181155. lajstromszámú szabadalom • Eljárás aluminiumötvözetből készült litográfiai lemezek előállítására
181155 6 1. Táblázat 5 Szakítószilárdság (N/mm2) 0.2% tömítő szilárdság (Nimm2 ) Nyúlás % 1% Ca 179 160 6.5 3% Ca 222 173 6.0 4,5% Ca 262 192 4.0 1% Ca 1% Zn 180 159 7.0 3% Ca 1% Zn 222 175 7.0 1% Ca 1.5% Mn 239 210 5.0 Ily módon, ha kis mennyiségű Ca-t adunk normál tisztaságú Al-hez. olyan ötvözetet kapunk, amelyben a Ca finoman eloszlik fémközötti részecskék alakjában és megfelelő alkalikus oldatban történő maratásnál ezek a részecskék fmomeloszlású gödröcskék képződését segítik elő. így litográfiái használatra alkalmas szemcsésített felület keletkezik. Azt találtuk, hogy Mn hozzáadása a biner ötvözethez olyan szerkezetet alakít ki. amelyben a gödröcskék mélyebbek lesznek ugyanolyan maratás esetén és ezen túlmenően a gödröcskék belső felülete mikro-érdessé válik. E jelenség okát nem tudjuk megadni. Mn hozzáadása tehát javítja a lemez szilárdsági jellemzőit. A 2. táblázatban az átlagos és a legnagyobb gödröcskemélységeket adjuk meg számos — a találmány szerinti eljárással — szemcsésített ötvözetre és összehasonlításul feltüntetjük egy kereskedelmi forgalomban levő. elektrolitikusan maratott lemez megfelelő adatait. 2. Táblázat Ötvözet Marás Átlagos Legnagyobb gödröcskemélység Kereskedelmi Elektrolitolemez litikus 2.5 pm 7,0 pm (7a. 7b. ábra) (HC1) 99.6% tisztaságú Al Al—1% Ca Kémiai (2a. 2b. ábra) (NaOH) 0.4 /jm 3-3.5 pm Al-1% Ca 1% Zn Kémiai (la. lb. ábra) (NaOH) 0.5 pm 3-3.5 pm Al—4.5% Ca Kémiai (3a. 3b. ábra) (NaOH) 1.0 /am 4—4.5 pm Al-1.0% Ca Kémiai-1.5% Mn (NaOH) 1.0 /am 3.0 pm BA 3003 Kémiai (4a. 4b. ábra) (NaOH) 1.4 pm 4.5 pm BA 3003 Kémiai (5a. 5b. ábra) (NaOH+ +NaN02) 1.6 /am 5.5 pm BA 1260 Kémiai (6a. 6b. ábra) (NaOH) 3.5 pm 7.5 pm A gödröcskemélységek eloszlása (l i-7a. ábrák) Ezeket a grafikonokat egy Talysurf profilomé tér adatai alapján készítettük és számítógéppel számítottuk. Ezek a grafikonok a gödröcskemélységet mutatják (vízszintes tengely) adott mélységű gödröcskék számához viszonyítva (függőleges tengely). Fe'ületi profilok (lb—7b. ábrák) Ezek korrigált profilok (nagy hullámzások kiigazítása érdekében a hengerelt felületen), amelyek a gödröcskék finomságát és sűrűségét mutatják. Függőleges nagyítás 2000-szeres. vízszintes nagyítás 100-szoros. Egy jóminőségű finoman szemcsésített lemez tehát szűk mélységtartományú gödröcskékkel rendelkezik kis átlagmélységű gödröcskék körül, ahogy az la., lb.. 2a., és 2b. ábrák mutatják. A bemutatott kereskedelmi lemezfelület (7a.. 7b. ábiák) egy durvaszemcsézetű lap. amely sósavban való elektrolitikus maratással készült. A 8. ábra egy vázlatos maratási diagram, amelyet a következő ötvözetek alkalikus oldattal való maratási után kaptunk: a) Ai— 1% Ca ötvözet b) Al— 1% Ca—1.5% Mn ötvözet viszonylag mélyebb gödröcskéket mutat, mint a c) AI—1 % Ca—1.5% Mn ötvözet megnagyobbodott gödröcskét mutat mikroérdes finom gödröcskékkel. amelyek átlagmélysége közelítőleg 0,1 pm és legnagyobb mélysége közelítőleg 0.3 pm. \zt találtuk, hogy Fe. Si vagy Cu bevitele növeli a lemez szilárdságát, de durvább szemcsézetű lapot eredményez, míg Mn bevitele egyaránt növeli a szilárdságot és javítja a szemcsefinomságot. Magától értetődik természetesen, hogy a fenti ötvözetekből készített lemezek elektrolitikusan is sze ncsésíthetők. Szabadalmi igénypontok: 1. Eljárás litográfiái lemezek készítésére, azzal jellemezve, hogy valamely 0.1 -4,5% Ca-t. a fennmaradó részben pedig normál szennyezőket magában foglaló alumíniumot tartalmazó ötvözetből készült lemez legalább egyik oldalát alkalikusan maratjuk mindaddig, ameddig egy sűrű. lényegében egyenletes eloszlású. 0.2 pm és 3.0 pm közötti átlagos mélységű gödröcskékkel rendelkező felület nem képződik a maiatott oldalon. 2. Az 1. igénypont szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy olyan ötvözetet maratunk. amely legfeljebb 2.0% Mn-t tartalmaz. 3. Az 1. vagy 2. igénypont szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy olyan ötvözetet maratunk, amely legfeljebb 6.0%- Zn-t tartalmaz. 4. Az előző igénypontok bármelyike szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy 3 5 10 15 20 25 30 35 4C 45 50 55 60 65
