194646. lajstromszámú szabadalom • Eljárás elektronemissziós izzókatód előállítására
m) Hu SZABADALMI '”194 646 MAGYAR $ NÉPKÖZTÁRSASÁG LEÍRÁS ORSZÁGOS TALÁLMÁNYI HIVATAL A bejelentés napja: (22) 82. 12. 06. (21 ) (3910/82) (33) (32) ' (31) A bejelentés elsőbbsége: DE 81.12.08. (P 31 48 441.7) A közzététel napja: (41) (42) 84. 04. 30. Megjelent: (45) 88. 08. 10. Nemzetközi osztályjelzet: (51)NSZ04 H 01 J-1/14; HÖ1 J-l/16 Feltalálóik): (72) Frank Berthold, Gaertner Georg, Aachen, Lydtin Hans, Stolberg, DE Szabadalmas: (73) N. V. Philips’ Gloeilampenfabrieken, Eindhoven, NL (54) ELJÁRÁS ELEKTRONEMISSZIÓS IZZÓKATÓD ELŐÁLLÍTÁSÁRA i . (57) KIVONAT A találmány tárgya eljárás többrétegű izzókatód előállítására, amelynek az alsó volfrám alapú hordozó rétegekre lecsapott magas olvadáspontú fémből, azaz volfrámból, tóriumból, réniumból vagy ritkaföldfémből álló, előnyösen orientált polikristályos bevonórétege van, oly módon, hogy a) a kívánt katódgeometriának megfelelően kiképzett grafit, molibdén vagy nikkel szubsztrátumon a, ß, y rétegrendszert alakítanak ki gázfázisból reaktív lecsapással, CVD-eljárások, pirolízis, katódporlasztás, vákuumgőzölés vagy plazmaporlasztás útján, és előnyösen a rétegek lecsapása során vagy azt követően redukálnak, ahol a egy 30-300 pm vastagságú volfrám hordozóréteg, amelyet CVD eljárással volfrám-fluoridból állítanak elő oly módon, hogy a CVD-réteg növekedését vagy a szubsztrátumnak szobahőmérsékletre történő ismételt lehűtésével megszakítják és újbóli felfűtéssel újra beindítják vagy a szubsztrátum hőmérsékletét 300-700 °C közötti tartományban periodikusan változtatva időről időre megszakítják, és adott esetben rendkívül vékony, a W tömegére vonatkoztatva 0,5-2 t% krisztallitnövekedést gátló tórium-oxk^ cirkónium-oxid vagy szkandiumoxid közbenső rétegeket csapnak le illékony Th-, Zr- vagy Se- vegyületekből külön vagy a volfrámmal egyidejűleg, ß a katód üzemelése közben tároló és készletező övezetként működő, 20-60 pm vastagságú réteg vagy rétegsorozat, amely volfrám, vas, rénium alapanyagból és elektronemittáló anyagkészletből áll, ahol az elektronemittáló anyagot, amelyet a szkandium csoportból (szkandium, ittrium, lantán, aktinium, lantanidák, aktinidák) választanak ki, az alapanyaggal együtt vagy azzal váltakozva csapják le fém, oxid, borid és/vagy karbid alakjában és Y 2-20 pm vastagságú, volfrám vagy rénium alapanyagból álló, előnyösen orientált, polikristályos bevonóréteg, amely egyidejűleg lecsapott, a bevonórétegben nem oldódó, textúra stabilizáló tórium-oxid adalékanyagot tartalmaz 1 -3 t%-ban és az előnyös orientációt a reakcióban résztvevő gázok áramlási sebességének és/vagy a szubsztrátum hőmérsékletének a megválasztásával állítják be, b) a szubsztrátumot eltávolítják és c) a hordozóréteget a fűtés számára csatlakozókkal látják el.
