használunk. E célra célszerűnek bizonyultak a higanygőz-, tallium- és/vagy vasgőzlámpák. Az elő­nyös hullámhossz-tartomány ebben 250—350 nm. A lézerberendezésekhez képest az ilyen lámpáknak lényegesen kisebb a beruházási- és üzemeltetési költ­ségük. A termikus kezelés és a fénybesugárzás történhet egyidejűén vagy egymást követően. A reakciópartne­rek a reakciótérben állhatnak. Célszerűen azonban - különösen akkor, ha közép- vagy alacsonynyomású lámpákat használunk - a reagáló anyagokat a reakció­­téren áláramoltatjuk. Azt tapasztaltuk ugyanis, hogy a középnyomású és alacsonynyomású lámpák használata esetén az abla­4 kot a melléktermékek gyorsan elfedik. Ez a jelenség a lézersugarak használatánál nem jelentkezik zavaróan, mert ebben az. esetben a nagyobb energia az ablakra ülepedett részecskéket onnan ismét leszakítja. Ezért inkoherens fényforrás használata esetén olyan munka­­módszer megválasztása ajánlatos, melynél a besugárzó ablak előtt aránylag nagy áramlási sebességet biztosí­tunk, hogy a képződő bomlástermékek csak a besu­gárzó ablak után, az. áramlás irányában képződhesse­nek jelentős mennyiségben. Az áramlási sebességet különösen a reaktor fajtája és keresztmetszete szerint választjuk meg. Különösen előnyösnek mutatkozott ilyen esetek­ben a termikus kezelés és a fény behatás olyan lépé­sekben történő kivitelezése, amikor is az egyes lépések meg is ismételhetek, pl. a következő lépés-sorrendben: a) termikus kezelés és/vagy b) fénybesugárzás és/vagy c) termikus kezelés és/vagy d) fénybesugárzás. A fény­behatási lépéseket ilyen esetben váltakozva, koherens és inkoherens fénnyel végezhetjük. A reagáló anyago­kat tehát pl. először a termikus kezelés hőmérsékle­tére hevítjük, majd elvezetjük a besugárzó ablak előtt. Ennek során az áramlási sebességet célszerűen úgy választjuk meg, hogy a besugárzó ablak előtti elhala­dás előtt már elérjük a fotokémiai reakció számára előnyös hőmérsékletet; a besugárzási lépést újabb termikus kezelési lépés követheti. Azonban az áramlás irányában a reaktorba még egy lézer is beépíthető, mi­által pl. a következő lépés-sorrend adódik: a) termikus kezelés, b) besugárzás alacsony- vagy középnyomású lámpával, c) termikus kezelés és/vagy d) besugárzás lézerrel. A d) lépésben beiktatott lézer az előtte meg­valósított b) besugárzási lépés következtében lénye­gesen kisebb energiával üzemeltethető, mint abban az esetben, mintha csak lé/.crbcsugárzási lépést alkal­mazunk, miáltal egy jelentős költségmegtakarítás érhető el. Lézersugárzás használata esetén az optimális hul­lámhossz a mindenkori reakciópartnerek spektrosz­kópiai és fotokémiai tulajdonságaitól függ, és 10- 5000 nm lehet. A lézersugárzás pulzáltatható vagy folytonos lehet, vagyis 10-15 másodperc vagy <» másodperc behatású lehet. A találmány szerinti eljárás további szemlélteté­sére a mellékelt rajz szolgál. Ennek 1. ábrája olyan berendezést mutat, amelyben a kiindulási anyaggal először hő formájában közlünk energiát. A beren­dezés az 1 reaktorból áll, melynek egyik oldalát a lézersugarat áteresztő 2 ablak zárja le. Az ablakon kívül helyezkedik el a 3 sugárforrás, melynek sugár­zása a 2 ablakon át az 1 reakciótérbe jut. A reagál­­tatandó anyagót — a rajzon nem ábrázolt — szelepen, valamint megfelelő csővezetéken át a 4 csonkon keresztül vezetjük be a reaktorba. A reagáló anyagok a reakciótéren átáramolhatnak vagy abban nyugalom­ban állhatnak is. A szelep után beiktatott (a rajzon nem szereplő) manométer szolgál a nyomás ellenőr­zésére. A kémiai reakció lefolyása után a reakcióele­­gyet az 5 csonkon át vezetjük el, majd feldolgozzuk. A fenti berendezés egy speciális, vlnil-klorid (VCM) előállítására szolgáló kiviteli változatát mulatja be n 2. ábra. Ez a berendezés 15X2,5 cm méretű, elektro­mosan fűthető 11 kvarcreaktorból áll. A reaktor végeit 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 65

Next

/
Oldalképek
Tartalom