183247. lajstromszámú szabadalom • Eljárás ólom-szulfid alapú infravörös detektor előállítására kémiai leválasztással

1

183 247

2

Példa

adalék

Na2Se03.5H20

Ellenállás R Kohm

Érzékenység S VAV max

Válaszidő r /as

Spektrális érzékenységi maximum /rm max

1.

0,6 g

2500-5000

2-6X105

200-600

1,6

2.

0,1 g

200-600

2-8X104

60-100

2,7

3.

0,3 g

1500-2500

1-4X105

150-300

2,0

4.

0,15 g

1000-1500

1-3X105

100-200

2,3

5.

0,12 g

600-1200

1-2X 105

80-120

2,5

6.

0,08 g

K2S03.5H20

800-1200

1-2X105

100-150

2,3

azonos módon, az I—V. pontokban leírtak szerint történik.

Az első példa szerint nagy ellenállású, fokozottan 20 érzékeny, a második példa szerint kis ellenállású, gyors fotoellenállás készíthető.

A leválasztási paraméterek folyamatos módosításával, a megadott első két példa közötti tartományban, a fotoellenállások jellemzői (ellenállás, válaszidő) beállíthatók. 25

Szabadalmi igénypontok

1. Eljárás ólom-szulfid alapú infravörös detektor elő- 30 állítására oly módon, hogy 0,02-0,06 mól/dm3 ólomacetátot, 0,07—0,28 mól/dm3 tiokarbamidot, 0,2—

0,66 mól/dm3 nátriumhidroxidot, valamint fotoérzékenyítő adalékanyagot tartalmazó vizes oldatból ólomszulfid réteget választunk le szigetelő hordozóra, amelyet vizes mosás és hőkezelés után kontaktusokkal és kivezetésekkel látunk el, azzal jellemezve, hogy a leválasztáshoz fotoérzékenyítő adalékként 2.10 4—2.10"2 mól/ dm3 alkáli szelenitet használunk.

2. Az 1. igénypont szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy adalékanyagként nátriumszelenitet használunk 2.10’4 —2.10’2 mól/dm3 koncentrációban.

3. Az 1. igénypont szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy adalékanyagként káliumszelenitet használunk 2.10'4 — 2.10"3 mól/dm3 koncentrációban.

1 db ábra

Kiadja az Országos Találmányi Hivatal A kiadásért felel: Himer Zoltán osztályvezető Megjelent: a Műszaki Könyvkiadó gondozásában

COPYLUX Nyomdaipari cs Sokszorosító Kisszövetkezet

3