188635. lajstromszámú szabadalom • Berendezés plamzmatronnal történő reaktív rétegfelhordásra

3 188 635 4 mértékű felmelegedése jelentkezik. A találmány szerinti berendezés hatásmechanizmusa külön­bözik az ionok által elősegített vákuumos réteg­felhordástól is, ahol a réteg befolyásolását pozi­tív töltéshordozók viszonylag kis áramával 5 igyekeznek elérni. A találmányt részletesebben a csatolt rajz alapján ismertetjük, amelynek egyetlen ábrája egy találmány szerinti berendezés (rétegfelhor­dási kamra) metszetét tünteti fel. 10 Amint az az ábrán látható, az 1 rétegfelhor­dási kamrában 2 porlasztóforrás (plazmatron) van elrendezve. Az 1 rétegfelhordási kamra fa­lában szabályzószeleppel ellátott 3 gázbevezetés van kialakítva, amelyen keresztül a reakció- 15 gázt, például 60% argont tartalmazó metánt vezetünk be, mintegy 0,3 Pa nyomásig. A 4 egyenáramú generátorral felszerelt 2 porlasztó­­forrás titánból készült 5 céltárgy (target) por­lasztására szolgál. A 6 bevonandó tárgyak fém- 20 bői készült, tálcaként kialakított 7 tartóelemen vannak rögzítve, amely a rétegfelhordás alatt a nyilak irányában ide-oda mozgatható. A 7 tar­tóelem földelve van. A 6 bevonandó tárgyak és a 2 porlasztóforrás közötti 8 rétegfelhordási te- 25 ret a berendezés többi részétől elszigetelten el­rendezett, elektromosan vezető 9 fal veszi kö­rül. A 9 falban, a 6 bevonandó tárgyak tarto­mányában kialakított 10 nyílás nagysága és alakja megegyezik az 5 céltárgyéval. A bérén- 30 dezés 11 feszültségforrásának polaritása úgy van kialakítva, hogy pozitív pólusa földelve van, negatív pólusa pedig a 9 fallal van össze­kötve. Ily módon a 6 bevonandó tárgyak és a 9 fal között potenciál-különbség jelentkezik, a 35 6 bevonandó tárgyak pozitív polaritásával. A potenciál-különbség a 11 feszültségforrás se­gítségével 12 V-ra van beállítva. A 9 fal 10 nyí­lása 200 cm2-rel úgy van méretezve, hogy a 2 porlasztóforrás 2 kW teljesítménye esetén a ne- 40 gatív töltéshordozók közepes áramsűrűsége a 6 bevonandó tárgyakon a rétegfelhordás idején 2 • 10“3 A/cm2 értéket mutat. Ily módon a 6 be­vonandó tárgyakon titánkarbid-réteg konden­zálódik, nagy hatásfokkal. Szabadalmi igénypontok 1. Berendezés plazmatronnal történő reaktív rétegfelhordásra, amely berendezés plazmatron poriasz,tóforrásból, vele szemben, előnyösen mozgatható módon elrendezett bevonandó tár­gyakból, valamint gázbevezetésből áll, azzal j ellemezve, hogy a plazmatron porlasztó­forrás (2) és a bevonandó tárgyak (6) közötti rétegfelhordási tér (8) elektromosan vezető, el­szigetelten elrendezett fallal (9) van körülvéve, amelynek a bevonandó tárgyak (6) tartományá­ban a plazmatron porlasztóforrás (2) céltárgy­felületének legfeljebb háromszorosát kitevő nyí­lása (10) van, hogy a fal (9) és a bevonandó tárgyak (6), illetve azok a tartóelemei (7) között legalább 5 voltos potenciál-különbség van be­állítva, hogy a bevonandó tárgyak (6) falhoz (9) képesti polaritása pozitív, és hogy a fal (9) nyílása (10) a bevonandó tárgyak (6) tartomá­nyában olyan kicsi, hogy a negatív töltéshor­dozók átlagos áramsűrűsége a bevonandó tár­gyakon (6) több mint 5 • 10“3 A/cm2. 2. Az 1. igénypont szerinti berendezés kivi­teli alakja, azzal jellemezve, hogy a be­vonandó tárgyak (6), ill. azok tartóelemei (7) földelve vannak, míg a fal (9) egy feszültség­­forrás (11) negatív pólusára van csatlakoztatva, amely feszültségforrás (11) pozitív pólusa föl­delve van. 3. Az 1. igénypont szerinti berendezés kiviteli alakja, azzal jellemezve, hogy a fal (9) földelve van, míg a bevonandó tárgyak (6) ill. azok tartóelemei (7) egy feszültségforrás (11) pozitív pólusára vannak csatlakoztatva, amely feszültségforrás (11) negatív pólusa földelve van. 1 db rajz Kiadja az Országos Találmányi Hivatal A kiadásért felel : Himer Zoltán osztályvezető Megjelent: a Műszaki Könyvkiadó gondozásában 87-2700 Pécsi Szikra Nyomda - F. v. : Farkas Gábor

Next

/
Oldalképek
Tartalom