176528. lajstromszámú szabadalom • Eljárás és kapcsolási elrendezés elosztott paraméterű csillapítók trimmelés közben történő bemeneti, kimeneti reflexiójának és csillapításának egyidejű mérésére
3 176528 4 Az eljárás lényege a következő: Az ellenállás felületét elektrolittel érintkezésbe hozzák, majd az ellenállást anódnak kapcsolva, elektrolitikus oxidációt hoznak létre. Ennek hatására az ellenállás felületén kellő mélységben Ta20ő réteget lehet kialakítani. Az így kialakított oxid réteg növeli az ellenállás négyzetes ellenállás értékét. A hivatkozott irodalmak, más helyén termikus oxidációs eljárásra utalnak. Az eljárás alapja a termikus, azaz hőkezeléses oxidációval beállított rétegvastagság, illetve az ellenállásréteg négyzetes ellenállásának a beállítása. Az utóbbi eljárással lényegesen kisebb határok között lehet az utólagos érték beállítását elvégezni. Az ismert trimmelési eljárásokra jellemző, hogy trimmelés közben folyamatosan mérik az ellenállás értékét, majd a kívánt eredmény elérése után a trimmelési folyamatot automatikusan leállítják. A csak ellenállásmérésből, közismerten több hiba származik. Nem küszöböli ki a geometriai pontatlanságból származó paraméter irigádozásokat. Ismeretes az a törekvés, hogy a gyártók a kész csillapítók ellenállásait mérik és az érték beállítását az ellenállásréteg felületének egyenletes vékonyításával végzik. Az egyenletes vékonyítás-trimmelés nem tartható megbízhatóan kézben és emiatt egyenetlen felületek jönnek létrfe. Ezen egyenetlertségek jelentősen befolyásolják a ki- és bemeneti reflexiót és a csillapítást. Az így előállított áramköröket ezután már a kívánságnak megfelelően válogatják, csoportosítják. A hivatkozott korszerű eljárásokra jellemző, hogy az ellenállás beállítására kiválóan alkalmasak, de kevésbé az elosztott paraméterű csillapítók névleges paramétereinek ä beállítására. Ennek oka elsősorban az, hogy á geometriai pontatlanságból eredő hibák az ellenállásréteg egyenletes vékonyításával nem hozhatók helyre, továbbá a hiba növeléséhez járul még az is, hogy az oxidációs eljárások sem vékonyítanak egyenletesen. Vizsgálódásaink során a szakirodalomban kifejezetten ezen osztott paraméterű csillapítók értékének a beállítására eljárást nem találtunk. Ismereteink szérint a gyártók részéről az ä jogos igény merült fel, hogy az elosztott paraméterű csillapítók értékeinek a Beállítását egyszerű és gazdaságos módon végezhessék el. Az általunk kidolgozott eljárás ézeh feladatot tűzte ki céljául. Ismeretes, hogy a csillapítók elektfóniküs paraméterei közül a legföntÖSabbak a be- és kimeneti reflexiós tényezők, illetve a névleges csillapítás érték. Az elosztott paraméterű csillápítók gyártása során a körülmények közel azonosak az ellenállások gyártási körülményeivel, ugyanis à geometriai pontosság betartása, valamint a felhordott rétegvastagság és egyenetlenség okozta hibák itt is fennállnak. E hibák kiküszöbölhetők akkor, ha az elosztott paraméterű csillapítót trimmeléssel egyidőben, elektromos végparaméterekre ellenőrizzük. Az eljárás újdonsága az, hogy trimmelés közben az elosztott paraméterű csillapító bemeneti és kimeneti reflexiója, valamint csillapítása egyidejűleg is meghatározható, így mindig kijelölhető, hogy az ellenálásréteget helyileg hol kell vékonyítani a kívánt jellemző beállításához. Az általunk kidolgozott eljárás lényege, hogy a trimmelendő elosztott paraméterű csillapító be- és kimenetét hullámimpedanciával lezárjuk, a bemeneti reflexió mérését fi frekvencián, a kimeneti reflexió mérését fi frekvencián, a csillapítást pedig fi vagy Í2 frekvencián egyidejűleg mérjük. Az egyidejű mérés elegendő információt nyújt a trimmelési végzőnek, hogy a kívánt paraméter beállításához elsősorban az azt befolyásoló réteget vékonyítsa. Az fi és f2 különböző frekvencia alkalmazása azt eredményezi, hogy az egyes paraméterek mérése egymástól független és a mérések egyidőben történhetnek úgy, hogy a trimmelés által keltett zavaró jelek nem befolyásolják a mérés hitelességét. Vagyis más szavakkal, a trimmelés éredménye közvetlenül és azonnal leolvasható. Az eljárást megvalósító kapcsolási elrendezést a 2. ábrával mutatjuk be. Az ábrán az 1 fi frekvenciájú gérterátort, a 2 fi frekvencián előjelhelyes reflexiómértő, a 3 elosztott paraméterű csillapítót, 4 Í2 frekvencián előjelhelyes reflexiómérőt, 5 Í2 frekvenciájú generátort, a szelektív csillapításmérőt jelent. Az ábrában bemutatott kapcsolási elrendezésben az 1 fi frekvenciájú generátor a 2 fi frekvencián előjelhelyes reflexiómérőn keresztül a 3 elosztott paraméterű csillapító bemenetére áz 5 fa fhékvénciájú generátor a 4 fz frekvencián előjelhelyes reflexiómérőn keresztül pèdig a 3 elosztott paraméterű csillapító kimenetére van kötve âz ugÿahëzen elosztott paraméterű csillapító be- és kimenete közé 6 szèlëktiv csillapításmérő ván közbeiktatva. A találmány legfőbb előnyé, hogy az elosztott paraméterű csillapítók gyártásából ádódó geóihétüai pontatlanság, rétegvastagság és felületi egyenetlenség ellenére áz alkalmazott műszerek pontossági határával egyező pontosságú paraméterek állíthatók be. A trimmelés közben annak eredménye fdlyámatoáart és közvetlenül olvasható le. ToVábbi előny Származik abból, hogy az általunk javasolt eljárás kiterjeszthető még nikel-kröm és vastágréteg technikára is. Szabadalmi igénypontok: 1. Eljárás hullámimpedanciával lezárt elosztott paraméterű csillapítók trinimélés közben történő előjelhelyes bemeneti és kimeneti refleXiőjáíiak valamint csillapításának mérésére azzál jellemezve, hogy a trinmielertdő elosztott paraméterű fcsülápítő Be- és kimérietét huUáiidiínpédatttáával leitárjuk, a be- és kimeneti impedanciáját, Valá-5 10 15 20 25 30 35 40 45 5Ö 55 60 65 2
