174750. lajstromszámú szabadalom • Eljárás nagy hőállóságú szitamaszk előállítására
7 174750 8 mattal telített dimetilszulfoxid oldatot mérünk. Egy órai állás után a fényérzékenyített oldatot felhordjuk a kifeszített fém szitaszövetre. A réteg abban az esetben is 100 pm vastagságú szitaszöveten 125 fim (lásd 1-es kiviteli példa). A réteget 15 5 percig sűrített levegőáramban szárítjuk (a sűrített levegő olajszennyezést nem tartalmaz, a vezetékbe 2 (im nagyságú Millipore szűrőt iktatunk). Az üveghordozón kialakított, negatív ábrát tartalmazó fotolemezt zselatinos felével a réteghez illesztjük, majd 10 a rögzített fotón keresztül 150W-os Hg-gőz lámpával 30 cm távolságból 5 percig világítjuk, nitrogén atmoszférát alkalmazunk. Dimetilszulfoxid : metanol 1 :2 arányú elegyében 6 percig hívunk elő. Az előhívóból kiemelve a rétegen kontúrvonalakkal 15 tűnik elő az ábra rajzolata, de a megvilágítatlan területeken szintén találunk kissé megduzzadt állapotban poliamidsavat. A megvilágítatlan területekről újabb 6 perces előhívás után sem távolíthat el a poliamidsav. Mechanikus dörzsölés hatására a 20 réteg foltokban eltűnik, de metanolba helyezve az ábrakontúrok mentén 100-150 j/m-es szélességben, valamint a szitaszálakhoz tapadva a szitaszövet lyukait kitöltve, fehéren kicsapódott lakknyomok maradnak. Ilyen módon a kialakított maszk nyom- 25 tatásra alkalmatlan. Oxigénmentes környezetben és a réteg nem teljes vastagságban történő beszárítása esetén a megvilágítatlan részek az exponálást követően az előhívás során nyomtalanul eltávolíthatók a szita- 30 szálakról és így megkapjuk a szitanyomtatási technológiában elfogadott pontosságú ábrát. Az ábraképzés pontosságát elsősorban a fém szitaszövet mesh-száma, illetve lyukmérete szabja meg. Az általunk kidolgozott eljárással készült szita- 35 maszkok számos előnnyel rendelkeznek az eddig ismeretes szitamaszkokhoz képest. Az egyik legfőbb előny, hogy az eljárás során kialakított poliimid maszk az általánosan használt szitafestékeknek és azok oldószereinek igen jól ellenáll, illetve ezeknél jóval agresszívebb oldószerek, pl. hidrogénperoxid, kénsav hatására sem változtatja meg tulajdonságait. További előny, hogy ultraibolya fényre nem érzékeny és így a korábbiakban használatos, bikromáttal fényérzékenyített maszkoló anyagokkal ellentétben fény hatására nem ridegedik. A találmány szerinti kialakított maszk jó flexibilis tulajdonságokkal rendelkezik, mechanikai tulajdonságai, pl. kopásállósága megközelíti a fémszitáét. A kialakított réteg szoros kontaktust alakít ki a szitaszövet szálaival, így élettartama az eddig alkalmazott szitamaszkokét felülmúlja. Tapasztalatunk szerint a maszk az előbbiekben felsorolt tulajdonságait 300 °C-on sem változtatja. Szabadalmi igénypont: Eljárás poliimid réteget tartalmazó nagyhőállóságú szitamaszk előállítására, mely során a fém szitaszövetre egy térfogatrész telített káliumbikromátos dimetilszulfoxid oldattal fényérzékenyített hat-hét térfogatrész 16—13% szárazanyagtartalmú poliamidsav oldatot viszünk fel, majd a felvitt réteget szárítjuk, ultraibolya fénnyel - a kívánt ábrát tartalmazó fotón keresztül — megvilágítjuk, előhívjuk, alkohollal stabilizáljuk, majd hőkezeljük, azzal jellemezve, hogy a fémszitaszövetre 100—130jim vastag poliamidsav réteget viszünk fel, szobahőmérsékleten nagytisztaságú nitrogénáramban szárítjuk, a megszárított réteget nagytisztaságú nitrogén áramban megvilágítjuk, majd 1 :1,5, illetve 1 :2 dimetilszulfoxid : metanol elegyben előhívjuk és az ismert alkoholos stabilizálás után két lépcsőben, egy óra hosszáig 80 °C-on, majd három óra hosszáig 275 °C-on hőkezeljük. 1 rajz A kiadásért felel: a Közgazdasági és Jogi Könyvkiadó igazgatója 804619 — Zrínyi Nyomda, Budapest 4
