193170. lajstromszámú szabadalom • Kétrétegű fotolitográfos eljárás
(19) HL MAGYAR NÉPKÖZTÁRSASÁG SZABADALMI LEÍRÁS (22) A bejelentés napja: 83.06.29. (21) 2345/83 (41) (42) A közzététel napja: 1985.03.28. (11) 193170 3, (51 ) Int. Cl« H 05 K — 3/06 H 01 L — 2 r/312 (45) Megjelent: 1988.07.25. B ORSZÁGOS TALÁLMÁNYI HIVATAL „ s Találmány ^ . Szabadalmi Tár. ' ^ JpLAJDONA (72) Feltalálók: BAKA Károlyné, 70%, SZ.ENTIVÄNYI Istvánné, 30%, Budapest (73) Szabadalmas: MTA Központi Fizikai Kutató Intézete, Budapest (54) KÉTRÉTEGŰ FOTOLITOGRÁFIÁS ELJÁRÁS (57) A találmány szerinti kétrétegű fotolitográfiás eljárás elsősorban integrált áramköri mintázatok kialakítására alkalmas egy félvezető hordozón létrehozott vékonyréteg felületen. A felületre tisztítás és dehidratálás után egy első fotolakk réteget visznek fel, ezt a fotolakk fényérzékeny komponensének bomlási hőmérséklete alatti hőfokon hőkezelik, ezután a teljes felületet megvilágítják, majd KIVONAT a fényérzékeny komponens bomlási hőmérséklete feletti, de a fényérzékeny komponens fotokémiai reakciója során keletkezett termék bomlási hőmérséklete alatti hőmérsékleten hőkezelnek, továbbá ismert módon felviszik, hőkezelik és a mintázatnak megfelelően megvilágítják a második fotolakk réteget, majd a mintázatot mindkét fotolakk réteg együttes kioldásával hívják elő.
