183882. lajstromszámú szabadalom • Analitikai feltét preparatív ultracentrifugához
1 183 882 2 a rést (R) és a cellát leképző, adott gyújtótávolságú leképző elemeket (F2, F3), melyek egyrészt a rés (R) képét fázislemez (Ph) síkjára, másrészt a cella középpontját a film síkjára hengerlencsén (Fh) keresztül képezik le, ezenfelül az optimális helykihasználást biztosító 5 fényeltérítő elemeket (T1, T2 .. . Tn), és a film síkjához kapcsolhaióan fotó- és/vagy elektronikus kiértékelő rendszert, azzal jellemezve, hogy az optikai rendszer elemei közül két leképző elem (Fj, F2), és az eltérítő elemek közül k darab (k = 1, 2, . . .) a cellát tartalmazó ^ vákuumkamrára, a fényforrás (L), a kondenzor rendszer (Kj, K2), a rés (R), a további leképző elemek (F3, Fh), a fennmaradó fényeltérítő elemek (Tj, T2 . . . Tn), a fázislemez (Ph), továbbá a fotó- és/vagy elektronikus kiértékelő egy, a berendezéshez három közös ponton •] 5 csatlakozó, önálló mechanikai egységet képező tartóra vannak felszerelve. 2. Az 1. igénypont szerinti analitikai feltét kiviteli alakja, azzal jellemezve, hogy a cellát párhuzamos fénnyel megvilágító leképző elem (F2), és a rés (R) 20 3 db á képét a fázislemezre (Ph) leképző elem (F2) a vákuum záróan van kialakítva. 3. Az 1. igénypont szerinti analitikai feltét kiviteli alakja, azzal jellemezve, hogy a fényeltérítő elemek (13,12... Tn) és/vagy a leképző elemek (F3, F2, F3, Fh) legalább egy felületén abszorpció mentes, a fényforrás (L) valamely hullámhosszára ( X0 ) 99,5 %-nál magasabb reflexiót biztosító dielektrikum rétegrendszer van. 4. A 3. igénypont szerinti analitikai feltét kiviteli alakja, azzal jellemezve, hogy az alkalmazott dielektrikum rétegrendszer a fényforrás valamely hullámhosszára (X0 ) egyben interferencia szűrő is. 5. Az 1. 3. igénypontok bármelyike szerinti analitikai feltét kiviteli alakja, azzal jellemezve, hogy van a leképző elemek (Fj, F2, F3, Fh) és/vagy az eltérítő elemek (Tj, T2 . . . Tn) között legalább egy-egy olyan, melynek legalább egy-egy felületén kialakított dielektrikum rétegrendszer áteresztési ill. reflexiós eloszlásának hullámhossz függése a fényforrás (L) valamely hullámhosszára ( A0) egymásnak tükörképei. Felelős kiadó: Himmei Zoltán osztályvezető Megjelent a Műszaki Könyvkiadó gondozásában Széchenyi Nyomda Győr 86 3
