188519. lajstromszámú szabadalom • Nagy reflexiójú interferenciatükör több spektrumsávra
1 188 519 2 a következők voltak: az üveglap törésmutatója nç = = 1,52; alacsony törésmutatójú részekként szilíciumdioxid (Si02) réteg, amely az N0 réteget képezte, és amelynek törésmutatója n^ = 1,455. Nagy törésmutatójú rétegként Ti02-réteget (H0) alkalmaztak, amelynek a komplex törésmutatója nn - ikj-i = 2,315 - i • 0,005 (i = V- 1), amellyel az abszorpciós index kn = 0,005. A kft abszorpciós index, amely az alacsony törésmutatójú szilíciumdioxid rétegnek az abszorpciós indexe, a gyakorlati tapasztalatok alapján elhanyagolható. A X0/4 rétegekre a X0 = 520 nm, így a W0 rétegcsoportból felépített és a közöttük Kn és Kj[ elhelyezett csatolórétegeknél három reílexiósáv adódik, amelyet a már előbb említett képlet alapján számíthatunk ki, vagyis kiszámolhatjuk Xj, X2, X3 értékét, amelyekre Xj =693 nm, X2 = 416 nm, X3 = X0 = 520 nm adódik. Az 1. ábrán a folytonos vonal az R spektrális reflexiós görbét mutatja, míg szaggatott vonallal T transzmissziós görbe van ábrázolva, és a görbék közötti sraffozott terület az abszorpciós veszteség mértékére jellemző. A reflexiós veszteségek az egyes rcflcxiósságú sávokban munkatartományban csak 1-3 %, és az értékük csak körülbelül 2-5- szöröse annak, ami egyetlen X0/4 titándioxid réteg esetében. 2. példa Az 1. példánál bemutatott leírás alapján a 2. példánkban az interferencia tükör rétegelrendezése a következő: G/w0KnW0KnW0KnW0K^W0, ahol az egyes rétegcsoportoknál w0 H0N0H0 rétegekből van kiképezve, és a W0 rétegcsoport pedig H0N0H0N0 rétegekből áll. \ Kn csatolórétegek ebben az esetben 5xN0 rétegből vannak kiképezve, vagyis a csatolórétegeknek az optikai vastagsága 5xX0/4. A G alaptestre ugyanolyan anyagokból képeztük ki a rétegeket gőzöléssel, mint az 1. példánál. A Xoi'4 rétegekre X0 = 520 nm, úgyhogy ugyanúgy három reflexiósáv adódik, amely a már említett képletek alapján számítható, mégpedig Xi = 434 nm, X2 = 650 nm és X3 = X0 = 520 nm. A reflexiós cs transzmissziós tulajdonságait, a fent említett interferenciatükörnek, a 2. ábrán láthatjuk. A straffozott tartományban látható a reflexiós veszteség, amely a reflexiós sávok minimális munkatartományában 1—3%. 3. példa Az 1. példához hasonlóan ennek az interfcrcnciatükörnek is a rétegsorrendjét betűkkel írjuk le, mégpedig: G/W0KNW0KNWoKNW0KNW0KNWo, ahol \V0 = = H0N0H0 és Kn = 2N0. Itt is ugyanazok az anyagparaméterek G-re, N0-ra és H0-ra, mint az 1. példánál. A Xo szintén 520 nm, úgyhogy a fenti elrendezés alapján látható, hogy két reflexióssáv adódik, amely a képletek alapján kiszámítva Xi = 433 nm és \ = 650 nm. A 3. ábrán ugyanúgy, ahogy az előbbiekben, a reflexiós és a transzmisszisós tulajdonságait mutatjuk be az így kialakított interferenciatükörnek. A sraffozott tartomány, amely az R és T görbék között látható, a reflexiós veszteségről ad tájékoztatást, amely 1—2 %. 0 Annak érdekében, hogy a találmány szerinti megoldást egyértelművé tegyük, a 4. ábrán egy, a már ismert interferenciatükörrel létrehozott spektrális reflexiós és transzmissziós görbét mutatunk be. Ebben az esetben két különböző W, és W2 váltakozó rétegekből kialakító tott rétegcsoportot láthatunk, ahol mindkét Wj és W2 rétegcsoport magasszámú rétegekből van kialakítva, és egy G üveg alapra van felvive, ahol a strukturális felépítés képlet G/WjWj, ahol W2 = HjNi ...NjH, = 17 XJ4 rétegeket jelent, és W2 = H2N2...H2N2 = 16 X2/2 réte- 15 geket jelent. A belső, közvetlenül az üvegrétegre felvitt W2 rétegrendszer X2 = 430 nm hullámhosszúságra van beállítva, míg a külső rétegcsoport (Wj ) a Xj = 650 nm-re. Az interferenciatükör előállításánál ugyanazokat a réteganya- 20 gokat alkalmazták ugyanolyan törésmutatóval, mint a találmány szerinti interfercnciatükörnél. Ahogyan ez az 5. ábra sraffozott tartományából is kitűnik, a kis abszorpciós veszteség, amely alatt 1—2 %-ot értünk, és a nagy reflexiós érték csak egy, a X] = 650 nm hullám- 25 hosszúság közvetlen környezeti tartományában található, mivel csak ez a sáv az, amely a fény beesési irányára vonatkoztatva a Wt rétegrél reflektálódik. A második spektrumsáv a X2 = 433 nm hullámhosszúság környékén van, itt azonban a reflexió lényegesen kisebb, mivel en- 30 nek a fénynek a W2 rétegcsoporton történt reflexió után még a felette elhelyezett Wj rétegcsoport sok-sok rétegén is reflektálódnia kell, és ez 10-30 %-os abszorpciós veszteséghez vezet, amely körülbelül tízszerese, mint a találmány szerinti interferencia tüköré. 35 Szabadalmi igénypontok 1. Inlerferenciatükör több spektrumsávra nagy ref- 40 lexióval, amely tükör egy alapból és arra felvitt váltakozó rétegekből kiképzett rétcgcsoportokból áll, ahol a nemfémes optikailag kis veszteséggel kiképzett 2—9 réteg úgy van egymás fölött elhelyezve, hogy a nagy és a kis törésmutatójú rétegek váltakozva vannak elhelyezve, 45 azzal jellemezve, hogy az egymással szomszédos azonos vagy különböző módon kiképzett rétegcsoport között egy vagy több nemfémes csatolóréteg van elhelyezve, és a rétegcsoportok egyes rétegeinek optikai vastagsága a X0 hullámhossznak 1/4 részére van megválasztva, és a 50 nemfémes csatolórétegek vastagsága X0/4-nek egész számú löbbszöröse. 2. Az 1. igénypont szerinti interferenciatükör kiviteli alakja, azzal jellemezve, hogy a szomszédos rétegcsoportok között elhelyezett egy vagy több csatolóréteg opti-55 kai rétegvastagsága X0 /4-nek páros számú többszöröse. 3. Az 1. igénypont szerinti interferenciatükör kiviteli alakja, azzal jellemezve, hogy a szomszédos rétegcsoportok közötti egy vagy több csatolóréteg optikai rétegvastagsága X0/4-nek páratlan számú többszöröse. 4 db ábra 4
