187663. lajstromszámú szabadalom • Eljárás sziliciumfelületek oxidálására
(19) HU MAGYAR NÉPKÖZTÁRSASÁG SZABADALMI LEÍRÁS «11187 663 SZOLGÁLATI TALÁLMÁNY B ORSZÁGOS TALÁLMÁNYI HIVATAL A bejelentés napja: (22) 82. 03. 17. (21) 796/82 A közzététel napja: (41) (42)1984. 04. 30. Megjelent: (45) 1988. 05. 31. Nemzetközi osztályjelzet: (51) NSZ04 H 01 L 21/316 C 23 C 8/10 ^^Találmá^^ Szabadalmi Tár. ' ^olajdon^ Feltalálóik): (72) Szabadalmas: (73) dr. RICHTER Hans, oki. mérnök, 30%, dr. BABANSKAJA Irina, oki. vegyész, 10%, dr. MAI Michael, oki. fizikus, 10%, Berlin, DD, NAGYGYÖRGY Gábor, oki. villamosmérnök, 30%, NAGY László, oki. villamosmérnök, 10%, dr. RAUSCH Henrik, oki. vegyészmérnök, 10%, Budapest Távközlési Kutató Intézet, Budapest t54) ELJÁRÁS SZILÍCIUMFELÜLETEK OXIDÁLÁSÁRA (57) KIVONAT A találmány eljárás szilíciumfelületek oxidálására a Si02 réteg és a Si02-Si fázishatár tisztaságának fokozására és a Si szeletek felületi kristályhiba sűrűségének csökkentésére. A szilícium szeletek oxidálásának műveletét termikus előkezelés és oxidnövesztés műveleti lépésekre bontjuk. A termikus előkezelést Tox> 1273 K (= 1000 °C) műveleti hőmérsékleten végezzük oxigén, nitrogén és szerves klórvegyület tartalmú gázkeverékben, az oxidréteg vastagságát a termikus előkezelés után, az oxidnövesztés-lépésben állítjuk be. A termikus előkezelés és az oxidnövesztés között a találmány szerinti eljárással az oxidálási folyamatot néhány órától több hónapnyi időtartamra meg lehet szakítani. (Ily módon előnyösen lehet félvezető anyagokat félkész termékként gyártani és tárolni.)
