185872. lajstromszámú szabadalom • Eljárás szerves folyadékanyagokat és szilíciumtartalmú szilárd anyagokat tartalmazó kompozíciók előállítására
1 185872 2 Oldószereknek a töltőit és töltetlen anyagra kifejtett hatásának meghatározása céljából a C-minía és töltőanyagot nem tartalmazó öntött polimetil-metakrilát lemez felületét kloroformmal megnedvesített ruhával enyhe nyomást alkalmazva többször áítörcljük. A töltőanyagot nem tartalmazó lemez felülete hamarosan duzzadni kezd és ragadóssá válik. Ezzel szemben a töltőanyagot tartalmazó lemez felülete nem károsodik. 14, 24 illetve 33 súly% fíncmelcszlású szilíciumdioxiddal töltött metií-metakrilát lemezek vizsgálataink szerint 5 év után is fokozot kopásállóságot és keménységet mutatnak. Átlátszóságát még a 33% töltőanyagot tartalmazó minta is megtartja. 26. példa A 25. példában ismertetett eljárást négy ízben megismételjük. Diszpergálószerként mindegyik kísérletnél DEHPA és Armeen Al8 kombinációját alkalmazzuk, 100 súlyrész szilíciumdioxidra vonatkoztatva 4,8 súlyrész mennyiségben. A sav-bázis mólarány az egyes kísérleteknél a következő: 0,5:1, 4:1, 15:1 és i00:l. Szabadalmi igényponton 1. Eljárás öntésre vagy formázásra felhasználható kompozíció előállítására 10 pm-nál kisebb részecske nagyságú, adott esetben szilánnal kezelt szilíciumdioxid akrilátban, metakrilátban, vinil-uretánban vagy valamely poliamid vagy políuretán készítésére felhasználható prekurzor kompozícióban, mint folyékony vagy elfolyósítható, adott esetben katalizátor ellentétében polimerizálható szerves közegben történő diszpergálásának útján, azzal jellemezve, hogy a szilíciumdioxid részecskéket a polimerizálható közegben valamely (I) általános képletű foszforsav-származék — mely képletben Rj jelentése 6—22 szénatomos aikilcsoport vagy 200-nál nagyobb — előnyösen 500 és 10 000 közötti — molekulasúlyú hidroxl-alkil-poli-(oxialkilén)- vagy karboxi-alkil-poii) oxikarbcnilalkilén)-csoport és R2 jelentése az R szubsztituensnél megadott csoport vagy hidrogénatom vagy 1—5 szénatomos alkilcsoport — és valamely (II) általános képletű szerves bázikus nitrogén-vegyület — mely képletben Zj az Rí szubsztituensnél meghatározott csoportot jelent és Z2 és Z3 azonos vagy különböző lehet és jelentésük az R2 szubsztituensnél meghatározott csoport — keverékét tartalmazó diszpergálószer segítségévei diszpergáljuk és az (I) általános képletű savas vegyület és a (íl) általános képletű bázikus vegyület mólaránya 0,5:1 és 100:1 közötti érték. (Elsőbbség; 1979. január 5.) 2. az igénypont szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogyhogy szilíciumtartamú szemcsés szilárd anyagként szilíciumdioxidot alkalmazunk. (Elsőbbség: 1979. januáí 5.) 3. A 2. igénypont szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy szilíciumdioxidkéní koüoidális szilíciumdioxidot alkalmazunk. (Elsőbbség: 1979 január 5.) 4. Az í—3. igénypontok bármelyike szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy folyékony vagy elfolyósítható szerves közegként akrilát vagy metakrilát monomert alkalmazunk. (Elsőbbség: 1979 január 5.) 5. Az 1—3. igénypontok bármelyike szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy olyan folyékony vagy elfolyósítható szerves közeget alkalmazunk, amelynek molekulái reakcióképes funkciós csoportokat hordoznak. (Elsőbbség: 1979 január 5.) 6. Az 5. igénypont szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy funkciós csoportként hidroxílcsoportot hordozó szerves közeget alkalmazunk. (Elsőbbség: 1979 január 5.) 7. Az 4. igénypont szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy közegként vagy viniluretárt alkalmazunk. (Elsőbbség: 1979 január 5.) 8. Az 1—7. igénypontok bármelyike szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy olyan (I) általános képletű vegyületet alkalmazunk, amelyben Rí jelentése 8—22 szénatomos alkilcsoport. (Elsőbbség: 1979 január 5.) 9. Az 1—8. igénypontok bármelyike szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy olyan (I) káUaiános képletű vegyületet alkalmazunk, amelyben Rí jelentése polioxietilén- vagy polioxipropilán-lánc. (Elsőbbség: 1979 január 5.) IC. Az 1—9. igénypontok bármelyike szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy olya t (I) általános képletű vegyületet alkalmazunk, amelyben R2 hidrogénatomot vagy az Rí szubsztituenssel azonos csoportot jelent. (Elsőbbség: 1979 január 5.) 11. Az 8—10. igénypontok bármelyike szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy olya t (II) általános képletű vegyületet alkalmazunk, amelyben Zi 8—22 szénatomos alkilcsoportot jelent. (Elsőbbség: 1979 január 5.) 12. Az 8—11. igénypontok bármelyike szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy olyan (íl) általános képletű vegyületet alkalmazunk, apte.yben Zo és/vagy Z3 hidrogénatomot vagy 1—5 szénatomos alkilcsoportot jelent. (Elsőbb-ég: 1979 január 5.) 13. Az 1. igénypont szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy az (I) általános képletű vegyületet és a (II) általános képletű vegyületet 1:1 és 3:1 íözötti mólarányban alkalmazzuk. (Elsőbbség: 1979 január 5.) IÁ Az 1—13. igénypontok bármelyike szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy szilánnal kezelt szilíciumtartalmú anyagot alkalmazunk. (Elsőbbség: 1979 január 5.) 15. A 14. igénypont szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy szilánként polimerizációképes csoportokat hordozó sziláin alkalmazunk. (Elsőbbség: 1979 január 5.) 16. A 14. vagy 15. igénypont szerinti eljárás foganatosítási módja azzal jellemezve, hogy 5—90 súly% szilíciumtartalmú sziücíumdioxidot alkalmazunk. (Elsőbbség: 1979 január 4.) 17. A ló. igénypont szerinti eljárás foganatosítási mól ja, azzal jellemezve, hogy 1 pm-nél kisebb átlagos szemcseméretű szilíciumdioxid-részecskéket alkalmazunk. (Elsőbbség: 1S79 január 5.) .. 5 iO 15 20 25 30 35 40 45 50 55 50 65
