175322. lajstromszámú szabadalom • Eljárás amplitudómaszk, struktúrával rendelkező fázismaszk előállítására
175322 4 3 struktúrával rendelkeznek, azonos az optikai késleltetés. Optikai késleltetőrétegként ceroxidot alkalmazunk. A találmány szerinti megoldásunk segítségével egy tartón elhelyezett fázis- és amplitúdómaszkstruktúrát hozunk létre és két struktúra közötti távolság a molekulatávolságok nagyságrendjébe esik. A két struktúra egymáshoz képest történő beállítása és pozicionálása az optikai felépítésen kívül lehetséges. A továbbiakban a találmány tárgyát példakénti kiviteli alak kapcsán rajz alapján ismertetjük részletesebben. Az 1. ábra a találmány szerinti eljárás első lépését szemlélteti. A 2. ábra a találmány szerinti eljárás második lépését láttatja. A 3. ábra a találmány szerinti eljárás harmadik lépését szemlélteti. A 4. ábrán a találmány szerinti eljárás negyedik lépése látható. Az 5. ábra a találmány szerinti eljárás ötödik lépését szemlélteti. Az 1. ábrán látható 1 hordozót önmagában ismert fotolitografikus eljárással krómsablonként kiképzett 2 amplitútódmaszkstruktúrával látjuk el. A krómsablonként kiképzett 2 amplitúdómaszkstruktúrát következő lépésben (2. ábra) 3 fotolakkréteggel vonjuk be. A 3. ábrán a 3 fotolakkrétegbe bepréselt fázismaszkstruktúra 4 negatívja látható, amelyet optikai 5 késleltetőréteggel vonunk be (4. ábra). Ezt követően a fázis-1 maszkstruktúra 4 negatívjának lakkját kioldjuk, a lakk feletti optikai 5 késleltetőréteg részeket kitörjük és ily módon a 2 amplitúdómaszkstruktúrán a fázismaszkstruktúra 6 pozitív ja marad 5 vissza. Szabadalmi igénypontok 1. Eljárás amplitúdómaszkstruktúrájú fázis- 10 maszkok fotolitografikus és rápárologtatási eljárásokkal történő előállítására optikai tároló vagy optikai jelfelismerés maszkjai számára, azzal jellemezve, hogy először önmagában ismert fotolitografikus eljárással hordozóra (1) amplitúdó-15 maszkstruktúra a negatívját (4) pontosan pozícionálva az amplitúdómaszkstruktúrára (2) felvitt fotolakkrétegbe (3) bepréseljük, majd a fázismaszkstruktúra negatívját (4) meghatározott vastagságú optikai késleltetőréteggel (5) bevon- 20 juk és a fázismaszkstruktúra pozitívj át (6) a negatív (4) lakkjának kioldásával állítjuk elő. 2. Az 1. igénypont szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy az amplitúdómaszkstruktúrát (2) krómsablonként képezzük 25 ki. 3. Az 1. igénypont szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy az optikai késleltetőréteget (5) a teljes felületen egyenlő vastagságúra képezzük ki. 30 4. Az 1—3. igénypontok bármelyike szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy az optikai késleltetőrétegként (5) ceroxidot alkalmazunk. :, 5 ábra A kiadásért felel: a Közgazdasági és Jogi Könyvkiadó igazgatója 80.427.66-42• Alföldi Nyomda, Dcfcrcceo —- Felelős vezető: Bcakő Istvdn igazgató 2
