187293. lajstromszámú szabadalom • Előhívó készítmény sugárzásra érzékeny lemezek kezelésére
1 187.293 2 A találmány sugárzásra érzékeny lemezek kezelésére alkalmas, lényegében vizes előhívó készítményre vonatkozik, mely nem-ionos felületaktív anyag vizes oldatát és legfeljebb 9 szénatomos alifás karbonsav sóját foglalja magában, képszerűen exponált, negatív működésű, sugárzásra érzékeny lemezek feldolgozásához. A találmány szerinti készítményt előnyösen litográfiái nyomólezemek kezelésénél alkalmazzuk, A litográfiái nyomólemezek festékre érzékeny víztaszító nyomófelületeket és vízre érzékeny festéktaszító nem-nyomó felületeket foglalnak magukban. A nyomó és nem-nyomó felületek lényegében közös síkban vannak. A nyomás során vizes közeget alkalmazunk. Ez nedvesíti a nem-nyomó felületet, de taszítja a nyomó felületet. Oleofil nyomdafestéket alkalmazunk és ezt felveszik a nyomó felületek, de taszítják a nedves nem-nyomó felületek. A festék ezután a nyomó felületről a nyomandó részre megy át. Ilyen nyomólemezeket szokásosan fotomechanikus úton készítenek. E módszer szerint valamely alkalmas hordozót sugárzásra érzékeny anyaggal vonnak be és a keletkező sugárzásra érzékeny lapot kép-szerűen sugárzás hatásának teszik ki. Ezt úgy végzik, hogy átlátszatlan felületekkel rendelkező átlátszó filmet használnak. A reprodukálni kívánt kép negatív átlátszóságát használják úgynevezett negatív-működésű sugárzásra érzékeny lap besugárzására és pozitív átlátszóságát használják úgynevezett pozitív-működésű sugárzásra érzékeny lap besugárzására. így például a negatív-működésű lapok esetében a negatív átlátszóság világos felületei a képnek felelnek meg, és az ezeken az átlátszó felületeken átmenő sugárzás olyan reakciót idéz elő a suggárzásra érzékeny bevonatban, amely oldhatatlanná teszi a bevonatot a képfelületekben. A sugárzás nem megy át az átlátszatlan felületeken, így az ilyen felületek alatti sugárzásra érzékeny bevonat érintetlen marad. A besugárzott lapot ezután előhívják, oly módon, hogy szelektív módon eltávolítják a bevonat be nem sugárzott, vak felületeit a megfelelő előhívó segítségével, így feltárják a hordozónak a bevonat alatt lévő felületét. Abban az esetben, ha a feltárt felület nem hidrofil, akkor változatlan marad, és a lemez nem-nyomó felületeiként szolgál. Az előhívás után a hordozón maradó, oldhatatlanná tett bevonat a lemez nyomófelületét alkotja. A negatív-működésű lemezekhez általában használt sugárzásra érzékeny anyagok jellegzetes képviselője valamely —CH | CH—CO — szerkezetű csoportokat tartalmazó, fény hatására térhálósítható anyag, például a polivinil-cinnamát. Jóllehet ilyen anyagokon alapuló sugárzásra érzékeny lemezekből kialakított nyomólemezek kielégítőek a nyomás élettartamának szempontjából, így nagy számú megfelelő kópia készíthető velük, és a sugárzásra érzékeny lemezek megfelelő ideig tárolhatók, így elég hosszú ideig raktározhatok megvilágítás és előhívás előtt, mégis ezeknek az anyagoknak az a hátrányuk, hogy nem hívhatók elő vizes közegben, így ebben az esetben lényegéfen erős szerves oldószereken alapuló előhívókat kell használni az előhíváshoz. Az ilyen oldószerek közül a legtöbb mérgező, használatuk kedvezőtlen vagy nehézségek jelentkeznek eltávolításuknál. Ilyen oldószerek például a cikiohexanon, a metoxí-butil-acetát, a 2-metoxi-etil-acetát és a dimetil-formamid. Az egészségi ártalom miatt és a szennyezés veszélyének a kiküszöbölése érdekében a nyomólemezeket gyártó ipar olyan negatív-működésű előérzékenyített lemez készítését kezdte meg, amely nem igényli ezeknek az oldószereknek a használatát, de amely még kielégíti az élettartam és a tárolási idő térin támasztott követelményeket. A problémát részben megoldották azzal, hogy sugárzásra érzékeny anyagként valamely vízoldható diazogyantát, például 4-diazo-difenil-amin-foszfát-formaldehid kondenzációs terméket használtak. Bár az ilyen anyagok alkalmasak annyiból, hogy ezeknél víz használható előhívóként, de a kialakított nyomólemezeknek nem elég jó a nyomási élettartama, kivéve, ha alkalmas kezelést, például lakkerősítést kaptak. A belőlük készült sugárzásra érzékeny lemezeknek nem elég jó a tárolási élettartama sem. Ezeket a nehézségeket azzal küszöbölték ki, hogy szerves oldószerben oldható diazo-gyantákat alkalmaztak, amelyek a 944 276. számú (2 példa), az 1 010 203 (3. példa), az 1 041 463. (2. és 3. példa), az 1 055 079. és az 1 388 038. számú brit, valamint a <>6/6813. számú japán szabadalmi leírásokban vannak leírva. Ilyen szerves oldószerekben oldható diazo-gyanták a fenti hátrány ellenére még feldolgozhatok lényegében vizes előhívóval, például proparolt, szulfonsavat és nem-ionos felületaktív an,/agot tartalmazó vizes oldat alkalmazása mellek. Bizonyos esetekben azonban a nem-besugárzott felületek eltávolításához szükséges n-propanol vagy szulfonsav megtámadja a besugárzott felületeke' és ez a lemez túlhívását okozza. Ezenkívül, bár az n-propanol kedvezőbb -- a fenti szempontok figyelembevételével - mint a fotopolimerizálható anyagokhoz szokásosan hasznájt szerves oldószerek, de igen gyúlékony, gyorsan elpárolog és kellemetlen szagú. Előnye azonban, hogy visszaszorítja a felületaktív anyag habzását és hiánya olyan előhívót eredményez, amely sok habot képez, automatikus előhívó gépben való feldolgozásánál. Meglepő módon azt találtuk, hogy bizonyos alifás karbonsavak sóinak és egy aromos karbonsav sójának egyidejű alkalmazása a lényegében vizes előhívókban jelentős mérvű habzásgátló hatást vált ki A találmány tárgya ennek megfelelően olyan típusú vizes előhívó, amely nem-ionos felületaktív ar yagot is tartalmaz és alkalmas képszerűen exponált negatív működésű sugárzásra érzékeny lemezek feldolgozására, mely készítmény egy nem-ionos felületaktív anyagot és egy alifás karbonsav sóját vizes oldatban tartalmazza és amelyre az jellemző, 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60 2
