184167. lajstromszámú szabadalom • Eljárás ionimplantáció berendezések víszintes és függőleges eltérítő feszültségei frekvenciáinak előállítására
SZABADALMI LEÍRÁS SZOLGÁLATI TALÁLMÁNY MAGYAR NÉPKÖZTÁRSASÁG ORSZÁGOS TALÁLMÁNYI HIVATAL ’184 167 Nemzetközi osztályjelzet: (51)NSZO3 -HOI J 37/302; H01 L 21/425 A bejelentés napja: (22) 79. 04. 07. (21 ) MA-3128 A közzététel napja: (41) (42) 83. 09. 28. Megjelent: (45) 86. J 1. 10. Feltaláló(k): (72) PÁSZTOR Endre, tud. munkatárs, 50%, KIRÂLYHIDI László, tud. munkatárs, 25%, R1EDL Péter, villamosmérnök, 25%, Budapest Szabadalmas: (73) MTA Központi Fizikai Kutató Intézete, Budapest (54) ELJÁRÁS IONIMPLANTALO BERENDEZÉSEK VÍZSZINTES ÉS FÜGGŐLEGES ELTÉRÍTŐ FESZÜLTSÉGEI FREKVENCIAINAK ELŐÁLLÍTÁSÁRA (57) KIVONAT A találmány tárgya eljárás ionimplantáló berendezések vízszintes és függőleges eltérítő feszültségei frekvenciáinak előállítására. A találmány szerinti eljárás lényege, hogy a vízszintes és függőleges eltérítő feszültségek vezérlésére szolgáló jeleket egy közös oszcillátorral előállítjuk és egy frekvenciaosztó áramkör segítségével a vízszintes és függőleges eltérítő feszültségek frekvenciaviszonyát két végtelen nem szakaszos tizedes törtet alkotó prímszám hányadosaként képezzük-A találmány szerinti eljárás előnye, hogy az ionnyaláb egyes átfutásai az implantálandó szelet más-más helyére esnek és ezzel biztosítható viszonylag alacsony eltérítő frekvenciák esetén is az adalékanyag homogén eloszlása, ’a tápfeszültség, hőmérséklet stb. változásától függetlenül a megválasztott frekvenciaviszony szigorúan állandó értéken tartható, ezáltal biztosítható a különböző időpontokban végzett íonimplantálás homogenitásának azonossága, A találmány szerinti eljárás előnyösen alkalmazható ionimplantáló berendezésekben, például integrált áramköri eszközök előállításánál.
